薄膜问题讨论课件_第1页
薄膜问题讨论课件_第2页
薄膜问题讨论课件_第3页
薄膜问题讨论课件_第4页
薄膜问题讨论课件_第5页
全文预览已结束

下载本文档

版权说明：本文档由用户提供并上传，收益归属内容提供方，若内容存在侵权，请进行举报或认领

文档简介

FilmIssuesDougPelleymounter&KenNauman高级应用工程师1薄膜问题和其它系统的最优方案用于反应溅射的闭环控制Lambda探测仪残余气体分析仪（RGA）等离子体发射监控器(PEM)外部电压控制新的Crystal®

电压控制带有多倍射频供应的公共激励振荡器(CEX)和相移交流阳极下降气流均匀性薄膜应力和粘着力溅射速率SiO2二氧化硅结晶控制厚度AZO氧化锌铝vs.ITO氧化铟锡vs.CdSte每种陶瓷的成本(合金,联合溅射,等等.)2薄膜问题

提问与解答时间3

Nasdaq®GM:AEIS

ENG-FilmIssues-150-039/24/2008Specificationsaresubjecttochangewithoutnotice.AdvancedEnergy®,Crystal®,FlatPanelFocusSM,PVSunTimesSM,andSputterSpotlight®areU.S.trademarksofAdvancedEnergyIndustries,Inc.2008AdvancedEnergyIndustri

人人文库> 全部分类> 行业资料 > 医学制药

温馨提示

  • 1. 本站所有资源如无特殊说明，都需要本地电脑安装OFFICE2007和PDF阅读器。图纸软件为CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.压缩文件请下载最新的WinRAR软件解压。
  • 2. 本站的文档不包含任何第三方提供的附件图纸等，如果需要附件，请联系上传者。文件的所有权益归上传用户所有。
  • 3. 本站RAR压缩包中若带图纸，网页内容里面会有图纸预览，若没有图纸预览就没有图纸。
  • 4. 未经权益所有人同意不得将文件中的内容挪作商业或盈利用途。
  • 5. 人人文库网仅提供信息存储空间，仅对用户上传内容的表现方式做保护处理，对用户上传分享的文档内容本身不做任何修改或编辑，并不能对任何下载内容负责。
  • 6. 下载文件中如有侵权或不适当内容，请与我们联系，我们立即纠正。
  • 7. 本站不保证下载资源的准确性、安全性和完整性, 同时也不承担用户因使用这些下载资源对自己和他人造成任何形式的伤害或损失。

最新文档

评论

0/150

提交评论