• 现行
  • 正在执行有效
  • 2014-07-25 颁布
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【正版授权】 ISO 14706:2014 EN Surface chemical analysis - Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy_第1页
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基本信息：

  • 标准号：ISO 14706:2014 EN
  • 标准名称：表面化学分析 利用全反射 X 射线荧光 (TXRF) 光谱测定硅晶片表面元素污染情况
  • 英文名称：Surface chemical analysis — Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
  • 标准状态：现行
  • 发布日期：2014-07-25

文档简介

ISO14706:2014是一个关于表面化学分析的标准，特别是用于通过全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅晶圆表面元素污染的程度。这个标准提供了详细的指导，包括但不限于实验设计、样品准备、测量方法、数据分析和结果解读等方面的操作。

以下是对这个标准的一些具体细节的详细解释：

1.实验设计：标准规定了应考虑的实验参数，如入射X射线的能量、扫描速度、测量点的大小和数量等。同时还提供了最佳实验条件的一般指南。

2.样品准备：标准详细说明了如何准备样品，包括清洁、切割和研磨等步骤。对于特定的样品类型，可能需要特殊的处理方法。

3.测量方法：TXRF是一种非破坏性的分析方法，通过测量X射线发射来确定元素的存在和浓度。标准提供了如何设置和操作仪器，以及如何处理和分析测量数据的方法。

4.数据分析：标准解释了如何从TXRF测量数据中提取有用的信息，如元素的种类和浓度。这通常涉及一些统计方法和图像处理技术。

5.结果解读：根据标准，TXRF测量的结果可以用于评估表面的元素污染程度，并可能对产品的质量、安全性或合规性产生影响。标准还提供了一些指南，帮助读者理解和解释这些结果。

ISO14706:2014EN提供了关于如何使用TXRF测定硅晶圆表面元素污染的全面指导，包括实验设计、样品准备、测量方法、数据分析和结果解读等方面。这个标准

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