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文档简介
微课教学设计课题名称3.4掺杂所属课程微电子技术与器件制造所属专业电子与信息技术授课教师知识点1.认识离子注入掺杂2.离子注入设备3.离子注入实施4.离子注入常见异常故障排除教学目标学会理实一体化理解离子注入掺杂方式会学掌握正确操作离子注入的设备,设置相关设备的常规参数。乐学在学习掺杂的过程中,创设良好的教学情景及小组合作学习氛围,增强团队合作意识。教学重、难点重点离子注入实施难点离子注入常见异常故障的排除教学方法讲授法、演示法教学环节教师活动媒体设计时间课题引言本项目从离子注入掺杂,先让同学们掺杂工艺有一个初步了解;然后详细介绍离子注入专业技能。通过后续离子注入和洁净车间进入的任务实施,让读者进一步了解干法刻蚀与离子注入工艺、以及如何进入洁净车间。1分钟教学内容1.认识离子注入掺杂(1)离子注入方式本征半导体的导电性很差,只有在晶圆中加入少量杂质,使其结构和电导率发生改变时,硅才能成为一个有用的半导体,这个过程叫做掺杂。掺杂是制作半导体器件和集成电路必不可少的工序,通常有热扩散和离子注入2种掺杂方式。(1)离子注入的作用离子注入掺杂技术是现代先进的掺杂技术,而且已经是比较成熟的工艺。离子注入是通过离子轰击,使杂质以离子束的形式注入半导体内,从而形成PN结构和各种半导体器件,以及改变材料的电导率。在超高速、微波和中大规模集成电路制备过程中,器件的结深和基区的宽度,都小到只有零点几微米,杂质浓度分布也有更高的要求。目前,离子注入法已成为超大规模集成电路制造中不可缺少的掺杂工艺。17分钟2.离子注入设备离子注入机体积庞大,结构非常复杂。离子注入机的外观。根据使用工艺、应用领域、注入剂量和能量的范围不同,传统上离子注入机分为中低电流、大电流、高能量等三种。离子注入设备主要由显示区、上料区和离子注入区等组成。3.离子注入实施我们通过仿真练习,来理解离子注入实施步骤。离子注入的整个过程包括领料确认、设备准备、设备运行、退火、结批4.离子注入异常故障排除离子注入过程中,可能会出现杂质注入含量不均、离子源沾污等故障,需要进行对应的处理。.剂量不均匀造成掺杂区域杂质含量不一致(1)异常描述用方阻和热波轮廓图检测时,发现晶圆表面不同区域的杂质含量不同。(2)异常分析经检测,发现是由剂量不均匀造成的,造成剂量不均匀的原因,可能是注入机的泄露电流影响或扫描系统异常等。(3)故障处理若是扫描系统故障,在大电流注入时,需要检查扫描盘的驱动系统是否有机械问题;在中低电流注入时,需要检查扫描系统的X和Y方向扫描是否正确。若是注入机中的泄露电流问题,需要清理所有绝缘体,确保没有溅射堆积材料,另外电缆的绝缘必须采用高质量材料。课题小结掺杂是我们集成电路中重要的一环工艺,本次课主要介绍了掺杂的概念、掺杂设备和掺杂过程。掌握这些知识帮助我们更好的学习课程后续内容。1分钟作业布置1.技能训练:离子注入工艺的实施2.预习下一节课内容教学反思本模块主要通过对离子注入工艺的认识,介绍了离子注入工艺主
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