离子束技术及其应用_第1页
离子束技术及其应用_第2页
离子束技术及其应用_第3页
离子束技术及其应用_第4页
全文预览已结束

下载本文档

版权说明：本文档由用户提供并上传，收益归属内容提供方，若内容存在侵权，请进行举报或认领

文档简介

1、离子束技术及其应用合肥研飞电器科技有限公司一离子束技术简介1离子源构成及原理如图 1 所示，在一个真空腔体中, 用气体放电产生一团等离子体，再用多孔（缝）引出电极将等离子体中的离子引出并加速形成离子束。图 1 离子源构成原理示意图。图 2 单孔引出电极构成原理示意图。2离子束的品质因素引出电极的单孔构成原理如图 2 所示，它决定了离子束的品质因数， 即导流系数（设计最佳化）、能耗、运行气压和气体效率。其中导流系数由下式决定：JcD 22eZ20D3/2Pmax39M(A/V)2d4V03离子源的分类主要按等离子体产生的方法来分：有极放电，主要包括：考夫曼、潘宁、佛里曼 (Freeman) 、双

2、压缩、双潘宁、射频容性耦合离子源；无极放电，主要包括：微波 ECR、射频感性耦合（ ICP）离子源；其它离子源，例如：束等离子体离子源。二离子束辅助沉积薄膜技术1离子束辅助的重要性A 新的挑战 :随着有机光学元件基片材料的采用和光纤通信工业应用中提出了更高的技术要求，以及提供相应的多层光学涂层薄膜，越来越需要发展新工艺。B 蒸发镀的局限性 :虽然蒸发镀是光学涂层的主要制备方法， 但它不能满足更高的致密性要求、改善机械性能和产品的快速生产等方面的要求。2离子辅助沉积众所周知，引入离子辅助沉积， 在一定程度上能够改善热蒸发沉积薄膜的持久性和稳定性方面的性能。 这种工艺的功能已经在材料等许多领域被证

3、明， 当然它不一定能满足一些涂层应用的特殊要求。 市场上可以买到的离子源仅能提供低的离子流和窄的束径，限制了可应用的基片面积。3该应用离子束的特点：离子能量低（ 100eV1000eV）；2大流强（数 mA/cm）；要求流强受离子能量影响小；高真空（ 10 -5 乇）；离化率、电效率、气体效率高；杂质量低；寿命长（抗氧化）、操作容易、维护方便。图 4离子辅助电子束蒸发镀4新型 ICP 离子源的研制膜装置示意图A. 前言离子源广泛应用于材料改性、刻蚀和薄膜沉积领域；射频感应耦合等离子体（RF ICP）源结构简单、能产生高密度的纯净等离子体、使用寿命长、以及性能价格比好（见图5和图 6）。图 5圆

4、筒形射频 ICP 等离子体源图 6 平板形射频 ICP 等离子体源射频 ICP 离子源的设计参数：射频功率源： 300-800W；离子能量： 100-2000eV；电极出口的离子流密度 :2mA/cm2；真空室运行气压可小于 1x10-2 Pa；等离子体产生区等离子体的能量：EpnekTeV由此可计算出产生等离子体的输入功率。离子流的引出：采用三电极引出（见图2 ）可以大大降低引出离子束能量对引出离子束流密度的影响。D.可调射频匹配网络：在射频放电回路中，为了使得射频发生器的输出阻抗与负载阻抗能够匹配，需要在射频电源和放电发生器之间设置一阻抗匹配网络。五其他离子源及其应用1离子束表面改性：包括金属和非金属表面改性；2离子推进器：应用

人人文库> 全部分类> 生活休闲 > 励志创业

温馨提示

  • 1. 本站所有资源如无特殊说明，都需要本地电脑安装OFFICE2007和PDF阅读器。图纸软件为CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.压缩文件请下载最新的WinRAR软件解压。
  • 2. 本站的文档不包含任何第三方提供的附件图纸等，如果需要附件，请联系上传者。文件的所有权益归上传用户所有。
  • 3. 本站RAR压缩包中若带图纸，网页内容里面会有图纸预览，若没有图纸预览就没有图纸。
  • 4. 未经权益所有人同意不得将文件中的内容挪作商业或盈利用途。
  • 5. 人人文库网仅提供信息存储空间，仅对用户上传内容的表现方式做保护处理，对用户上传分享的文档内容本身不做任何修改或编辑，并不能对任何下载内容负责。
  • 6. 下载文件中如有侵权或不适当内容，请与我们联系，我们立即纠正。
  • 7. 本站不保证下载资源的准确性、安全性和完整性, 同时也不承担用户因使用这些下载资源对自己和他人造成任何形式的伤害或损失。

最新文档

评论

0/150

提交评论