LED产业化项目环评报告

建设项目基本情况兵项目名称会光电科技有蝇限公司LE虏D产业化项窗目方一期敬建设单位准光电科技有游限公司欧法人代表移联系人鼓通讯地址舍湖善联系逮02喊传真处4幸邮政编码励建设地点雄立项审批部秘门汗批准文号遣建设性质林绒仇捕怪帮消行业类别皱及代码重C3971护占地面积日（平方米）惑3000雀绿化面积惭（平方米）柄510叉总投资掠（万元）元7200酬其中：环保买投记资（万元）穷200疮环保投资占粒总投资比例房2.8%灾评价经费遇1.2万元姓预期投产日投期钉2007年完5月冰一、丙工程内容及访规模：具1滴.1浅项目背景红目前级，织国内外商用恢白光LED返发光效率在途30~40善流明塑/光瓦，比白炽提灯的光效者15样流明夏/娃瓦高出劲1部倍以上，因仓此LED目方前适用于以币指示为主的妻应用领域，狼如背光投源，全彩屏梨显示，交通鞠指示灯，电皇器指示，城投市景观亮化扬等。贯国际LED乞行业的市场可表现平稳并供稳步上升。挠我国的LE愁D水平虽然厦在某些领域警内已经取得剖重大突破，扩但我国现阶悬段的炸整体其行业水平与逃世界案先进水平已相比较还有脉很大的除差距躺。题主要表现在俘，类我国LED仇技术大部分低是跟踪国际注水平，超高惨亮度的LE铃D关键技术朗有待掌握，望在扣产耻业上还没有惜形成规模来化侧，产品在国京际像市场上所占厉的比例比较底低，没有充锣分打开市场常，铸中低档产品绕所占份额较袖大，高档产疮品少，尤其厕是新产品研叛发能力比较犁弱窗，需要加强额。漂我国在提高端LED追产业上有不烘少息优势。首先性，在市场拉钓动需求上，删我国巨大的易照明市场为费LED产业陕的提升打下票了良好的基危础，具有扩魄大国内市场吵开发的潜力白。其次，在止我国的LE安D产业体系牛已经有了一驳定的基础。悉具备了生产跟、开发大规混模尖端LE虽D产品的条胡件，已经初仅步形成从外崭延片生产、父芯片制备、躲器件封装、把集成应用的户比较完整的像产业链，产其品封装在国粒际市场上占瑞有较大的份队额。划第三胃，我国已经电具有较强的对LED研发德能力，86极3计划已经妙使LED技殃术有了较大史的突破，目携前需要进一雅步将其转化厅为现实生产吼力。摄漏光电科技有继限公司成立唐于2006林年4月。公师司专业从事纹用于路灯、喜闪光灯待和设LCD背光第源的半导体美照明功率型枯发光二极管膀（LED）拜芯片的制造境和销售，成拿为国内首家轿专业从事研招发和生产照刃明瓦级功率首芯片的企业膏。公司是由榨行业专家领脉军、留美归夫国骂博士成功团热队组成。该之团队核心成执员曾在美国南LED公司约AXT凑从事研发和杯生产，并曾银成功将国内斑LED公司膀上海蓝光扭善亏为盈。他禽们对LED词产业有深刻陕的认识，具秤备企业经营仇、市场、研袄发、生产和吩销售丰富的色实际操作经姨验。公司通阶过与国内外晋功率芯片封寨装厂如美国程LedEn雕gin锅、建台湾亿光译、捧南京汉德森笑光电雷、食韩国Lux砖pid密切狼合作，以性捞价比蜘优异税的产品奠定仓企业市场地挺位。公司除触拥有国际一帅流水准的人涂才团队外，勉还具有良好驾的国际合作衔基础，与美唉国、新加坡闹、英国等及梁国内的相关表研究机构和寿公司，建立误了密切的产棍学研合作关尸系；目前拥炭有两项专有辽技术和四项光发明专利。黄LED产品躺的技术特点遵如下：饿(汉1临)蜂电压：LE越D使用低压扰电源，供电忆电压在6-齐24V之间励，根据产品豆不同而异，狠所以它是一玻个比使用高患压电源更安茎全的电源，军特别适用于穴公共场所。徐

世些

颗(晋2充)尾效能：消耗易能量较同光盾效的白炽灯址减少80%谢。

杀具

雨(腥3洪)炕适用性：每僻个单元LE福D小片是3瑞-5mm示的正方形，思体世积滴很小，奖所以可以制狗备成各种形霜状的器件，冬并且适合于允易变的环境年。

摩奥

疯(截4跪)菠稳定性：1瓜0万小时，崭光衰为初始砖的50%。津

影洗

昌(滋5帆)盐

响应时间起：护一般林白炽灯的响捆应时间为毫辱秒级，LE娘D灯的响应则时间为纳秒崖级。

已俭

维(挑6狸)仍.对环境污偶染：无有害我金属汞。

腹蓬

欠(翻7率)舞颜色：改变艳电流可以变声色，发光二半极管方便地翻通过化学修症饰方法，调计整材料的能绘带结构和带叶隙，实现红雕黄绿兰橙多焰色发光。如爸小电流时为同红色的LE经D，随着电晨流的增加，尚可以依次变橡为橙色，黄丸色，最后为尸绿色。

稀每

游(挎8歌)异价格：晨相对鸟于白炽灯，殊LED的价弯格较贵，几秩只LED茅的价格祥可以与一只浊白炽灯的价袋格相当，而大通常每组信算号灯需由3职00～50差0只二极管哨构成。叮根据《中华垦人民共和国导环境保护法微》和《环境途影响评价法某》的有关规狸定，奴色光电汉科技有限公流司于习2006年遵11月27钉日盐委托宽中钢集团武靠汉安全环保摇研究院三承担有关索“顿税光电黑科技蛙睁LED涛产业化惯项目赞一期些”勇的环境影响活评价工作赌，统并编制环境劲影响报告表俗。余1裂.2项目称建设概况窜退项目建设地代点全该项目拟在宴武汉光电国丝家实验室旷内建设，删武汉光电国溉家实验室贴坐惊落往于啊喻家山东麓掉，毗邻风景上秀丽的东湖浩磨山短，恳南接珞喻东扮路，西临喻抚家湖路，北产枕喻家山东社路拒。是惩由教育部、泥湖北省和武搭汉市共建，廊其依托单位跑是华中科技懒大学，另有猫三个组建单乱位：武汉邮啊电科学研究傲院、中国科云学院武汉物陆理与数学研奇究所、华中还光电技术研命究所。实验参大楼总建筑吸面积冠45000卧平方米围，其造型具幻有时代气息挣。已于20狮05年秋季天开始投入使越用。武汉光航电国家实验要室是国家科物技创新体系经的重要组成玻部分，也是智“武汉·中厦国光谷”的墨创新研究基典地。浪门建设规模与蚊内容选本项目拟引念进国外生产抓设备、技术衫和国内的配凉套设备，采防用先进的生扮产工艺及加助工方式，项汉目一期笋拟建立一条娃瓦级LED累生产线，进韵行研发和初插试，预计年鼓产量为12毒000只（肃每只上含L倦ED300枕—样500粒）都。项目投资颈总额为72裹00万元人茄民币，其中件资金投入4横200万元魂人民币，同拿时由国家光包电实验室无兵偿提供折合互3000万童元人民币的思设备及厂房疼，包括交2000平渴方米警的超净实验绸室。治项目所需的炎外延片采取妥外购方式，误其后续制备对工艺主要是添在基底上通纳过沉积或生涉长等方法制沿备一层掩模勤层，然后通年过光刻等手诚段将需要在岛基底上刻搜蚀出的图形混先加工到掩泻模上，接着燃使用刻蚀液盈进行刺刻蚀，最后日去除掩模层能，在基底上弓得到所需的顾图形和结构粱。忙经薄膜、磨境片、划片、加裂片并经老鼠化测试后，席分拣出合格扩的芯片包装床入库，生产垄出的芯片约涛为50~1齐000nm负，检测合格爷后外销。炕该项目符合陕《外商投资电产业指导目炉录》（20宾04年修订占）鼓励类第钱三类制造业差第（二十）观条第3款：递大屏幕彩色欢投影显示器姐用光学引擎剖、光源、投致影屏、高清山晰度投影管页和LCOS猎（硅基液晶伏，一种数码轧成像技术）薄模块等关键件件制造。设极主要生产工群艺清洗清洗薄膜磨片测试分拣包装O2、Cl2、Ar、N2等裂片入库划片光刻研磨液酸、碱、丙酮、乙醇等光刻胶显影液超纯水擦图1主符要生产工艺录流程图遇佳主要生产设挨备选型将LED项目唤生产过程中字所使用的主桨要设备详见剖下表：饭表1吼净LED生产役用主要设备刊一览表序号设备名称规格型号台数产地1ICP-RIE等离子刻蚀系统Cirie-2001台湾2ITO电子束蒸发台Peva-60011台湾3Metal电子束蒸发台Peva-600E1台湾4PECVD气相辅助沉积系统Cede-1001台湾5研削机SGM-63011日本6抛光机SW072日本7贴片压力机SKM1001日本8激光划片机OLSM-90TP-Y1日本9裂片机OBM-90YP-Y1日本106”晶粒扩张机6”晶粒扩张机1台湾11大功率LED测试仪LEDTester617HC4台湾12半自动点测机（ProbeStation）LEDA-8SEVA-3G4台湾13LEDMappingSorterLS-325C4台湾槽燥项目建设饿主要原辅材争料及动力消商耗朽表2巡主要原辅材麦料表序号材料名称单位消耗量供应及协作厂家1外延片片/天184进口3金g/d48国产4光刻胶kg/d0.12国产6显影剂kg/d16.7国产7硫酸l/d10国产8硝酸l/d3国产10去胶剂cc/d500国产12抛光液l/d2.8国产13扩展膜m2/d5.28国产14乙醇l/d30国产15丙酮l/d15国产16盐酸l/d5国产17特种气体kg/d0.2国产袖表3晨动力消耗表动力名称单位用量质量指标备注电kW600220/380V，50HZ本期氮气Nm3/h5压力0.6～0.7MPa，纯度99.995%本期纯水m3/h2电阻率＞18MΩ·cm颗粒＜50个/ml（0.1μm）细菌＜1个/100ml压力：0.35±0.05Mpa使用温度：22±2℃本期污尘车间平面药布置筐本项目建设穿地点位于国乞家光电实验鸭室内，生产树过程中所需载要水电依托厨武汉国家光疏电实验室现报有设施。生练产车间主要岂使用国家光亡电实验室内族大约200矮0平方米的率超净实验室利，其详细布亿置图见附图凝2。年伴公用工程勒(1)给排锋水扩本项目可依否托国家光电窄实验室现有乳的公用设施拌工程，因此伸，供水直接轿使用光电实坏验室的供水挥管网。本项俗目运营期间刺产生一定量啦废水，经处暗理后与国家搞实验室污水狮一起排入城走市污水管网助，最终由龙里王咀污水处狂理厂处理后芳排入南湖。重拟建项目产擦生的废水主棋要有工艺废怀水及生活污彼水。工艺废燥水先后进入论均质池、中摆和池和沉淀任池进行絮凝扛沉淀，上清钳液与生活污情水一起排入金城市污水管欢网，由龙王确咀污水处理樱厂处理达标努后排放。阀(2)供电离工程困直接使用国考家光电实验泛室现有的供很电设施，本疫项目建设年盈电消耗量为社18万千瓦盾时。折惭劳动定员万与工作制度章拟谨建项目建成轻后，劳动定槐员为46人仆，其中办公峡管理人员为况14人，车受间工作人员推为32人。蔑年工作制度哭为300天始。摸犁投资估算组项目投资总惕额为720羡0万元人民鹿币，其中资轨金投入42渐00万元人湖民币，同时系由国家光电筛实验室无偿蜘提供折合3去000万元狮人民币的设屿备及厂房。晕与本项目有俘关的原有污但染情况及主榜要环境问题间：侍（1）废水调国家光电实谢验室科研过绘程中产生的晓污水为计实验污水董（主要为无荣机酸碱废水俗）和生活污盾水嫌。实验污水桶经中和、沉平淀处理后与唇生活污水一陕起排入城市缩下水管网。董（2）昆废气剂国家光电实螺验室产生的卵废气为微量央酸性废气（脚主要为HC样l、HNO反3所等）、微量偶碱性废气（口NH桶3矮）以及有机纳溶剂废气（捷主要为VO雨C）。这些遇废气经由集呈气罩收集，厉通过耐腐蚀异性风管送入诉酸废气净化丘器和碳纤维多废气净化器拨。其中，译WSJ浸-3A删型新型吸附裤剂酸废气净粮化器芒对微量酸性剪废气（HC绑l、HNO源3沿等）处理效名率达95%巡以上。轨WFJ膜-4A绿型碳纤维废缝气净化器含对有机溶剂夸废气净化效由率可达为9毅5%爬—葬99%，对驳微量碱性废子气（NH使3春）处理效果绕也很好，可降以达到85揪%以上，综败上，陆净化遵后的废气浓唤度很低，扬经由屋顶的戏排气筒排放嫂，排气筒高恋度高于周围搬其他建筑物衣（排气筒高砌度大于掏20米肺），哄对评价区域讽内的环境空拦气质量影响方较小。粮