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文档简介
设备1 X射线光电子能谱仪技术要求及功能描述X(X-rayPhotoelectronSpectrometer,XXPSUPS、离子散射谱ISS、无nm厚的表面)的化学组成、价态,深度剖析及成像、功函数特性等的分析与表征。一、系统主要结构和功能要求主体结构:两室结构,诀别是分析室和样本预处理室兼进样室;XPSXPSXPSXPS、ARXPS部件。二、主要技术指标X射线源类型:水冷微聚焦单色化AlKα X射线源(供货商必需提供采用先进的单色化射线源)*1.2AlKα射线源运行功率:不低于100W(正常工作条件下Ag35/20.5eV灵敏度:大束斑能量分辩率和灵敏度:关于Ag35/20.5eV400kcps小束斑能量分辩率和灵敏度:Ag35/20.5eV500cps,计数率越高越好最小获谱束斑:≤20μm*1.6小束斑选区方式:虚拟探针扫描、阳极靶电子束移动或其它机械选区的样本扫描方式选区分析*1.718使用,靶点越多越好,确保阳极靶的长期、稳定使用,无需更换;X技术要求及功能描述射线源类型:Al/Mg(Zr/Mg)X400W能量分辩率和灵敏度Ag35/20.8eV650,000cps能量分析器μ金属制造;180ο器平均半径:≥150mm采谱操作模式:固定分析器能量(CAE)和固定减速比(CRR)两种模式*3.4成像操作模式:XPI化学成像模式或XPSMapping成像模式快速成像能量分辩率:和采谱模式保持完全一致XSXI能量分析器*4.1能量扫描范围应不小于0~3200eV,范围越宽越好XPS扫描方式:虚拟探针扫描或其它机械选区的样本扫描方式光电子探测系统*5.1类型:电子倍增器和微通道板探测器的双探测器独力式设计或多通道MCP探测器5.2功能:可实现常规采谱、成像真空系统*6.1μμ5×10-10mbar分析室真空泵:独力的机械泵、分子涡轮泵(或离子泵)抽速≥250L/s7.0×10-9mbar*6.4预处理室真空泵:独力的磁悬浮涡轮分子泵和独力的机械泵,抽速≥200L/s加热冷却台、高温高压反映室、样本断裂台、快速进样锁和预冷器等装置1荷电中和系统结构及操作方式:磁透镜+同轴电子枪+离轴低能离子/枪+低能电子枪的双枪双束中和方式,适用一切不导电样本及粗糙表面的精准荷技术要求及功能描述电中和(非)准直电子源操作方式:全自动一键参数中和效果(PETPETC1s0.82eVC1s(常工作条件下的真实测量值)60,000cps离子刻蚀枪离子源:ArHe束斑大小:连续可调最大束流:≥5µA离子能量:100eV~4keVXPS不能分析H不足1keVHe15,000cps/nA损坏样本的情况下,获得样本表面几个纳米深度的元素分布信息电磁场兼容性:可承受最大静态磁场:≥50μT可承受最大交变磁场:≥0.28μT可承受最大交变电场13轴向:5X、Y、Z联动,以及常中心定位移动范围:X≥50mm,Y≥20mm,Z≥10mm倾斜范围:以水平方向为轴-90º~+60º,角度分辩≤±1º13.4旋转范围:0~360ºCCX2谱仪控制和数据处理软件界面:操作简易的全自动计算机控制可视化图形界面谱仪控制:系统软件可数字化控制谱仪主机单元的关键部件,以及各真空技术要求及功能描述统控制;可设定不同优先度的使用权限安全功能:真空、高压、冷却系统的报错和锁定,有效避免误操作XPSXPS,XPS,UPSXPS—谱重构等全面数据和图像处理功能XPS数据格式:测试数据囊括原始数据及分析结果可存为通用格式计算机两台配置:一台预装数据采集和处理软件包,另一台处理及拷贝数CPU(i73.48G,硬盘不小于1,双显示屏24VWinowHP120电气控制柜:与以上系统相关联的电气控制柜浮涡轮分子泵冷却的需要219.1(99.99%)1(99.99%)13三、随机工具、备件和资料11113丝,离子枪灯丝,荷电中和器灯丝各11111相关资料谱仪操作指南和维持说明书及其光盘;制造商所能提供的全部真空系统图;制造商所能提供的全部机械系统装配图;技术要求及功能描述制造商所能提供的全部电子学线路图;XPS四、保修、维修以及软件升级行检修和维持、排除潜在问题,并且向用户提交检修维持报告;224到现场;五、服务能力、安装与培训技术服务团队组成:供货厂商拥有完备的全球售后服务体系以及本土专业化XPS技术服务团队,且团队中应有非兼职的国家认可正高职职称技术人员;XPS力和元件级维修水平;22为止;高级应用培训:厂商安排资深专家为用户提供高级应用培训;1点进行场地环境检测及布局设计。六、交货地点:七、交货期:*为必需满足的关键性技术指标一、基本情况申请单位拟采购产品名称拟采购产品金额采购项目所属项目名称采购项目所属项目金额二、申请理由
政府采购进口产品专家论证意见河南师范大学X(XPS)学科建设√1.中国境内无法获取:□2.无法以合理的商业条件获取:原因阐述:必要性:X射线光电子能谱仪(简称XPS)是广泛应用于材料科学领域的高技术分析仪器,主要(2~3nmXPS与成像功能和离子在各类功能薄膜的机理研究、纳米材料、高分子材料、材料的侵蚀与防护、催化剂研究与失效分析等方面具有不可替代的作用。科研方面需求:目前我校拥有国家级一类特色专业和河南省重点学科XPSXPSXPS可广泛用于催化剂研究及失效分析、无机材料、聚合物、制药等各种材料的研究,以及合成、催化、包覆、侵蚀、目前全球制造XPS的代表性厂家及其主要型号为:美国赛默飞世尔科技公司的ESCALAB250Ulvac-Phi公司的VersaprobeKratos公司的AXISUltra。1X设备2 紫外光化学反映器一、技术规格及要求设备的总体要求安全—全系列风扇冷却设计,无冷却水危险性,无高压危险。经济—长时效灯管,平均寿命约3000小时(2537A灯管),光强度约1.65x10Photons/sec/cm(2537灯管)。*1.3(1849/2537A,2537A,3000A,3500A,5750A)。2.主要技术参数*2.1样本室尺寸:直径16寸,深12寸*2.22537Aº:16根3000Aº:16根3500Aº:16根4190Aº:16根5750Aº: 16*2.3反映器放置方式:垂直与水平放置冷却方式:风冷样本支撑杆:12.6220V,50Hz3.设备组成:反映器主机1台灯管96冷却风扇1个样本支架1个旋转木马1个供电电源4.附件和易损件清单:1个灯管5.仪器使用环境和安装条件:电压:220V±10%频率:50Hz使用环境:无特殊要求电压波动范围:±10%二、人员培训;.人员培训:始计算质保期时间。三、售后服务要求:112(自用户最终验
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