TFTLCD工程中英对照表

TFT-LCD工程中英对照表2023/5/27TFTLCD工程中英对照表材料名词用语用语说明备注(Process)Gas(制程)气体，目前大多数种类的气体，多为提供CVD，Sputter及干蚀刻电浆源之用

AC-1带静电防止剂（ESD-Preventer），在上光阻机内使用，防止静电产生，破坏玻璃组件

Acetone丙酮

ACF(AnisotropicConductiveFilm)各向异性导电胶

Al(Aluminum)铝

Alcohol酒精

Al-EtchantAL刻蚀液：成份中含乙酸CH3COOH、磷酸H3PO4及硝酸HNO3，主要用来蚀刻Mo/Al/Mo的沈积层

AlNd(AluminumandNeodymiumAlloy)铝和钕的合金以上皆为溅镀机金属靶的材料之一

APRPlate：AsahikaseiPhotosensitiveResin印刷版

Ar氩气，制程气体，用来轰击溅镀机上的金属靶或常用为加热设备的热传媒介

a-Si(amorphoussilicon)非晶硅，TFT沈积层之一

AUBall金球，掺杂与Seal胶中，用以导通上下基板，取代TR

BackCover背板：构成背光源的主体结构，承载其他部品

BackLightUnit背光源：为液晶模块提供光源BarMirror条形镜，装于Stage上，用于反射激光干涉仪发出的激光，从而反映出Stage当前的位置BCl3氯化硼，制程气体，在干蚀刻中用以作为蚀刻AlNd的电浆源

Bezel金属框架：与背光源卡合，控制模块长和宽的最大尺寸

TFTLCD工程中英对照表材料名词用语用语说明备注BHF成份中含氟化铵NH4F及HF，主要用来蚀刻7PEP中的SiON

CCD：ChargeCoupledDevice电荷耦合器件

CCFL：ColdCathodeFluorescentLamp冷阴极荧光灯：背光源中根本的发光器件

CDA(CompressedDryAir)压缩高压干燥空气

CF(ColorFilter)彩色滤光片：:液晶显示元件的主要原材料,印刷有一定的顺序排列的R/G/B像素的玻璃基板

CF4四氟化碳……制程气体，常用的主要干蚀刻电浆源以为提供蚀刻主原料氟的来源

Chip芯片

Cl2氯气，制程气体

Coating上光阻

COF:ChipOnFilm薄膜芯片集成

COG(ChiponGlass)玻璃芯片集成：芯片接合在玻璃

Detergent洗剂

Detergent(LH-300)界面活性剂的一种（清洗机用来清洗玻璃表面用LH-300为供货商型号）

DHF成份为49%氢氟酸HF，主要为湿蚀刻机中用来蚀刻7PEP中的SiNx膜DiffusionSheet扩散膜：使导光板出射的光分布均匀DIW(De-IonizedWater)去离子水

DriverIC驱动集成电路EndSeal封口胶FPC(FlexiblePrintedCable)可挠性印刷线路

TFTLCD工程中英对照表材料名词用语用语说明备注Glass,substrateorglasssubstrate玻璃基版

Glove手套

H2氢气，制程气体

Hairnet网帽

HCl氯化氢，制程气体，蚀刻n+时的电浆源之一

He氦气，制程气体，混合在其它制程气体中，共同形成电浆源，使电浆组成分布均匀

Hood头罩

ILB(InnerLeadBonding)内引线焊接

IPA(IsopropylAlcohol)异丙醇：主要用来作为设备擦拭液，在去光阻制程中亦用来清除玻璃基板上的有机残留物（如光阻或去光阻液）

IR(Infra-Red)红外线

ITO(IndiumTinOxide)铟锡氧化物

ITO-EtchantITO刻蚀液：成份中含盐酸HCl及硝酸HNO3，主要用来蚀刻7PEP中的Poly-ITO

Kr氪气……制程气体，用来轰击溅镀机上的金属靶

L.G.P:LightGuidePlate导光板:将从光源收到的水平光线进行方向改变，转换成向上端出射LAL-50含NH4F与HF，为清洗机用来清洗玻璃表面氧化层的化学溶液LampReflectorLEDCover灯反射罩：将从光源发出的光集中导向到导光板的入射面

LC(LiquidCrystal)液晶，既具有液体的流动性，又具有晶体的各向异性，液晶显示元件的主要原材料之一LED:LightEmittingDiode发光二极管：背光源中根本的发光器件Mask口罩

TFTLCD工程中英对照表材料名词用语用语说明备注Material材料

Metal金属

MI第一次沈积的（阐极）金属膜如MoW

MII第二次沈积的（源极和汲极）金属膜如MoAlMo

Mo(Molybdenum)钼

MoldFrame塑胶框架:与背板相卡合，支撑玻璃面板

Monitor监视器

MoW(Moly-tungsten)钨化钼

n+(或n+a-Si)掺杂磷的非结晶硅，TFT沈积层之一

N2氮气，制程气体，常用为破真空Vent或吹干的媒介

N2O笑气，制程气体

N-300去光阻液，N-300为厂商型号，成份为单乙醇铵与单丁醚的混合物

NBA(1-butylAcetate)乙酸正丁酯，主要用来清洗旋转涂布光阻时残留在玻璃边缘的光阻液

NF3氟化氮，制程气体，常用为清除CVD反应室壁沈积硅Si媒介NH3氨，制程气体O2常用来作电浆的基本组成，

O3Asher为去光阻机的模块之一，用来去除制程的有机残留O3（Ozone）臭氧，主要为各制程用来清除有机物的污染或残留OxalicAcid(H2C2O4)草酸，湿蚀刻机中用来蚀刻5PEP中的a-ITO膜

TFTLCD工程中英对照表材料名词用语用语说明备注Panel面板

PCB(PrintedCircuitBoard)印刷电路板

PH3磷化氢，制程气体

PIink(polyimide)聚亚酰胺

Plasma等离子体

Polarizer偏光片

Polyfron均压纸,基板压合时使用,用于分隔基板,可使压力均匀分布以及减少杂质所造成的损害

PR：PhotoResist光刻胶

PrismSheet棱镜膜：缩小可视角度增加辉度

Probe（测试机的）探针

ProtectorSheet保护膜：保护棱镜膜不被划伤，并具有微弱的扩散作用

ReflectorSheet反射膜：为了把透过的光重新向导光板内射入

Rubbingcloth配向布,主要分为rayon（尼龙）与cotton（棉）两种，顾名思义，就是用于摩擦的布,用于rubbing机台,使基板产生配向,使用前须先挑除杂质,称为挑布

Screw螺丝：将电路板固定于背板上；保证电路板通过背板接地SD：Sourcedriver数据驱动器Seal封框胶，保证TFT于C/F贴合，同时是LC与外界隔绝

SF6氟化硫，制程气体，常用的主要干蚀刻电浆源以为提供蚀刻主原料氟的来源ShieldCover屏蔽盖板：保护电路板及元件SiH4硅甲烷……制程气体（泄漏有爆炸危险）

TFTLCD工程中英对照表材料名词用语用语说明备注SiliconeRubber硅质垫片：贴附于塑胶框架上，有弹性，用来放置玻璃面板

SiNx(x为Si与N的比例)氮化硅，TFT沈积层之一

SiON(应写为SiOxNy因O,N的比例不一定)氮氧化硅，TFT沈积层之一

Spacer或MP(MicroPearl)隔垫物,功能在于维持CF与TFT两块玻璃间之间隙距离

TAB(TapeAutomatedBonding)卷带式晶粒接合

Tape胶带

Target靶

Tcon：TimingController时序控制器

TCP:TapeCarrierPackage带载封装

TFT(ThinFilmTransistor)薄膜晶体管*注.

Thinner稀释剂，Coater单元自身清洁用的化学品

TMAH：TetramethylammoniumHydroxide四甲基铵氢氧化物，是显影液的主要成分

Transfer或ConductivePaste或Agpaste银胶或称导电胶

UPW(Ultra-PureWater)超纯水UVsealantUV胶,用于两块玻璃基板组合时假固定用γ-Butyrolactoneγ-丁内酯,简称γ液,用于清除APR版上的PI

TFTLCD工程中英对照表工程名词用语用语说明备注Aging老化

Airshower气浴室

Anneal回火

Array排列,指在玻璃基板上做TFT的制程

Assembly组装

Bake烘烤

Cellcell完成后的在制品(货)

CJ指高压水洗

Cleaning清洗（Cleaner的动作称为Cleaning）

Cool冷却

Cure烘烤,键结硬化

CVD(ChemicalVaporDeposition)化学气相沉积

Deposition沉积

Develop显影DryEtch干刻Dryetching干刻

EBR：EdgeBeadRemoving清除边缘光刻胶EdgeExposure边缘曝光，指在显影前将玻璃基板边缘光阻较厚的部分再曝光，以防曝光量不足，造成光阻在显影后残留EdgeRemover简称ER，指在旋转涂布光阻后，用NBA洗净残留在玻璃边缘的光阻Exposure曝光

TFTLCD工程中英对照表工程名词用语用语说明备注FA(FailureAnalysis)失效分析

Gowningroom换衣间

Grind研磨

HB：HardBake后烘

Heat加热

Hold留置在当站制程（如有质量问题时）

ICP(InductiveCoupledPlasma)电感偶式电浆蚀刻机

Injection注射(LC-Injection:注入液晶)

Inspection检验

Inspection检视

Load进料

LoadLock简称LL闭锁，为大气进入真空或真空进入大气的媒介

Logoff除帐

Logon登帐Maintenance维修保养Mob:Mobility迁移率

Module模块,指后段组装制程MS指超音波水洗ODF(OneDropFill)LC直接滴注在玻璃基板上，然后完成C/F与TFT对合OLB(OuterLeadBonding)外引线焊接

TFTLCD工程中英对照表工程名词用语用语说明备注Packing包装

PECVD：PlasmaEnhancedCVD等离子体增强化学气相沉积

PEP(photoengravingprocess)完成一次黄光制程叫做一个PEP

PIPost-bakePI后烤

PIPrebakePI预烤

PIPrint,PIcoaterPI印刷

PI：PatternInspection用于检测各种Pattern不良

PM(PreventiveMaintenance)预防保养

Pre-bake预烘

Pre-bake预烤

Profile坡度角

Request请求,要求

Reserve预约

Rework重工RIE(Reactiveionetching)反应性离子蚀刻Rinse喷淋

Rubbing配向SB：SoftBake前烘，即涂胶后的烘干设备SC：Spin-Coater旋转涂胶Scrap报废Scribe(1stscribe,2ndscribe)切割(有一次切割及二次切割)

TFTLCD工程中英对照表工程名词用语用语说明备注SealPattern,Sealdispense框胶涂布

SealPre-bakeSeal预烤

Select选择

SMD:SurfaceMountedDevice表面贴装器件

Soldering焊接

SpacerSprayerSpacer散布

Spin旋转（如SpinDryer：高速旋干器）

SprayPressure(SP)常压喷淋(剥离液)

StabilityStep稳定步骤

Start开始

StitchGate层Mask后测试项目，用于检测实际各Shot间相对位置

Stockout将Cassette取出

Support支援

TP：TotalPitchGate层Mask后测试项目，用于检测实际各Shot位置与设计值间偏差，为Cell对盒提供数据Transfer传送,运送SB：SoftBake前烘，即涂胶后的烘干设备

SC：Spin-Coater旋转涂胶Scrap报废Scribe(1stscribe,2ndscribe)切割(有一次切割及二次切割)SealPattern,Sealdispense框胶涂布SealPre-bakeSeal预烤

TFTLCD工程中英对照表工程名词用语用语说明备注Select选择

SMD:SurfaceMountedDevice表面贴装器件

Soldering焊接

SpacerSprayerSpacer散布

Spin旋转（如SpinDryer：高速旋干器）

SprayPressure(SP)常压喷淋(剥离液)

StabilityStep稳定步骤

Start开始

StitchGate层Mask后测试项目，用于检测实际各Shot间相对位置

Stockout将Cassette取出

Support支援

TP：TotalPitchGate层Mask后测试项目，用于检测实际各Shot位置与设计值间偏差，为Cell对盒提供数据

Transfer传送,运送

Transportation传输Unload卸货VacuumAnneal真空回火

Warning警告WetEtch湿法蚀刻Yield良率

TFTLCD工程中英对照表工程名词用语用语说明备注A/A：ATMArm大气机械手

A/K：AirKnife空气刀

AGV(AutomaticGuidedVehicle)自动搬运车

ALSR(LaserRepair)雷射修补机

AMEL;AMOT(FilmThickness)膜厚量测仪(前者简称Sopra,后者简称Nano)

AMGI(ParticleCounter)微粒子侦测，侦测玻璃表面微粒子数目及大小分布

AMOR;AMKL(PatternInspection)图案或线路检验设备;主要在检视沈积膜后、曝光后、蚀刻后及去光阻后表面的线路图案检查(前者简称Orbo,后者简称KLA)

AMOV(CD/Overlay)量测设备用以测量关键线宽CD,及藉量测Box重迭状况来检视Stepper的精度

AMSH(Microscope)高倍显微镜，主要在检视曝光后、蚀刻后及去光阻后表面的线路图案检查(简称Olympus)

AMSP(SurfaceProfiler)表面轮廓检查机，测量线路图案的高低分布状况，亦可藉此求得蚀刻速率(简称KLA-Tencor)

AMSR(SheetResistance)沈积膜的电阻值测试设备

AMVI(VisualInspection)目视检查机，Array段制程的最后出货前检查

ANNI(AnnealOven)回火设备

AOI：AutoOpticalInspection自动光学检测系统AOS：AlignmentOpticalSystem光学对位系统APC：AdaptivePressureController压力自适应调节器

ATAR(ArrayTester)ArrayDefect的测试设备ATOS(Open/ShortTester)断短路测试机ATTG(TEGTesterorTFTDeviceMeasurement)TFT的电性测试设备Backside-Exposure背面曝光TFTLCD工程中英对照表工程名词用语用语说明备注Breaker电源开关,继电器

Brush清洗机所使用之软刷

Bumper保险杠

BF：Buffer设备里暂存玻璃的缓冲单元

Cassette装在制品的架子

CDS：Coat&DevelopmentSystem涂胶显影系统，是TRACK设备另一种更形象的称谓

Chamber反应室（如CVD,Sputter或干蚀刻）,槽

Charger充电器

Chiller热交换器

Cleanbooth洁净工作台

Cleanlifter天井传送车

Cleanroom洁净室

Cleanshoes(dust-freeshoes,boots)无尘鞋

Cleansuit(bunnysuit,dust-freegarment)无尘衣Cleaner清洗机Coater涂胶单元

Computer计算机ContactAngle接触角检测机Controlbox电源控制箱Controller控制器Conveyor输送带

TFTLCD工程中英对照表工程名词用语用语说明备注Conveyor传送

Crane吊车（在Stocker内）

DAC：Digital/AnalogConverter数模转换器

DB：DehydrationBakeCleaner清洗后涂胶前的烘干设备

DC-AC：directcurrent-AlternatingCurrent直流-交流

Developer显影机

DPM:DynamicPixelMap动态像素示意图

DRC:DefectReviewCamera不良回测相机

EMO:EmergencyMachineOff设备紧急停止

Equipment设备（简称为EQP）

Etcher蚀刻机

Exposure曝光机

FFU(FanFilterUnit)风扇过滤器

FTIR：FourierTransformInfraredSpectroscopy傅氏转换红外线光谱分析仪GI：GateInsulator栅绝缘层HEPA(HighEfficientParticulateAir)filter高效能粒子空气过滤网

Host主机HighPressure(HP)高压喷淋(剥离液)ICP(InductiveCoupledPlasma)电感偶式电浆蚀刻机IMC：IntermediateCooling中间冷却单元，用于在加热之后对玻璃基板进行自然冷却Laserrepair雷射修补TFTLCD工程中英对照表工程名词用语用语说明备注L/L：LoadLock真空/大气切换腔

LIM(LinearInductionMotor)Carrier线性感应马达传送载具

LDO:Lowdropoutregulator低压差线性稳压器

LS:LevelShifter电位移转器

MagnetictapeAGV路径所使用的磁条

MaskingBlade遮光板

MatchingBox匹配器

MFC：MassFlowController质量流量控制器

MGV(ManualGuidedVehicle)人力搬运车

MHU：MechanicalHandlingUnit负责在各个Bake单元之间搬送玻璃基板

MM：Macro/Micro宏观、微观测试，用于抽测Mask后的产品宏观Mura、ID以及微观Pattern是否合格

MPA：MirrorProjectMaskAligner曝光机全称，镜像投影Mask对位仪

MUX:Multiplexer多路（复用）器

MVC:ModuleViewController模块观察控制器Notebook笔记型计算机（简称为NB）OHS(OverheadShuttle)天车或称轨道车

PE(PlasmaEtch)电浆蚀刻机P/C：ProcessChamber反应腔PAOS：PrimaryAlignmentOpticalSystem初次光学对位系统PPID：ProcessParametersID工艺参数地址PumpingStep抽真空步骤Raisedfloor(gratingfloor)高架地板

TFTLCD工程中英对照表工程名词用语用语说明备注ReticleorMask光罩

RIE(ReactiveIonEtching)反应式离子蚀刻机

RollBrush辊刷

RPSC：RemotePlasmaSourceCleaning远程等离子源清洗

RTM(RotaryTransferMachine)旋转传送机

SCARAarmAGV之传送手臂

SECS：SEMIEquipmentCommunicationStandard设备通讯标准

Shot一次扫描

Shower喷淋

Shuttle搬送单元，将玻璃基板在Coater内各个部分间进行搬送

Sputter溅镀机

Stepper步进式曝光机

Stripper剥离机

Tester测试机TMP：TurboMoleculePump涡轮分子泵Titler刻号机，厂内部分的显影机具有此功能，将玻璃基板的ChipID,GlassID及Veri-Code曝出，以为人员及机台办认之用

Tool工具,机台UM：UltraMirror超级反射镜，投影系统（包括凹面镜、凸面镜、梯形镜各一块）Valve阀门,控制阀X-Mag：XMagnificationX倍率放大器：位于UM之上，用于补正光线在X方向出现的扭曲。Vehicle运输工具或载具TFTLCD工程中英对照表工程名词用语用语说明备注Alarm警报

Alignment对位,对准

AP-Plasma常压等离子

Batch批量

Battery电池

Bay作业区

Cancel取消

CD(criticaldimension)关键尺寸（线路关键处的线宽或间距1），各层Mask后测试项目，检测Pattern尺寸是否符合规格

CIM(ComputerIntegrationManufacturing)计算机整合制造（指以计算机系统整合制造流程）

Cleanliness洁净度

Comp.Completion的缩写,意指完成

Contamination污染

Defect缺陷

DGS：DataGateShort数据线栅线短路Distortion扭曲度，衡量光线从Mask到达Plate后产生的扭曲程度Dust灰尘

Emergency紧急Empty空的ESD(Electro-staticDischarge)静电释放,静电击穿EtchingRate蚀刻速率(=蚀刻厚度/时间)Exit出口TFTLCD工程中英对照表工程名词用语用语说明备注Focus聚焦，衡量成像清晰程度

FPD:FocalPlaneDeviation焦点水平偏离

FQA:FlatnessQualityArea平面平整性区域

GlassFiber玻璃纤维，掺杂与Seal胶中，维持胶高，保证盒厚

HMDSHexamethyldisilazane的简写，为一种化学中间体，用以增加光阻涂布时对芯片表面之附着力

Humidity湿度

I/O(Input/Output)输入/输出

ID(Identity)识别码(如LotIDorChipID)

Instruction命令,指令

Inter-bay作业区和作业区之间

Intra-bay作业区之内

IRIF(Infra-RedInterFace)红外线界面

JigPressJig压合

Laminarflow层流（流体力学名词）LCD(LiquidCrystalDisplay)液晶显示器Lot指生产在线的在制品或产品,简称「货」

Note批注Operation作业,操作Overlay重合精度，衡量Gate层外的其他各层与Gate层重合的程度Particle微粒子ParticleCounter灰尘颗粒检测机TFTLCD工程中英对照表工程名词用语用语说明备注PE(PlasmaEtch)电浆蚀刻机

Pin-Hole针点小凹陷

Pixel像素*注.

PolarizerLamination偏光片贴合

Precaution预防措施

Pressure压力

Process制程

Production生产

Prohibit禁止

PS(PhotoSpacer)功能与普通的Spacer相同,一般用于大尺寸产品,且可得到较好的cellgap

Purge用CF或NF系列的气体通入CVD清除器壁累积的硅

PVX：Passivation钝化层

Quality品质

Radical活性粒子Recipe程序,制程参数Release将hold住的货放行,释出

Report报告Reset重新设定Retrieve【计算机】检索,撷取(数据)RFGenerator射频发生器。RFPower：RadioFreqencyPower射频功率。TFTLCD工程中英对照表工程名词用语用语说明备注RF：RadioFrequency射频

RGB(Red,Green,Blue)指红绿蓝三原色

Sheet片(Array区玻璃基版计数单位)

Spec制程的质量标准

Standard标准(指作业标准或质量指针)

Stickymat脚踏黏垫

Stocker(cleandepot)存放Cassette(架子)的暂存区

Temperature(TEMP)温度

Uniformity均匀性(类似(大-小)/平均值的概念)

UV：Ultraviolet紫外光

Vacuum真空

Vender厂商

Vent破真空，真空环境下的玻璃送至LoadLock闭锁时，通入氮气平衡压力，以防止剧烈的气压变化造成破片

V-sync：Verticalsynchronization竖直方向同步信号Vth：VoltageofThreshold阈值电压Wheel刀轮，材料为金刚石，主要用途为切割玻璃基板

WIP(WorkInProcess)在制品（制程在制品）TFTLCD工程中英对照表技术名词用语用语说明备注ActiveArea有效显示区域，即可以显示文字图形的总面积Activematrix在画素或dot上设置主动组件，于写入期间激活主动组件而写入data电压、其它期间则关闭主动组件以维持电压之矩阵驱动方式。依据主动组件的种类区分为3端子型的TFT方式与2端子型的TFD（MIM）方式。2端子型的制造工程可简化。Anti-glaretreatment在液晶面板表面设置凹凸，以降低镜面反射之处理。Anti-glare处理的程度是利用积分球式光线透过率量测方式，以全光线透过率与散乱光透过率的比定义的。Anti-reflection在表面上包覆多层折射率不同的膜，用来消除界面的反射光之处理。ApertureRatio开口率，即每个像素可以透光的有效区域除以像素的总面积，开口率越高，整体画面越亮。Apertureratio单一画素中可透光面积与画素总面积之比值。开口率之大小与TFT所使用之金属导线特性及Cell制程能力有关。AspectRatio画面比率，即画面宽与高的比率，计算机画面及一般影响画面比率为4：3，HDTV可提供16:9的宽平面屏幕显示。Aspectratio显像后的resist膜，或用蚀刻形成于基板上的pattern之深度与宽度的比。Aspect比＝b/a（a：蚀刻的宽度，b：蚀刻的深度）B/M(BlackMatrix)于ColorFilter上，用来遮挡RGB各Pixel之间空隙，可大幅减少LCD光点见彼此干扰所产生的光害，呈现更稳定且清晰的画面品质，提高阅读舒适感，减轻长期使用造成的眼部压力及疲劳感。Cellgap指TFT基板与colorfilter基板上ITO膜之间隙，间隙之大小会影响液晶显示面板之穿透率及液晶反应时间。CF(ColorFilter)为了使液晶彩色显示器能显示彩色，在液晶cell内构成的零件之一，在透明基板上依规则配列红、绿、蓝3个原色的pattern。Colorfilter一般是由遮光用的Blackmatrix、color显示用的着色pattern、保护着色pattern的透明保护膜、以及驱动液晶用的透明电极膜等4种要素所构成。ContrastRatio对比度，为黑色与白色之间的对比。比值越高，色彩越鲜明。Contrastratio液晶On/Off时最大辉度与最小辉度之比。液晶依画面视角的不同，其contrast也会跟着改变，因此以最大的对比来表示。通常STN以10：1表示、TFT以100：1表示。TFTLCD工程中英对照表用语用语说明备注CRT(CathodeRadialTube)阴极射线管CS:Chargesharing电荷共享DatalineFT基板中传达显示信号之垂直方向的配线。因为接续在各画素TFT的Source电极或Drain电极上，故又称为Source线或Drain线。线宽通常为数um到10um不等。Dot构成各画素的要素点（显示的最小构成点）DPI(DotPerInch)点每英寸Duty占空比，高出点亮的阀值电压的部分在一个周期中所占的比率DVI(DigitalVisualInterface)VGA数字接口ECB(ElectricallyControlledBirefringence)电控双折射EL(ElectroLuminescence)电致发光，EL层由高分子量薄片构成EMI:ElectromagneticInterference电磁干扰Flicker画面辉度之周期性变动。也称为闪烁。出现CrossTalk较多的画面其Flicker也会较明显。其起因与Crosstalk相同FPC(FlexiblePrintedCircuit)可弯曲印刷电路FPGA:FieldProgrammableGateArray现场可编程门阵列FSTN(FormulatedSTN)薄膜补偿型STN,用于黑白显示Grayscale指介于最大辉度与最小辉度之间的中间调显示。数字信号输入时，与2,3,4,6,8bit相对应的有4,8,16,64,256阶调。模拟信号输入则可作无限阶调之显示。阶调显示的方式分为液晶驱动电压变化及frame间的时间调节。H-sync：Horizontalsynchronization水平方向同步信号技术名词TFTLCD工程中英对照表用语用语说明备注HTN(HighTwistedNematic)高扭曲向列的显示类型LaserAnneal雷射回火,低温多晶硅与非晶硅最大差异在于，LTPS的薄膜晶体管TFT，经过雷射回火(Laseranneal)的制程步骤；利用雷射作为热源，雷射光经过投射系统后，会产生能量均匀分布的光束，投射于非晶硅结构的玻璃基板上，当非晶硅结构玻璃基板吸收雷射的能量后，会转变成为多晶硅结构LSB:LeastSignificantBit最低有效位Luminance明亮度指一对象之可见亮度。其取决于可反射光之多寡并由一平方公尺(cd/m2)内之多少烛光来衡量其亮度。因表面物之反射属性之多样化，类似的照明度因对象表面反射属性之不同而造成不同的明视度。例如，同样的光源照射于一黑一白的房间，黑色房间之明视度相较于白色房间的明视度是非常低而且昏暗。LVDS(LowVoltageDifferentialSignaling)低压差分信号,数字显示接口，具有高效能、高速与低功率消耗等特色。LVDT:LinearVariableDifferentialTransforms线性可变微分变换MLG:MultiLevelGate多阶扫描Moire一种因LCD面板与背光模块刻痕方向不能匹配所造成的光干涉现象。MSB:MostSignificantBit最高有效位ODC：OverdriveControl过驱动控制OE：Outputenable输出使能信号PAL(PhaseAlternatingLine)逐行倒相制式PDN：PressureCookingTest信号驱动接口PDP(PlasmaDisplayPanel)等离子体显示器Pitch指光罩上规则配列的pattern中，任意2个量测pattern中心点的距离。技术名词TFTLCD工程中英对照表用语用语说明备注PixelPerInch指在ActiveArea对角线上单位英吋所具有之画素数目，用以表示画面之分辨率。Pre-bonding透过ACF将TCP以高精度定位于LCD面板上，然后利用ACF的半硬化性，以低温热压着进行预先接合之工程，假压着制程导入有助于高分辨率模块量产设计。PRF：PulseRepetitionFrequency脉冲循环频率PWM：Pulse-WidthModulation脉宽调制信号ResponseTime反应时间，指的是屏幕画素接收到信号后，由白转黑(Tr)及由黑转白(Tf)所需转变时间。所需转变时间是越短越好。较短的反应时间使画面转换更为顺畅。一般而言，其都低于60ms.Responsetime=Tr+TfRSDS：ReducedSwingDifferentialSignaling低摆幅差分信号Rubbingangle工作基板基准面与rubbingreel之间的角度。Rubbing的角度决定了视角的方向。S/R：ShiftRegister移位寄存器SSGC：SpreadSpectrumGenerateClock展频产生信号STN(SuperTwistedNematic)超扭曲向列的显示类型,具有扭转约180度~270度构造的nematic液晶或采用namatic液晶的显示类型。以一定角度射入到液晶分子轴上的直线偏光由于双折射性的缘故而变调成椭圆偏光。利用电场的有无将液晶分子控制在STN构造与垂直配向之间，即可用双折射性的变调加以驱动。黄色或蓝色是较普遍的，采用特殊的位相膜或补偿液晶板作白色显示，也可以应用于彩色显示上。STV：Startverticalpulse帧扫描开始信号SVGA(SuperVGA)显示器之显像分辨率单位，其横向扫描线数目为600条，纵向画素为800颗，因此画面总画素数目为480,000颗。技术名词TFTLCD工程中英对照表技术名词用语用语说明备注SXGA显示器之显像分辨率单位，其横向扫描线数目为800条，纵向画素为1400颗，因此画面总画素数目为1,120,000颗。TN(TwistedNematic)扭曲向列的显示类型,指使液晶分子做90度扭转。使用驱动电压低而且contrast比在100以上、可呈现高画质的TFT上（active方式）Touchpanel将menu显示于CRT或LCD的显示画面上，只要碰触画面即可操作命令的面板。切换画面即可翻页，可作对话型操作。也利用于workdata之输入上。TTL：Transister-Transister-Logic晶体管-晶体管逻辑电路Uniformity画面的均匀度，即Panel分为数等份，分别测量其中心点的亮度，所测得的最小值除以最大值即是此Panel均匀度，均匀度越高表示Panel画面越稳定。UXGA显示器之显像分辨率单位，其横向扫描线数目为1400条，纵向画素为1600颗，因此画面总画素数目为2,240,000颗。VFD(VacuumFluorescenceDisplay)真空荧光显示类型ViewAngle视角，即面对屏幕，往其上、下、左、右四方观测，调整此屏幕直到其无法由此四方看到屏幕画面之角度。以监看者之视觉舒适，可调整视角之广狭。VIOS：VoltageImagingOpticalSystem电压成像光学系统WhiteChromaticity色温，即为衡量RGB三原色的均衡值的测量方法，较高的色温产生偏蓝的白色，较低的色温产生偏红的白色。XGA显示器之显像分辨率单位，其横向扫描线数目为768条，纵向画素为1024颗，因此画面总画素数目为786432颗。TFTLCD工程中英对照表不良名词TFTLCD工程中英对照表不良名词TFTLCD工程中英对照表不良名词TFTLCD工程中英对照表不良名词TFTLCD工程中英对照表不良名词TFTLCD工程中英对照表不良名词TFTLCD工程中英对照表不良名词TFTLCD工程中英对照表不良名词TFTLCD工程中英对照表不良名词TFTLCD工程中英对照表不良名词TFTLCD工程中英对照表不良名词TFTLCD工程中英对照表不良名词TFTLCD工程中英对照表不良名词TFTLCD工程中英对照表不良名词TFTLCD工程中英对照表不良名词TFTLCD工程中英对照表不良名词TFTLCD工程中英对照表不良名词TFTLCD工程中英对照表QA专用名词用语用语说明备注AQL进行检查时,检查LOT的允许的质量限制范围BOM（BillOfMaterial）表现构成产品的材料与材料间、材料与装配件间等相互关系的目录，指开发及生产/制造活动的MasterdataBrightnessLCDModule画面的亮度CAR(CorrectiveActionRequest)消除对不合理事项及其他不合理状况的原因采取措施。为防止再发生的一系列改善及处理事项的相互确认Chromaticity将LCDModule色彩数值化后,用坐标表现出来的东西CIE：CommissionInternationaledeL‘Eclairage国际标准照明委员会ColorGamutLCDModule表现色彩的能力CRCONTRASTRATIO的简称.指Display一定的光时,指显示器上亮的部分与暗的部分的明暗对照Crosstalk在Dynamic驱动时,因驱动电压的问题,不该点灯的部分进行点灯,或点灯部分的亮度因别的异常点灯,contrast降低的现象CS(CustomerService)CustomerService的简称.为了处理从顾客接收的不满/要求/要求事项、以及其他质量Issue，而进行一系列工作DOA(DeadOnArrival)DeadOnArrival的简称.指向最终消费者(End-User)销售前发生的所有不良产品。对LCD来说，指Monitor/Notebook企业生产过程中发生的LCD不良E/SEngineeringSample.为确保开发产品的质量目标符合的性能及信赖性制造的样品,在此阶段完成产品开发ECN(EngineeringCh