化学横向科研参数

化学横向科研参数序号货物名称数量详细配置1旋转圆盘圆环电极测试系统1台一、旋转圆盘电极装置：

*1.转速：50-10000rpm，电机功率0.02马力，采用银碳刷接触连接；2.显示误差为1%；3.控制：分体控制，可拆式结构，方便置入手套箱。具有信号输入/输出接口，可通过输入外部信号（来自电化学工作站）控制转速；可将转速信号输出至测试设备（示波器）或用来控制其它设备；4.防爆：最新防爆设计，保证人身与设备安全；5.旋转杆：长度>150mm适用于各种电解池，方便与其它仪器联用，还有不同型号旋转杆供不同研究使用；*6.旋转玻碳盘电极：5mm的盘直径，最高转速为2500rpm。材质：GC，盘电极直径：5.0mm，电极外径：15mm；*7.盘环电极：外螺纹设计，接触更好，信号传输稳定。有特氟龙与PEEK两种材料，适应不同应用。盘环间隙≤320μm。盘环尺寸精度：0.01mm；8.双接点参比电极：外层溶液为10%KNO3（质量百分比），内层溶液为饱和KCl凝胶；9.铂对电极：铂丝对电极：铂丝纯度99.99%；电极长度~30cm；10.电解池：玻璃电解池和若干密封塞子；11.通气装置：可与旋转杆配合使用，材质应为PEEK；12.标准：欧盟CE认证；13.服务要求：应提供原厂认可的安装、培训服务。

双恒电位仪要求：

1、电源要求:24.0VDC（±5％），4A（低电压直流设备）2、电源适配器：100to240VAC,2.3A,50to60Hz3、环境温度:10℃to40℃4、扫描速率:10μV/secto125V/sec5、电流测试范围：100pAto1.0A6、电压测试范围：:±10.0V,±2.5V7、有8段电位转换:From100nA/Vto1A/V8、输入阻抗:>1013Ωinparallelwith<10pF9、微信号发生器带宽:>11MHz（3dB）10、DAC输出:16bits11、测试方法：包括循环伏安法（CV），方波循环伏安法，脉冲法，以及电池充放电测试等。

12、双工作电极测试技术包括旋转圆盘圆环电极法，微流体产生/采集实验，交叉阵列（IDA）方法，可以在一个容器中同时控制两个工作电极等，同时为每个工作电极提供激励信号并同时测量电流和电位。

13、其应用和测量电位达到±10VDT，电流从±1安培到几个皮安，并支持IR补偿。软件：支持软件控制旋转圆盘电极装置的转速。主机有模拟电压输入/输出接口和同步信号接口，可与其它仪器联用。通过USB接口与电脑连接。

2显微共聚焦拉曼光谱仪1台1.1激光光源1.1.1532nm激发波长，激光器功率不低于50mW。

1.1.2632.8nm激发波长，激光器功率不低于17mW。

1.1.3785nm激发波长，激光器功率不低于280mW（需提供技术证明文件）。

1.1.4要求必须具备用户现场升级紫外及深紫外激发波长功能（需提供技术证明文件）。

1.1.5不同激发波长采用独立的，按波长独立优化的激光入射光路，以保证每个波长均有最优的通光效率，避免互相影响（需提供技术证明文件）。

1.1.6要求必须配置激光扩束器，使得激光光斑尺寸连续可调，并能连续改变到样品上的激光功率密度，以方便信号弱且怕烧样品的检测，并使二维直接成像功能得以实现（需提供技术证明文件）。

1.1.7各波长均使用两片Edge瑞利滤光片和一片用于去除等离子线的干涉滤光片，仪器阻挡激光瑞利散射水平好于1014（需提供技术证明文件）。

检验标准：使用表面抛光的单晶硅做样品，同时观测激光线和硅拉曼峰（520cm-1），位于0cm-1的激光线强度小于硅-520强度的1/120，X50或X100倍物镜，狭缝大小为正常实验状态。

1.2光谱仪1.2.1*为保证仪器的高通光效率和高灵敏度，采用先进的自动聚焦透射式光谱仪，无色差，无像差，光谱仪焦长250mm（需提供技术证明文件）。

1.2.2系统总通光效率大于30%。

1.2.3激光入射光路通光效率大于40%。

1.2.4光谱范围：200nm到1100nm，全光谱范围内支持3种扫描模式，全光谱范围内可快速连续扫描，无接谱。

532nm激发波长，光谱范围：50-9000cm-1632.8nm激发波长，光谱范围：50-6000cm-1785nm激发波长，光谱范围：50-3500cm-11.2.5光谱分辨率：全谱段好于1cm-1，根据需要最高可达0.5cm-1（需提供技术证明文件）。

检验标准：使用氖灯作为信号源，大于等于1800线高分辨光栅，测试17086ABScm-1发光线，其半高全宽小于1cm-1。

1.2.6光谱重复性：≤±0.02cm-1（需提供技术证明文件）。

检验标准：使用表面抛光的单晶硅做样品，采用100×物镜，重复不少于40次。观测硅拉曼峰（520cm-1），520峰中心位置重复性≤±0.02cm-1。

1.2.7不同波长瑞利滤光片需自动切换，采用三点精确定位技术，转台需采用光栅尺反馈控制系统，确保精度和重复性，可调节滤光片角度，优化低波数性能（需提供技术证明文件）。

1.2.8*高分辨率光栅，软件控制自动转换。采用光栅尺反馈控制系统控制光栅的精确定位，重复性好（需提供技术证明文件）。

1.2.9高灵敏度：在高光谱分辨率条件下，硅三阶峰（约在1440cm-1）的信噪比好于25:1，并能观察到四阶峰（需提供技术证明文件）。

检测条件：使用单晶硅片，波长532nm，激光输出功率20mW，狭缝宽度（或针孔）<=50微米，使用大于等于1800线高分辨光栅，积分时间300秒，binning等于1，显微镜头为X100倍。

1.2.10CCD探测器：应使用紫外和近红外同时增强型CCD探测器，在近红外和紫外部分量子效率明显增强，有些部分效率提高2-3倍。1024x256像元，优质芯片，半导体制冷到-70ºC。量子效率：在650nm处>50%，在300nm处>30%，读出噪音（<3-7/e-/pixel），暗噪音（<0.002e-/pixel/s）（需提供技术证明文件）。

1.3智能控制功能1.3.1切换波长时，采用计算机控制全自动切换（需提供技术证明文件）。

1.3.2自动准直激光到样品的激发光路、样品至探测器的拉曼信号传递光路（需提供技术证明文件）。

1.3.3自动定期仪器状态校准、并自动调节准直光路，保证仪器最佳性能状态；厂家工程师在必要时可通过互联网实现远程自动调整及优化（需提供技术证明文件）。

1.3.4自动拉曼信号强度校正功能：内置标准白光光源，软件自动校准拉曼光强度，消除不同波长信号的响应差异（需提供技术证明文件）。

1.3.5自动波长校准功能：内置标准氖灯光源，自动实现全光谱自动校准，保证光谱峰位准确度（需提供技术证明文件）。

1.3.6拉曼信号采集模式与白光照明模式自动切换（需提供技术证明文件）。

1.4共焦技术1.4.1须采用新型共焦显微技术（数字化控制CCD区

域），以避免仪器的不稳定性和复杂的光路调整，且保证仪器高灵敏度（需提供技术证明文件）。

1.4.2软件控制共焦孔径大小，在10-1000m范围内连续可调。

1.4.3软件控制自动调整狭缝大小，在10-1000m范围内连续可调。

1.4.4空间分辨率：在x100倍镜头下，横向分辨率<0.5微米，光轴方向纵向分辨率<2微米，共焦深度连续可调（需提供技术证明文件）。

1.5共焦显微系统*高稳定性研究级徕卡显微镜（需提供技术证明文件）。

10X原装目镜，5X、20X、50X、100X和长焦50X物镜。

反射及透射柯勒照明。

彩色摄像头，可在计算机上显示存储图像。

1.6计算机及彩色激光打印机世界著名厂家生产，3.1GHz，4GBRAM，500GB硬盘，DVD-RW刻录机，100M网卡，27英寸液晶显示器，Windows7操作系统，可观察和存储显微镜下的白光像。Windows下光谱专业软件包－包括仪器控制、数据采集、计算和处理及曲线拟合等各项功能。

1.7数据库（谱库数量>5000张）可进行谱库搜索。

可进行混合物搜索。

可建立新光谱库。

包含无机矿物数据库。

包含有机高分子数据库。

1.8高精度三维拉曼扫描成像样品台最小步长为0.1微米。

XY自动平台，扫描范围：X≥100毫米，Y≥70毫米（需提供技术证明文件）。

带手动操作鼠标球，可软件自动控制驱动。

可对样品测量部位自动定位并进行拉曼成像，采用光栅尺反馈控制系统自动控制克服反向间隙，保证原始点的重复性（需提供技术证明文件）。

用软件可连接摄像头采集图像，扩展了显微镜的视场，也可使自动平台的扫描区域扩大。

包括自动聚焦软件及软件。

1.9高空间分辨率快速拉曼扫描成像技术配合快速扫描自动样品台，最小步长0.1微米。

快速实时拉曼成像控制及数据处理软件包。

多变量化学统计数据分析软件包。

拉曼图象分辨率高，可达250nm（需提供技术证

明文件）。

最短积分时间≤10ms。

1.103D快速成像技术立体地收集并显示透明材料内部的拉曼数据。

快速实时拉曼成像控制及数据处理软件包。

完整的显示样品的3D立体拉曼图象。

本仪器还须具备下列功能扩展能力（需提供技术白皮书）：

与原子力显微镜/近场光学显微镜联用（RAMAN/AFM/NSOM），并无需对拉曼光谱仪做任何改造。

与扫描电镜（电子探针，能谱，阴极荧光）联用(SEM/RAMAN)。

与激光共焦显微镜联用（RAMAN/LCSM），并无需对拉曼光谱仪做任何改造。

可升级到采用窄带虑光片技术的拉曼光谱二维直接成像。

1.11光镊附件由光镊将单个活细胞或细胞器长时间固定在焦点附近，进行拉曼光谱分析。

用拉曼光镊系统实时监测单个活细胞或细胞器的生命过程。

3X射线光电子能谱仪1台1.真空系统：

*1.1分析室：真空度优于6.0×10-8Pa；1.2进样及样品处理室：真空度应优于7.0×10-7Pa1.3进样及样品处理室不可与分析腔共用，防止交叉污染；2.多功能样品停放台：

2.1可通过鼠标点击实现样品台的移动2.2超高真空监测装置3.单色化X射线源：

3.1射线源类型：单色化AlKαX射线源；3.2激发X射线源电子枪为LaB6电子枪；*3.3束斑直径至少在20μm～400μm之间连续可调，分析面积：≥1400μm×1400μm3.3功率：不高于300W，避免高功率对样品表面带来辐照损伤；*3.4单色化光源的阳极靶可移动，在阳极靶更换前应可提供不少于20个工作点使用。确保仪器使用过程中，阳极靶无需更换；*3.5能量分辨率和灵敏度（正常工作条件下）：对Ag3d5/2峰，半高宽优于0.5eV@100kcps；3.6大束斑能量分辨率和灵敏度（正常工作条件

下）：对Ag3d5/2峰能量分辨优于0.5eV时，计数率强度高于250kcps；3.7小束斑能量分辨率和灵敏度（正常工作条件下）：Ag3d5/2分辨率优于0.5eV时，计数率强度应高于500cps。

3.8成像XPS：≤10μm，且在该最小分辨率下，能够实现采谱、成像和深度剖析。

4.能量分析器：

4.1采谱能量分析器：

180ο半球能量分析器4.2平均半径：不小于150mm4.3能量扫描范围应不小于0～3200eV，确保多功能分析时无需切换分析器；5.探测器：同时完成采谱分析及xps成像。

6.电荷中和系统：对PET绝缘样品，在O-C=O结构中C1s峰能量分辨(FWHM)优于0.85eV7.离子枪刻蚀套件7.1离子源：Ar+源；7.2刻蚀模式：单一枪体，单离子模式；7.3；刻蚀能量——100eV~4keV连续可调7.4刻蚀电流——最大刻蚀电流高于5μA；8.样品观察和调整：

8.1能清楚观察样品图象，图像可实时显示及储存。分析室需具备观察视窗两个，并装有防X射线玻璃；观察窗口法线方向需位于水平线以上，以方便观察。

9.UPS紫外光电子能谱分析（UPS）11.1价带谱，功函数测试11.2光源：He紫外光源；11.3能量分辨率：对Ag费米边，能量分辨率应不大于120meV.12.原位高温高压气体反应池12.1温度范围：恒压静态模式下，加热温度大于800℃，气体流动动态模式下，加热温度大于500℃）12.2采用PID温控方式，控温精度优于1摄氏度。

12.3加热器采用陶瓷加热器，可以耐受腐蚀性气氛和变温环境；12.4配备四路反应气路和一路吹扫气路，每路进气口带质量流量计；采用PLC触摸屏控制流量计；12.5为防止反应室过热，外壁可通入冷却水冷却。

13.谱仪控制和数据处理：

13.1谱仪控制：谱仪参数设置，系统软件应实现可视化操作；分析部件均可通过系统软件控制；系统软件具备可视化操作界面，实现对真空泵、阀门、真空规、离子枪、中和枪以及加热冷却等的控制；所有进气阀门均可通过软件控制实现自动化开启和

关闭；系统软件内置真空安全互锁控制模块，可有效禁止真空设备的误操作；多功能样品台，样品台移动可通过鼠标操作实时的光学像而实现，并具有可视化操作界面。

13.2数据处理：随系统计算机一台，预装数据采集和处理软件包数据处理方法：定性分析、定量分析、曲线拟合等需具备SMART本底扣除方法。