标准解读

《YS/T 1160-2016 工业硅粉定量相分析 二氧化硅含量的测定 X射线衍射K值法》是一项用于工业硅粉中二氧化硅含量测定的标准方法。该标准详细规定了使用X射线衍射技术结合K值法来定量分析样品中的二氧化硅含量的具体步骤和技术要求。

在执行这一标准时，首先需要对样品进行预处理，包括但不限于研磨至合适粒度、均匀混合等操作，确保样品状态符合测试需求。随后，利用X射线衍射仪对样品进行扫描，获取其衍射图谱。根据所得到的数据，通过计算特定角度下的峰强度比（即K值），并与已知标准物质或数据库中的数据对比，可以得出样品中各组分的比例信息，特别是关注对象——二氧化硅的相对含量。

此方法基于不同晶体结构物质对于X射线散射特性差异的基本原理，能够有效区分并量化复杂基体材料中目标化合物的存在量。适用于工业生产过程中质量控制以及科学研究等领域内对高纯度或含有一定比例非晶态成分的硅基材料进行精确表征。

整个过程需严格按照标准规定的条件设置仪器参数，并注意实验环境的温度湿度等因素可能对结果造成的影响。此外，还应定期校准设备以保证测量精度，同时采取适当措施避免外部干扰源对测试结果产生不良影响。


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  • 现行
  • 正在执行有效
  • 2016-07-11 颁布
  • 2017-01-01 实施
©正版授权
YS/T 1160-2016工业硅粉定量相分析二氧化硅含量的测定X射线衍射K值法_第1页
YS/T 1160-2016工业硅粉定量相分析二氧化硅含量的测定X射线衍射K值法_第2页
YS/T 1160-2016工业硅粉定量相分析二氧化硅含量的测定X射线衍射K值法_第3页
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文档简介

ICS29045

H12.

中华人民共和国有色金属行业标准

YS/T1160—2016

工业硅粉定量相分析

二氧化硅含量的测定

X射线衍射K值法

Siliconpowder-quantitativephaseanalysis—

Determinationofsilicondioxidecontent—

ValueKmethodofX-raydiffraction

2016-07-11发布2017-01-01实施

中华人民共和国工业和信息化部发布

YS/T1160—2016

前言

本标准按照给出的规则起草

GB/T1.1—2009。

本标准由全国有色金属标准化技术委员会提出并归口

(SAC/TC243)。

本标准起草单位昆明冶金研究院广州有色金属研究院国家有色金属及电子材料分析测试中心

:、、、

云南永昌硅业股份有限公司通标标准技术服务有限公司

、。

本标准主要起草人李和平胡耀东袁威金自钦高珺杨林张晶王书明李扬王钟颖王建波

:、、、、、、、、、、。

Ⅰ

YS/T1160—2016

工业硅粉定量相分析

二氧化硅含量的测定

X射线衍射K值法

1范围

本标准规定了工业硅粉中二氧化硅含量的测定方法

。

本标准适用于工业硅粉中二氧化硅含量的测定测定范围为

,≥1%。

2规范性引用文件

下列文件对于本文件的应用是必不可少的凡是注日期的引用文件仅注日期的版本适用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于本文件

。,()。

数值修约规则与极限数值的表示和判定

GB/T8170

3方法原理

当射线照射晶体物质时将产生衍射每种晶体物质都有其特定的衍射特征在一定的条件下

X,,。,

混合物质中某物质所产生的衍射强度与含量成正比测量衍射线强度当被测物质与已知含量的参考

。,

物质的衍射线强度确定后可对被测物质进行定量分析

,。

4试剂与材料

41无水乙醇分析纯

.,。

42参考物质分析纯

.α-Al2O3,。

43分析纯

.SiO2,。

44毛玻璃毛面厚度面积不小于

.,0.1mm,8cm×8cm。

5仪器与设备

51射线衍射仪

.X。

52分析天平感量为

.,0.1mg。

53玛瑙研钵

.。

54样品框架

.。

6样品制取

与试样应能通过

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