标准解读

《GB/T 23764-2009 光催化自清洁材料性能测试方法》是一项国家标准,旨在规定光催化自清洁材料的性能测试方法。该标准适用于以TiO₂为主要成分或其他具有类似光催化活性物质制成的各种形态(如薄膜、涂层等)的光催化自清洁材料。

根据这项标准,光催化自清洁材料的主要性能包括但不限于降解有机污染物的能力、抗菌性能以及亲水性或疏水性的变化情况。为了评估这些性能,标准中提出了几种具体的测试方法:

  1. 降解率测定:通过将含有特定浓度目标污染物(例如甲基橙溶液)的样品置于模拟太阳光照条件下一定时间后,测量其吸光度的变化来计算降解效率。这反映了材料在光照作用下分解有害物质的能力。

  2. 抗菌性能测试:采用平板计数法或者振荡培养法,在有无光照条件下分别对涂覆了待测样品的载体表面进行细菌接种培养,之后对比分析菌落数量差异,以此评价材料抑制微生物生长的效果。

  3. 接触角测量:用于表征材料表面润湿性质的变化。通常先测定未处理状态下材料与水滴之间的初始接触角,然后经过一定时间光照处理后再重复此步骤,观察并记录前后接触角度的变化趋势,从而判断材料是否具备良好的超亲水特性或保持原有的疏水状态不变。


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  • 现行
  • 正在执行有效
  • 2009-05-13 颁布
  • 2010-01-01 实施
©正版授权
GB/T 23764-2009光催化自清洁材料性能测试方法_第1页
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文档简介

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中华人民共和国国家标准

犌犅/犜23764—2009

光催化自清洁材料性能测试方法

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20090513发布20100101实施

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局

发布

中国国家标准化管理委员会

犌犅/犜23764—2009

前言

本标准修改采用日本标准JISR17031:2007《光触媒材料的自清洁性能试验方法第一部分:水

接触角的测定》(日本版)。

本标准根据日本标准JISR17031:2007《光触媒材料的自清洁性能试验方法第一部分:水接触

角的测定》起草。

考虑到我国国情,在采用日本标准JISR17031:2007《光触媒材料的自清洁性能试验方法第一

部分:水接触角的测定》时,本标准做了一些修改。有关技术性差异已编入正文中并在它们所涉及的条

款的页边空白处用垂直单线标识。在附录A及附录B中给出了这些技术性差异、结构性差异及其原因

的一览表以供参考。

本标准的附录A、附录B、附录C为资料性附录。

本标准由中国石油和化学工业协会提出。

本标准由全国化学标准化技术委员会无机化工分会(SAC/TC63/SC1)归口。

本标准负责起草单位:中国科学院理化技术研究所、中国科学院化学研究所国家纳米工程中心。

本标准参加起草单位:北京首创纳米科技有限公司、广州市华之特奥因特种材料科技有限公司、福

州大学光催化研究所。

本标准主要起草人:只金芳、郑苏江、江雷、张玲娟。

本标准为首次发布。

犌犅/犜23764—2009

光催化自清洁材料性能测试方法

1范围

本标准规定了光催化自清洁材料性能测试方法的术语和定义、安全提示、一般规定、原理、试剂、设

备、实验环境、样品制备、分析步骤、结果计算、试验报告。

本标准适用于可制备成平面状的自清洁材料。

本标准不适用于黑暗环境中使用及可见光应答型的光催化自清洁材料,以及水可以浸润的透水性

材料。

2规范性引用文件

下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件,其随后所有

的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准,然而,鼓励根据本标准达成协议的各方研究

是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本适用于本标准。

GB/T6682—2008分析实验室用水规格和试验方法(ISO3696:1987,MOD)

3术语和定义

下列术语和定义适用于本标准。

3.1

光催化狆犺狅狋狅犮犪狋犪犾狔狊犻狊

在一定光源激发下,所产生的催化作用,称为光催化。

3.2

自清洁狊犲犾犳犮犾犲犪狀犻狀犵

在一定条件下,能保持表面清洁不易被污染的性质。

4安全提示

本试验方法中使用的紫外光源对于人眼及皮肤具有伤害,操作者须小心谨慎!注意反应器须密闭,

当光源打开时不要用眼睛直接观察。

本试验方法中使用的部分试剂具有腐蚀性,操作者须小心谨慎!如溅到皮肤上应立即用水冲洗,严

重者应立即治疗。

5一般规定

本标准所用试剂和水,在没有注明其他要求时,均指分析纯试剂和GB/T6682—2008中规定的三

级水。

6原理

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