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脉冲激光法沉积薄膜实验Experimentforfilmdepositionbypulsedlaser原理：是一种真空物理沉积工艺，是将高功率脉冲激光聚焦于靶材表面，使其产生高温及烧蚀，而产生高温高压等离子体，等离子体定向局域膨胀发射并在衬底上沉积形成薄膜。1.激光与靶材相互作用产生等离子体等离子体是由大量自由电子和离子及少量未电离的气体分子和原子组成，且在整体上表现为近似于电中性的电离气体。1.激光与靶材相互作用产生等离子体等离子体是由大量自由电子和离子及少量未电离的气体分子和原子组成，且在整体上表现为近似于电中性的电离气体。等离子体=自由电子+带正电的离子+未电离原子或分子，为物质的第四态。2.等离子体在空间的输运靶材表面的高温（可达20000K）和高密度（（1016-----1021）/皿3）的等离子体卜沿靶面法线方向J轴向约束性卜沿靶面法线方向J轴向约束性等离子体区 等离子体羽辉3.等离子体在基片上成核、长大形成薄膜临界核的形成 粒子的长大形成迷津结构形成连续薄膜脉冲激光沉积的优点I 可以生长和靶材成分一致的多元化合物薄膜易于在较低温度下原位生长取向一致的织构膜和外延单晶膜由于激光的能量高，可以沉积难熔薄膜灵活的换靶装置便于实现多层膜及超晶格膜的生长生长过程中可以原位引入多种气体，提高薄膜的质量污染小k薄膜存在表面颗粒问题缺点〔很难进行大面积薄膜的均与沉积O{:;:材:转法激光束运动新方法：激光分子束外延PLD中的重要实验参数基体的加热温度影响沉积速率和薄膜的质量J 过高不利于薄膜择优取向的形成氧气的压力过低导致化学配比失衡，内部缺陷增多沉积时间 〉影响薄膜的厚度基体与靶的距寓 〉影响薄膜的均匀性激光能量，频率 〉影响沉积速率

PLD法制备薄膜实验流程|激光器为YAG固体激光器，波长安装靶材与衬底整激光器参数.抽真空（机械瓣）子泵至为湖I激光器为YAG固体激光器，波长安装靶材与衬底整激光器参数.「频率为1Hz,3Hz,5Hz.能量为0----300mJ可调.导入激光进行镀膜关闭仪器开加热装置，通气体导入激光进行镀膜关闭仪器实验注意事项口抽真空之前一定要注意接通冷却水口当真空度小于10?8才能开启分子泵抽高真空口激光输出前要确保冷却水运动正常使用氧气

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