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文档简介
注入机进阶报告射频离子源气体面板加速器氩气面板：提供氩气—射频离子源点火的介质，并在在红磷加热升华前，维持射频等离子体。红磷加热器硅片
射频离子源：将介质离子化，提供工艺需要的等离子体。加速器：引出离子并使其加速，使离子获得一定的能量。硅片：离子注入的靶材。1.点火：使用氩气点火，气压要在-3次方下。手动调节2.加速SourcechamberIonbeamcurrent
（1）在加速场中，较宽的电场对等离子体进行束流，通过前后左右的电场将离子左右的动量抵消，使离子垂直向下从缝隙中进入第二电场。在第二电场中，通过反向电场，剔除等离子体中多余的电子，减少干扰。（2）影响加速场的因素：1.第一电场中两板之间的距离d2.两个电场的场强E3.缝隙的宽度4.电场中的压强电源的使用：RF380Vsuppression220V—10kVExtaction330V—40kV泵20kV水：
各种泵、离子源、加速器、皮带轴、电磁铁CDA:阀门、水冷系统、各种气
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