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文档简介
PECVD段工艺简介
——洪叶可
2008.10.24板式(Roth&Rau)管式(Centrotherm)常见问题目录二、板式(Roth&Rau)软件界面程序操作工艺参数常见问题
工艺腔界面软件界面设备界面:参数、趋势、数据资料记录、检漏测试盖板控制、控制、真空泵、手动传输设备、工艺腔、集气系统、维护、停止;工艺腔界面:参数、工艺方案;趋势:等离子体源趋势(反射、功率),综合趋势(MFC、压力、温度、真空泵转速);检漏测试:对各个腔体进行检漏测试;工艺设置界面抽真空的步骤进料腔工艺腔出料腔工艺腔:加热区、沉积区、冷却区。平时说的工艺腔指沉积区抽真空顺序:先中间后两边。充气时则相反。只有当工艺腔的压强达到一定值,才能对工艺腔充气。充气时,加热会自动关闭。降温时要求为抽真空状态。管式centrotherm软件界面程序操作工艺参数常见问题
Systemstate1、新建查询2、选择炉管3、选择日期选择所有记录项目进行详细查询5monov.prz5monov.prz编辑完工艺后,要将checkout的工艺checkin,否则工艺会被锁定而不能用。5monov.prz5monov.przTXT菜单界面修改完之后保存为另外的recipe名称指定炉管中的工艺硬盘中存在的工艺加载工艺System/state/recipe/…/start/end/ok工艺过程Load-rampuptemp.-leaktest-preclean-deposition-purge-unload-cooling管式常见问题举例HFerror:1、在preclean时出现重新加载工艺;重复出现-检查硅片是否弯曲严重-更换后重新加载工艺;2、在d
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