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铝膜蒸镀原理及特性目录:蒸发台蒸镀原理铝膜反射率;·MARK-50蒸发台外观:::::高真空一般由扩散泵或冷泵实现,扩散泵系统一般有冷阱,用以防止泵油蒸气反流到腔室;蒸发台加热系统一般有三种:电阻、电感和电子束电阻加热系统用一个小线圈和一台可调变压器,将要蒸发材料放入加热灯丝中加热蒸发,但加热灯丝本身易造成沾污,且常常没有合用的加热难熔金属的电阻加热元件;电感加热系统将蒸发材料放入一个BN制成的坩锅中,一个金属线圈绕在坩锅上,通过这个线圈施加RF功率,RF射频在材料中感应出涡流电流使其加热,线圈本身用水冷,保持温度在100℃但是坩锅本身材料的沾污仍然是一个严重问题;电子束蒸发系统包括一个加热钨丝环,它围绕着一根相对钨丝处于高偏压的材料细棒周围,从钨丝射出的电子轰击材料棒,提高材料末端的温度,从而产生出蒸发原子束,高能束流在一个强磁场下弯曲270度,射到材料表面,达到蒸发目的;电子束加热系统热电子灯丝易成为沾污源,并且对于硅基材料,易造成辐射损伤;如图所示:灯丝线圈电子束淀积材料坩锅应灯丝加速棚极偏转板偏转磁铁蒸发材料被加热蒸发后,在真空腔室中蒸气压非常高,因此我们可得到可接受的淀积速率;淀积速率通常用石英晶体速率指示仪测量,所用器件是一个谐振器板,当晶体顶部有材料蒸发淀积,所外加的质量将使得频率偏移,由测得得频率移动可得出淀积速率;蒸发的一个重要限制是台阶覆盖,种常用的改进台阶覆盖的方法是在蒸发过程中旋转圆片,为此,蒸发台内用于承载圆片的半球形夹具,被设计成能使圆片环绕蒸发器顶部

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