标准解读
《GB/Z 32490-2016 表面化学分析 X射线光电子能谱 确定本底的程序》是指导性技术文件,旨在为使用X射线光电子能谱(XPS)进行表面化学分析时如何准确确定背景信号提供一套标准化的方法。该标准适用于需要通过XPS技术来研究材料表面组成和结构的研究者和技术人员。
在X射线光电子能谱分析中,样品受到X射线激发后会发射出光电子,这些光电子的能量分布反映了样品表面元素的信息。然而,在实际测量过程中,除了来自样品本身的信号外,还存在一个由多种因素引起的连续背景信号,这被称为“本底”。正确地从原始数据中减去这个本底对于获得准确可靠的分析结果至关重要。
根据GB/Z 32490-2016的规定,确定本底的过程主要包括以下几个步骤:
- 首先,选择合适的能量范围作为参考区域,在这个区域内没有明显的特征峰出现。
- 接着,采用适当的数学模型拟合所选参考区间的实验数据点,以获得最佳描述该区间内本底形状的函数表达式。
- 最后,将得到的本底曲线应用于整个谱图上,并从中扣除相应部分,从而得到去除本底影响后的净谱图。
此外,标准还提供了关于如何评估不同条件下(如不同的仪器设置、样品制备方法等)可能对最终结果造成的影响的信息,以及推荐了一些可以用来检验所用本底校正方法有效性的测试案例。通过遵循这套程序,用户能够提高其XPS数据分析的质量与可靠性。
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....
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- 现行
- 正在执行有效
- 2016-02-24 颁布
- 2017-01-01 实施
文档简介
ICS7104040
G04..
中华人民共和国国家标准化指导性技术文件
GB/Z32490—2016/ISO/TR183922005
:
表面化学分析X射线光电子能谱
确定本底的程序
Surfacechemicalanalysis—X-rayphotoelectronspectroscopy—
Proceduresfordeterminingbackgrounds
(ISO/TR18392:2005,IDT)
2016-02-24发布2017-01-01实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局发布
中国国家标准化管理委员会
GB/Z32490—2016/ISO/TR183922005
:
目次
前言
…………………………Ⅲ
引言
…………………………Ⅳ
范围
1………………………1
术语和定义
2………………1
缩略语
3……………………1
中本底的类型
4XPS………………………1
电子能谱图中射线卫星峰的扣除
5X……………………1
电子能谱图中非弹性电子散射的估算与扣除
6…………2
概述
6.1…………………2
解析非弹性电子散射的程序
6.2………………………2
解析非弹性和弹性散射的程序
6.3……………………4
不常用的程序
6.4………………………4
表面和内壳层空穴效应在确定本底中的作用
6.5……………………4
确定非均匀材料的本底
6.6……………4
扣除电子能谱中非弹性散射效应的方法比较
7…………5
参考文献
………………………6
Ⅰ
GB/Z32490—2016/ISO/TR183922005
:
前言
本指导性技术文件按照给出的规则起草
GB/T1.1—2009。
本指导性技术文件使用翻译法等同采用表面化学分析射线光电子能
ISO/TR18932:2005《X
谱确定本底的程序
》。
本指导性技术文件由全国微束分析标准化技术委员会提出并归口
(SAC/TC38)。
本指导性技术文件负责起草单位清华大学中山大学
:、。
本指导性技术文件主要起草人李展平陈建姚文清谢方艳曹立礼朱永法
:、、、、、。
Ⅲ
GB/Z32490—2016/ISO/TR183922005
:
引言
本指导性技术文件提供了确定射线光电子能谱本底的指南本指导性技术文件所描述
X(XPS)。
的确定本底方法适用于射线从固体表面和表面纳米结构中激发的光电子及俄歇电子能谱的定量
X
评估
。
射线光电子能谱中本底确定的应用基于以下需求表面和界面层以及纳米结构的化学成分信
X:(1)
息包括随深度变化的成分的准确定量准确确定各种表面组分的化学状态从光电子能谱中获
();(2);(3)
取固体的电子结构信息本征谱是由中感兴趣的射线辐照产生的光电离或光激发以及俄歇电
。XPSX
子衰减过程产生的并需要进一步分析因此将谱图中的本征部分与由其他过程产生的谱本底分离开
,,()
来是必要的广泛使用于本底扣除的程序在文献[1-4]已有详细的综述本指导性技术文件总结了
。XPS。
最常用的程序及应用包括商业软件提供和使用的先进实验室提供和使用的个别实验室
,(i),(ii),(iii)
为深入理解谱中有关过程使用的
XPS。
Ⅳ
GB/Z32490—2016/ISO/TR183922005
:
表面化学分析X射线光电子能谱
确定本底的程序
1范围
本指导性技术文件给出了确定射线光电子能谱中本底的指南本指导性技术文件适用于固体
X。
表面射线激发的光电子和俄歇电子能谱的本底确定
X。
2术语和定义
界定的术语和定义适用于本文件[5]
ISO18115。
3缩略语
下列缩略语适用本文件
。
俄歇电子能谱
AES(Augerelectronspectroscopy)
分强度分析
PIA(Partialintensityanalysis)
TM电子能谱的表面定量分析
QUASES(Quantitativeanalysisofsurfacesbyelectronspectroscopy)
反射电子能量损失谱
REELS(Reflectionelectronenergylossspectroscopy)
射线光电子能谱
XPSX(X-rayphotoelectronspectroscopy)
4XPS中本底的类型
射线照射表面激发的电子是由一次光电离过程产生的光电子或者芯能级空穴的衰减过程引起的
X
俄歇电子样品中的非弹性散射电子二次电子级联碰撞以及在非单色射线照射下由射线伴线和
。、XX
韧致辐射激发的光电子均对谱即电子能量分布有贡献构成了本底在实际中通常没有必要
(),。XPS,
确定在低能端的二次电子级联碰撞的本底
。
本指导性技术文件第章描述了扣除卫星峰的方法第章描述了扣除非弹性电子散射方法
5,6,
第章简单比较了从电子能谱图中扣除非弹性电子散射效应各种程序的使用效果
7。
注1在某些情况下本征部分的强度由无损失的主峰和与产生芯能级空穴相联系的各种电子激发构成有时把
:,“”。
后者的本征贡献表述为本征本底鉴别各种本征损失峰和测量它们的强度对的定量应用是重要的
“”。XPS。
注2由噪声引起的分析信号随时间的波动会导致信号强度的不确定性本指导性技术文件所讨论的本底类型不
:。
包括噪声对强度的贡献
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