标准解读

《YS/T 1164-2016 硅材料用高纯石英制品中杂质含量的测定 电感耦合等离子体发射光谱法》是一项国家标准,专门针对用于硅材料制造中的高纯度石英制品内杂质元素含量检测方法进行了规范。该标准详细规定了采用电感耦合等离子体发射光谱(ICP-OES)技术对样品进行分析的具体步骤和要求,适用于铝(Al)、铁(Fe)、钙(Ca)、镁(Mg)、钾(K)、钠(Na)、钛(Ti)等多种常见金属及非金属杂质元素的定量分析。

根据标准内容,首先需要将待测样品制备成适合ICP-OES测试的形式,通常为溶液状态。这一步骤可能涉及溶解或消解过程,并且必须确保所有操作不会引入额外的污染。接着,在设定好的仪器条件下进行测量,通过比较标准物质与未知样品之间特定波长下的发射强度来确定目标元素浓度。为了保证数据准确性,标准还强调了实验室内质量控制的重要性,比如使用空白对照、加标回收试验以及定期校准设备等措施。


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  • 现行
  • 正在执行有效
  • 2016-07-11 颁布
  • 2017-01-01 实施
©正版授权
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文档简介

ICS81040

Q35.

中华人民共和国有色金属行业标准

YS/T1164—2016

硅材料用高纯石英制品中杂质含量的测定

电感耦合等离子体发射光谱法

Testmethodforthecontentofimpuritiesinhighpurityquartzusedforsilicon

material—Inductivelycoupledplasmaatomicemissionspectrometrymethod

2016-07-11发布2017-01-01实施

中华人民共和国工业和信息化部发布

中华人民共和国有色金属

行业标准

硅材料用高纯石英制品中杂质含量的测定

电感耦合等离子体发射光谱法

YS/T1164—2016

*

中国标准出版社出版发行

北京市朝阳区和平里西街甲号

2(100029)

北京市西城区三里河北街号

16(100045)

网址

:

服务热线

:400-168-0010

年月第一版

201812

*

书号

:155066·2-33756

版权专有侵权必究

YS/T1164—2016

前言

本标准按照给出的规则起草

GB/T1.1—2009。

本标准由全国有色金属标准化技术委员会提出并归口

(SAC/TC243)。

本标准起草单位亚洲硅业青海有限公司昆明冶研新材料股份有限公司洛阳中硅高科技有限

:()、、

公司新特能源股份有限公司

、。

本标准主要起草人王体虎魏东亮蔡延国宗冰季静佳陈英张云晖张园园邱艳梅

:、、、、、、、、。

YS/T1164—2016

硅材料用高纯石英制品中杂质含量的测定

电感耦合等离子体发射光谱法

1范围

本标准规定了多晶硅用高纯石英制品中铝钙钾钠铜镁磷砷锌镍硼含量的测定方法

、、、、、、、、、、。

本标准适用于多晶硅用高纯石英制品中铝钙钾钠铜镁磷砷锌镍硼含量的测定测定范

、、、、、、、、、、,

围见表

1。

表1测定范围

元素质量分数元素质量分数

/(μg/g)/(μg/g)

铝磷

1.00~50.000.10~10.00

钙砷

1.00~50.000.10~10.00

钾锌

0.10~50.000.10~10.00

钠镍

1.00~50.000.10~10.00

铜硼

0.10~5.000.10~10.00

1.00~5.00——

2规范性引用文件

下列文件对于本文件的应用是必不可少的凡是注日期的引用文件仅注日期的版本适用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于本文件

。,()。

分析实验室用水规格和试验方法

GB/T6682—2008

数值修约规则与极限数值的表示和判定

GB/T8170

3方法提要

称取一定量的试样用氢氟酸溶解使二氧化硅转化为四氟化硅除去残渣用盐酸溶解试样溶液

,,,。

引入电感耦合等离子体原子发射光谱仪在选定的测定条件下测量试液中各元素的含量

,,。

4试剂

41实验用水应符合中规定的一级水的要求

.GB/T6682—2008。

42氢氟酸ρ每种杂质元素含量均低于

.(≈1.14g/mL),100ng/L。

43盐酸ρ每种杂质元素含量均低于

.(≈1.12g/mL),100ng/L。

44盐酸

.(1+1)。

45单元素标准贮存溶液采用国内外可以量值溯源的有证标准物质其质量浓度为

.:,1000μg/mL。

46混合

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