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文档简介
计算机在材料科学中的应用第6讲本节内容:(信息技术在材料科学数据与图形处理中的应用)Origin绘图功能(上机)例2-16.采用Excel软件模拟了不同厚度下材料的计算反射率,请绘制反射率随频率和厚度变化的三维地形图。ReζReζ2423.2112794.312653.3215034.334793.4117994.515023.6519894.627003.7822014.829883.9925234.8910774.0327894.9112304.22
例2-17.在等离子喷涂制备涂层中,飞行粒子经过熔化、飞行、撞击基板、扁平和堆垛一系列微观过程形成最终的涂层。大量学者研究了粒子扁平率与雷诺数之间的对应关系,并得到了相应的模型,其中应用较多的有ξ=1.04Re^0.2、ξ=0.83Re^0.21和ξ=1.2941Re^0.2三种模型。本次实验采用狭缝收集法获得了一系列飞行粒子扁平率和雷诺数之间的对应关系如表2-18所示。请将实验数据与文献模型绘制到一张图中,并进行对比。表2-18粒子扁平率与雷诺数间的测试数据掺杂量Nba(Å)Tia(Å)Ya(Å)Nbb(Å)Tib(Å)Yb(Å)Nbc(Å)Tic(Å)Yc(Å)Nbβ(°)Tiβ(°)Yβ(°)0.115.71115.6415.6119.1129.0859.0329.2349.2339.221123.82123.82123.530.215.74515.68815.5779.1529.0789.0289.2549.2489.201124.12123.85123.310.315.78815.72115.5449.1589.0999.0279.2899.2579.199124.23124.07123.180.415.75415.67815.7719.1549.1019.0149.2669.2229.203124.21124.02123.11例2-18.采用Jade软件计算了不同含量Nb5+、Ti4+和Y3+四种离子掺杂NASICON陶瓷的点阵常数,具体参数如表2-19所示。请将点阵常数和体积随掺杂量变化的曲线绘制出来,并在Origin软件中融合四图。表2-19不同含量Nb5+、Ti4+和Y3+四种离子掺杂NASICON陶瓷的点阵常数练习1
实验测试了不同温度下四个样品的电导率如下表所示。其中激活能和温度与电导率的公式如下所示。请绘制如下的图,并拟合四个样品的激活能。
3.852.993.94.4(k=0.001)练习2
根据所给数据绘制如下所示的介电常数图,注意数据断开。练习3
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