




版权说明:本文档由用户提供并上传,收益归属内容提供方,若内容存在侵权,请进行举报或认领
文档简介
1.2MOS集成电路的基本制造工艺1.2MOS集成电路的基本制造工艺MOS集成电路的基本制造工艺课件CMOS工艺技术是当代VLSI工艺的主流工艺技术,它是在PMOS与NMOS工艺基础上发展起来的。其特点是将NMOS器件与PMOS器件同时制作在同一硅衬底上。
CMOS工艺技术一般可分为三类,即
P阱CMOS工艺
N阱CMOS工艺双阱CMOS工艺CMOS工艺技术是当代VLSI工艺的主流工艺技术,它是在PMP阱CMOS工艺
P阱杂质浓度的典型值要比N型衬底中的高5~10倍才能保证器件性能。然而P阱的过度掺杂会对N沟道晶体管产生有害的影响,如提高了背栅偏置的灵敏度,增加了源极和漏极对P阱的电容等。P阱CMOS工艺P阱杂质浓度的典型值要P阱CMOS工艺
电连接时,P阱接最负电位,N衬底接最正电位,通过反向偏置的PN结实现PMOS器件和NMOS器件之间的相互隔离。P阱CMOS芯片剖面示意图见下图。P阱CMOS工艺电连接时,P阱接最负电位,N衬底接最N阱CMOS工艺
N阱CMOS正好和P阱CMOS工艺相反,它是在P型衬底上形成N阱。因为N沟道器件是在P型衬底上制成的,这种方法与标准的N沟道MOS(NMOS)的工艺是兼容的。在这种情况下,N阱中和了P型衬底,P沟道晶体管会受到过渡掺杂的影响。N阱CMOS工艺N阱CMOS正好和P阱N阱CMOS工艺
早期的CMOS工艺的N阱工艺和P阱工艺两者并存发展。但由于N阱CMOS中NMOS管直接在P型硅衬底上制作,有利于发挥NMOS器件高速的特点,因此成为常用工艺。N阱CMOS工艺早期的CMOS工艺的N阱工N阱CMOS芯片剖面示意图N阱CMOS芯片剖面示意图见下图。N阱CMOS芯片剖面示意图N阱CMOS芯片剖面示意图见下图。双阱CMOS工艺
随着工艺的不断进步,集成电路的线条尺寸不断缩小,传统的单阱工艺有时已不满足要求,双阱工艺应运而生。双阱CMOS工艺随着工艺的不断进步,集成电路的线条尺寸不断双阱CMOS工艺通常双阱CMOS工艺采用的原始材料是在N+或P+衬底上外延一层轻掺杂的外延层,然后用离子注入的方法同时制作N阱和P阱。双阱CMOS工艺通常双阱CMOS工艺采用的原始材料是在N+或双阱CMOS工艺使用双阱工艺不但可以提高器件密度,还可以有效的控制寄生晶体管的影响,抑制闩锁现象。双阱CMOS工艺使用双阱工艺不但可以提高器件密度,还可以有效双阱CMOS工艺主要步骤
双阱CMOS工艺主要步骤如下:(1)衬底准备:衬底氧化,生长Si3N4。(2)光刻P阱,形成阱版,在P阱区腐蚀Si3N4,
P阱注入。(3)去光刻胶,P阱扩散并生长SiO2。(4)腐蚀Si3N4,N阱注入并扩散。(5)有源区衬底氧化,生长Si3N4,有源区光刻和腐蚀,形成有源区版。(6)
N管场注入光刻,N管场注入。双阱CMOS工艺主要步骤双阱CMOS工艺主要步骤如下:双阱CMOS工艺主要步骤(7)场区氧化,有源区Si3N4和SiO2腐蚀,栅氧化,沟道掺杂(阈值电压调节注入)。(8)多晶硅淀积、掺杂、光刻和腐蚀,形成多晶硅版。(9)
NMOS管光刻和注入硼,形成N+版。(10)
PMOS管光刻和注入磷,形成P+版。(11)硅片表面生长SiO2薄膜。(12)接触孔光刻,接触孔腐蚀。(13)淀积铝,反刻铝,形成铝连线。双阱CMOS工艺主要步骤(7)场区氧化,有源区Si3N4和SMOS工艺的自对准结构自对准是一种在圆晶片上用单个掩模形成不同区域的多层结构的技术,它消除了用多片掩模所引起的对准误差。在电路尺寸缩小时,这种有力的方法用得越来越多。有许多应用这种技术的例子,例子之一是在多晶硅栅MOS工艺中,利用多晶硅栅极对栅氧化层的掩蔽作用,可以实现自对准的源极和漏极的离子注入,如图所示。MOS工艺的自对准结构自对准是一种在圆晶片上用单个掩模形成不自对准工艺示意图自对准工艺示意图自对准工艺上图中可见形成了图形的多晶硅条用作离子注入工序中的掩模,用自己的“身体”挡住离子向栅极下结构(氧化层和半导体)的注入,同时使离子对半导体的注入正好发生在它的两侧,从而实现了自对准。而且原来呈半绝缘的多晶硅本身在大量注入后变成低电阻率的导电体。可见多晶硅的应用实现“一箭三雕”之功效。自对准工艺上图中可见形成了图形的多晶硅条用作离子注入工序中的MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件
无定形硅无定形硅MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件锑离子锑离子MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件氩氩MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件炭化硅炭化硅MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造工艺课件MOS集成电路的基本制造
温馨提示
- 1. 本站所有资源如无特殊说明,都需要本地电脑安装OFFICE2007和PDF阅读器。图纸软件为CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.压缩文件请下载最新的WinRAR软件解压。
- 2. 本站的文档不包含任何第三方提供的附件图纸等,如果需要附件,请联系上传者。文件的所有权益归上传用户所有。
- 3. 本站RAR压缩包中若带图纸,网页内容里面会有图纸预览,若没有图纸预览就没有图纸。
- 4. 未经权益所有人同意不得将文件中的内容挪作商业或盈利用途。
- 5. 人人文库网仅提供信息存储空间,仅对用户上传内容的表现方式做保护处理,对用户上传分享的文档内容本身不做任何修改或编辑,并不能对任何下载内容负责。
- 6. 下载文件中如有侵权或不适当内容,请与我们联系,我们立即纠正。
- 7. 本站不保证下载资源的准确性、安全性和完整性, 同时也不承担用户因使用这些下载资源对自己和他人造成任何形式的伤害或损失。
最新文档
- 2025年春季大班教学工作方案
- 销售经理方案2025年演讲稿
- 教师节企业活动方案设计2025年
- 柠檬少儿画课件
- 2025年商场春节促销活动方案演讲稿
- 童心迎国庆科技向未来国庆节主题活动方案2025年
- 2025年光棍节单身主题活动策划方案
- 酒店运行知识培训课件
- 2025年保安个人工作方案
- 主诊断的选择
- 【MOOC】计算机组成与CPU设计实验-江苏大学 中国大学慕课MOOC答案
- 国开2024年秋中国建筑史(本)终考任务答案
- 新生儿败血症(共22张课件)
- 颂钵疗愈师培训
- 2024年中国工商银行系统招聘笔试考试题库(浓缩500题)
- 律师事务所律师事务所风险管理手册
- 2023中华护理学会团体标准-注射相关感染预防与控制
- 幼儿园小班班本课程果然有趣
- 子宫肌瘤课件教学课件
- 《黑神话:悟空》跨文化传播策略与路径研究
- 消防设施操作和维护保养规程
评论
0/150
提交评论