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文档简介

近红外线阻断膜报告人：钱立朋准备知识近红外（NIR）辐射是波长大于红色光波长的一定范围的电磁辐射，其波长范围为780~2500nm。近红外线阻断膜是在玻璃或柔性薄膜基材上通过一定的涂（镀）膜工艺制备的一层对近红外线有阻断作用的薄膜。分类根据对近红外线阻断的原理，主要分为：1、吸收型2、反射型一、吸收型吸收型近红外线阻断膜通常由近红外吸收剂、树脂基体以及助剂组成。其中关键材料是近红外吸收剂。近红外吸收剂分为有机类和无机类。树脂基体主要作为成膜物质，其粘接其他组分形成膜层的功能，它虽然不具有吸收近红外线功能，但是对膜层的物理机械性能其决定性作用。1、有机近红外吸收染料（1）菁染料（2）酞菁染料（3）硫代双烯类染料（4）芳甲烷型染料（5）醌型染料（6）偶氮染料3、成膜物质常用的有环氧树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯、醇酸树脂、酚醛树脂、乙烯类树脂以及氟碳树脂、有机硅树脂等二、反射型反射型近红外线阻断膜主要有：半导体薄膜金属膜金属-介质膜全介质多层膜近红外线阻断膜制备技术近红外线阻断膜制备技术有涂布技术、物理气相沉积、化学气相沉积等，其中物理气相沉积又包括真空蒸镀、溅射和离子镀等方法。2、真空蒸镀真空蒸镀法是在真空条件下通过加热使薄膜初始材料气化，材料的蒸汽沉积在温度较低的基片上，形成所需要的薄膜。根据蒸发源不同分为电阻加热蒸镀、电子束蒸镀、激光蒸镀等3、磁控溅射其工艺原理是将基材送入设有磁控阴极和溅射气体（氩气）的真空室内，阴极加负压，在真空室内辉光放电，产生等离子体，由于靶材带负电，等离子体中带正电的气体离子被加速，并以相当于靶极位降的能量撞击靶面，将靶材的原子轰出来，使之沉淀在基材表面上而形成薄膜。按工作电源不同可分为直流磁控溅射和射频溅射4、离子束溅射运用一个功率较大的溅射离子源产生高

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