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文档简介

氮化硅薄膜

----制备技术介绍什么叫做光学薄膜？所谓光学薄膜，首先它应该是薄的然后它应该会产生一定光学效应的那么要薄到什么程度呢？定性的讲：它的厚度应该和入射光波长可以相 比拟的物理意义上讲：能引起光的干涉现象的膜层与镀膜技术密切相关的产业眼镜镀膜----AR幕墙玻璃----AR滤光片液晶领域----ITO膜车灯、冷光镜、舞台灯光滤光片光通信领域：DWDM、光纤薄膜器件红外膜激光领域----激光反射腔高反射膜CD、DVD驱动器投影显示数码领域氮化硅薄膜制备技术介绍物理气相沉积(PVD)法PVD主要的方法有真空蒸（Vacuumevaporation）、溅射镀膜（Vacuumsputterng）、离子镀（Tonplating）化学气相沉积(CVD)法CVD主要的方法有高温热化学气相沉积(HTCVD)法、等离子体化学气相沉积(PECVD)法、光化学气相沉积(PCVD)法

真空蒸镀真空蒸镀是利用电阻加热、高频感应加热或高能束（电子束、激光束、离子束等）轰击使镀膜材料转化为气相而沉积到基体表面的一种成熟技术。广泛应用与Au、Ag、Cu、Ni、Cr等半导体材料及电阻材料成膜，除特殊材料外，差不多都能满足镀膜要求。溅射镀膜溅射镀膜是利用溅射现象而成膜的方法。溅射镀膜是在充有一定氩气的真空条件下，采用辉光技术，将氩气电离产生氩离子，氩离子在电场力的作用下加速轰击阴极，使阴极材料（镀膜材料）被溅射下来，沉积到工件表面形成薄膜的方法。溅射镀膜又分为直流溅射、射频溅射和磁控溅射。等离子体化学气相沉积(PECVD)法

PECVD法由于其灵活性、沉积温度低和重复性好而扩大了CVD法的应用范围，特别是提供了在不同基体上制备各种薄膜的可能性。由于它适应了当前大规模集成电路生产工艺向低温工艺方向发展的趋势，越来越引起学术界的重视，成为制备氮化硅薄膜最常用的方法。光化学气相沉积(PCVD)法PCVD法是一种低温制备氮化硅薄膜的新工艺，它利用紫外光或激光对反应气体进行光致分解，在低温(<250℃)下沉积得到固态薄膜。PCVD法避免了高能粒子对薄膜表面的轰击损伤，膜层致密光滑，也避免了高温、

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