• 废止
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  • 2013-05-16 颁布
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【正版授权-英语版】 ISO 16531:2013 EN Surface chemical analysis - Depth profiling - Methods for ion beam alignment and the associated measurement of current or current density for depth profili_第1页
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基本信息：

  • 标准号：ISO 16531:2013 EN
  • 标准名称：表面化学分析 深度剖析 在 AES 和 XPS 中进行深度剖析的离子束对准和相关电流或电流密度测量方法
  • 英文名称：Surface chemical analysis — Depth profiling — Methods for ion beam alignment and the associated measurement of current or current density for depth profiling in AES and XPS
  • 标准状态：废止
  • 发布日期：2013-05-16

文档简介

1.**离子束对准方法**：该标准提供了离子束对准的方法和技术，包括离子束扫描、离子束剥离、离子束蚀刻等。这些方法可用于确定表面化学成分的深度分布。

2.**电流或电流密度测量**：该标准还提供了用于测量电流或电流密度的技术，包括扫描电子显微镜（SEM）或原子力显微镜（AFM）等设备的使用方法。这些测量可用于确定表面元素的浓度分布，进而了解表面的化学组成。

ISO16531:2013EN标准提供了一种系统的方法，用于深度剖面分析表面化学成分。这种方法涉及离子束对准和电流或电流密度测量，可以帮助科学家和工程师更好地理解材料表面的化学性质和组成。

希望以上详细总结对您有所帮助！

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