纳米的一些资料

1、化学气相沉积定义化学气相沉积（Chemical vapor deposition,简称CVD）是反应物质在气态条件下发生化学 反应，生成固态物质沉积在加热的固态基体表面，进而制得固体材料的工艺技术。它本质上 属于原子范畴的气态传质过程。与之相对的是物理气相沉积（PVD）。特点1）在中温或高温下，通过气态的初始化合物之间的气相化学反应而形成固体物质沉积在 基体上。2）可以在常压或者真空条件下（负压进行沉积、通常真空沉积膜层质量较好）。3）采用等离子和激光辅助技术可以显著地促进化学反应，使沉积可在较低的温度下进 行。4）涂层的化学成分可以随气相组成的改变而变化，从而获得梯度沉积物或者得到混合镀 层

2、。5）可以控制涂层的密度和涂层纯度。6）绕镀件好。可在复杂形状的基体上以及颗粒材料上镀膜。适合涂覆各种复杂形状的工 件。7）沉积层通常具有柱状晶体结构，不耐弯曲，但可通过各种技术对化学反应进行气相 扰动，以改善其结构。8）可以通过各种反应形成多种金属、合金、陶瓷和化合物涂层。溶胶凝胶法溶胶一凝胶法就是用含高化学活性组分的化合物作前驱体，在液相下将这些原料均匀混合， 并进行水解、缩合化学反应，在溶液中形成稳定的透明溶胶体系，溶胶经陈化胶粒间缓慢聚 合，形成三维空间网络结构的凝胶，凝胶网络间充满了失去流动性的溶剂，形成凝胶。凝胶 经过干燥、烧结固化制备出分子乃至纳米亚结构的材料。成分简介胶体（co

3、lloid）是一种分散相粒径很小的分散体系，分散相粒子的重力可以忽略，粒子 之间的相互作用主要是短程作用力。溶胶（Sol）是具有液体特征的胶体体系，分散的粒子是固体或者大分子，分散的粒子大小在11000nm之间。凝胶（Gel）是具有固体特征的胶体体系，被分散的物质形成连续的网状骨架，骨架空隙中充有液体或气体，凝胶 中分散相的含量很低，一般在1%3%之间。化学过程溶胶一凝胶法的化学过程首先是将原料分散在溶剂中，然后经过水解反应生成活性单 体，活性单体进行聚合，开始成为溶胶，进而生成具有一定空间结构的凝胶，经过干燥和热 处理制备出纳米粒子和所需要材料。方法优缺点由于溶胶一凝胶法中所用的原料首先被分

4、散到溶剂中而形成低粘度的溶液，因 此，就可以在很短的时间内获得分子水平的均匀性，在形成凝胶时，反应物之间很可能是在 分子水平上被均匀地混合。由于经过溶液反应步骤，那么就很容易均匀定量地掺入一些微量元素，实现分子 水平上的均匀掺杂。与固相反应相比，化学反应将容易进行，而且仅需要较低的合成温度，一般认为 溶胶一凝胶体系中组分的扩散在纳米范围内，而固相反应时组分扩散是在微米范围内，因此 反应容易进行，温度较低。 选择合适的条件可以制备各种新型材料。 溶胶一凝胶法也存在某些问题：首 先是目前所使用的原料价格比较昂贵，有些原料为有机物，对健康有害；其次通常整个溶胶 一凝胶过程所需时间较长，常需要几天或儿

5、几周：第三是凝胶中存在大量微孔，在干燥过程 中又将会逸出许多气体及有机物，并产生收缩。溶胶一凝胶法也存在某些问题： 通 常整个溶胶一凝胶过程所需时间较长(主要指陈化时间)，常需要几天或儿几周；还有就是 凝胶中存在大量微孔，在干燥过程中又将会逸出许多气体及有机物，并产生收缩重要应用金属化合物经溶液、溶胶、凝胶而固化，再经低温热处理而生成纳米粒子。其特点 反应物种多，产物颗粒均一，过程易控制，适于氧化物和II讪族化合物的制备。溶胶一凝胶法作为低温或温和条件下合成无机化合物或无机材料的重要方法，在软化学合成中 占有重要地位。在制备玻璃、陶瓷、薄膜、纤维、复合材料等方面获得重要应用，更广泛用 于制备纳

6、米粒子。物理气相沉积物理气相沉积(PVD)技术第一节概述物理气相沉积(Physical Vapor Deposition, PVD)技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源一一固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压 气体(或等离子体)过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积的主要方法有，真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜，及分子束外延等。真空蒸镀基本原理 是在真空条件下，使金属、金属合金或化合物蒸发，然后沉积在基 体表面上，蒸发的方法常用电阻加热，高频感应加热，电子柬、激光束、离子束高能轰击镀 料，使蒸发成气相，然后沉积在基体表面，溅

7、射镀膜基本原理 是充氩（Ar ）气的真空条件下，使氩气进行辉光放电，这时氩（Ar ）原 子电离成氩离子（Ar+），氩离子在电场力的作用下，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材 会被溅射出来而沉积到工件表面电弧等离子体镀膜基本原理 是在真空条件下，用引弧针引弧，使真空金壁（阳极）和 镀材（阴极）之间进行弧光放电，阴极表面快速移动着多个阴极弧斑，不断迅速蒸发甚至“异 华”镀料，使之电离成以镀料为主要成分的电弧等离子体，并能迅速将镀料沉积于基体。 离子镀基本原理是在真空条件下，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子， 同时产生许多高能量的中性原子，在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作

8、用下，离 子沉积于基体表面形成薄膜。物理气相沉积技术基本原理可分三个工艺步骤：（1）镀料的气化：即使镀料蒸发，异华或被溅射，也就是通过镀料的气化源。（2）镀料原子、分子或离子的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后，产生多种反应。（3 ）镀料原子、分子或离子在基体上沉积。物理气相沉积技术工艺过程简单，对环境改善，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。第二节真空蒸镀（一） 真空蒸镀原理 （1）真空蒸镀是在真空条件下，将镀料加热并蒸发，使大量的 原子、分子气化并离开液体镀料或离开固体镀料表面（升华）。（2）气态的原子、分子在真空中经过很少的碰撞迁移到基体。（3）镀料原子、分子沉积在

9、基体表面形成薄膜。（二） 蒸发源将镀料加热到蒸发温度并使之气化，这种加热装置称为蒸发源。最 常用的蒸发源是电阻蒸发源和电子束蒸发源，特殊用途的蒸发源有高频感应加热、电弧加热、 辐射加热、激光加热蒸发源等。（三）真空蒸镀的基本工艺过程如下：（1）镀前处理，包括清洗镀件和预处理。具体清洗方法有清洗剂清洗、化学溶剂清洗、超声波清洗和离子轰击清洗等。具体预处理有除静 电，涂底漆等。（2）装炉，包括真空室清理及镀件挂具的清洗，蒸发源安装、调试、镀件 褂卡。（3）抽真空，一般先粗抽至6. 6Pa以上，更早打开扩散泵的前级维持真空泵，加热扩散泵，待预热足够后，打开高阀，用扩散泵抽至6x10-3Pa半底真空度

10、。（4）烘烤，将镀件烘烤加热到所需温度。（5）离子轰击，真空度一般在10Pa10-1Pa，离子轰击电压200V1kV负高压，离击时间为5min30min,（6）预熔，调整电流使镀料预熔，调整电流使镀料预熔，除气1min2min。（7）蒸发沉积，根据要求调整蒸发电流，直到所需沉积时间结束。（8）冷却，镀件在真空室内冷却到一定温度。（9）出炉，.取件后，关闭真空室，抽真空至l x l0-1Pa，扩散泵冷却到允许温度，才可关闭维持泵和冷却水。 （10）后处理，涂面漆。第三节溅射镀膜溅射镀膜是指在真空条件下，利用获得功能的粒子轰击靶材料表面，使靶材表面原子获 得足够的能量而逃逸的过程称为溅射。被溅射的

11、靶材沉积到基材表面，就称作溅射镀膜。溅 射镀膜中的入射离子，一般采用辉光放电获得，在l0-2Pa10Pa范围，所以溅射出来的粒 子在飞向基体过程中，易和真空室中的气体分子发生碰撞，使运动方向随机，沉积的膜易于 均匀。近年发展起来的规模性磁控溅射镀膜，沉积速率较高，工艺重复性好，便于自动化， 已适当于进行大型建筑装饰镀膜，及工业材料的功能性镀膜，及TGN-JR型用多弧或磁控溅 射在卷材的泡沫塑料及纤维织物表面镀镍Ni及银Ag0第四节电弧蒸发和电弧等离子体镀膜这里指的是PVD领域通常采用的冷阴极电弧蒸发，以固体镀料作为阴极，采用水冷、使冷 阴极表面形成许多亮斑，即阴极弧斑。弧斑就是电弧在阴极附近的

12、弧根。在极小空间的电流 密度极高，弧斑尺寸极小，估计约为1pm100pm,电流密度高达105A / cm2107A/ cm2。 每个弧斑存在极短时间，爆发性地蒸发离化阴极改正点处的镀料，蒸发离化后的金属离子， 在阴极表面也会产生新的弧斑，许多弧斑不断产生和消失，所以又称多弧蒸发。最早设计 的等离子体加速器型多弧蒸发离化源，是在阴极背后配置磁场，使蒸发后的离子获得霍尔 （hall ）加速效应，有利于离子增大能量轰击量体，采用这种电弧蒸发离化源镀膜，离化率较 高，所以又称为电弧等离子体镀膜。由于镀料的蒸发离化靠电弧，所以属于区别于第二节， 第三节所述的蒸发手段。第五节离子镀（一）离子镀离子镀的基本

13、特点是采用某种方法（如电子束蒸发磁控溅射，或多弧蒸发离化等）使中性粒子电离成离子和电子，在基体上必须施加负偏压，从而使离子对基体产 生轰击，适当降低负偏压后，使离子进而沉积于基体成膜。离子镀的优点如下：膜层和 基体结合力强。膜层均匀，致密。在负偏压作用下绕镀性好。无污染。多种基体材 料均适合于离子镀。（二） 反应性离子镀如果采用电子束蒸发源蒸发，在坩埚上方加20V100V的正偏压。在真空室中导人反应性气体。如N2、02、C2H2、CH4等代替Ar，或混入Ar，电子束中的 高能电子（几千至几万电子伏特），不仅使镀料熔化蒸发，而且能在熔化的镀料表面激励出二 次电子，这些二次电子在上方正偏压作用下加

14、速，与镀料蒸发中性粒子发生碰撞而电离成离 子，在工件表面发生离化反应，从而获得氧化物（如Te02： Si02、A1203、Zn0、Sn02、Cr203、 Zr02、In02等）。其特点是沉积率高，工艺温度低。（三） 多弧离子镀多弧离子镀又称作电弧离子镀。多弧离子镀的主要特点如下：（1）阴极电弧蒸发离化源可从固体阴极直接产生等离子体，而不产生熔池，所以可以任意方 位布置，也可采用多个蒸发离化源。（2）镀料的离化率高，一般达60%90%，显著提高与 基体的结合力改善膜层的性能。（3）沉积速率高，改善镀膜的效率。（4）设备结构简单，弧 电源工作在低电压大电流工况，工作较为安全。PVD（物理气相沉积）

15、镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离 子镀膜。对应于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空 溅射镀膜机和真空离子镀膜机这三种。我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀 膜；通常所说的PVD镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。热喷涂:用专用设备把某种固体材料熔化并使其雾化，加速喷射到机件表面， 形成一特制薄层，以提高机件耐蚀、耐磨、耐高温等性能的一种工艺方法。实际上就是用一种热源,如电弧、离子弧或燃气燃烧的火焰等将粉状或丝状的固体材料加热熔融或软化，并用热源自身的动力或外加高速气流雾化，使喷涂材料的熔滴以一定的速度喷向经过预处理干净的工件表面。由于

16、热喷涂技术可以喷涂各种金属及合金、陶瓷、塑料及非金属等几乎大多 数固态工程材料，所以能制成具备各种性能的功能涂层，并且施工灵活，适应性强, 应用面广，经济效益突出，尤其在现代航天技术和航空工业中的杰出贡献，引起 了国内外的高度重视，并迅速向民用工业部门转移，得到相当广泛的推广应用， 正在防止成为各种机械产品制造和设备维修的基础工艺之一，对于提高进行产品 质量，延长产品寿命，改进产品结构，节约能源，节约贵重金属材料，提高工效， 降低成本等都有重要作用。一、热喷涂技术的特点热喷涂技术具有下述一些突出的特点：取材范围广：几乎所有的金属，合金，陶瓷都可以作为喷涂材料，塑料、尼 龙等有机高分子材料也可以

17、作为喷涂料。可用于各种基体：在金属，陶瓷器具，玻璃，石膏，甚至布，纸等固体都可以 进行喷涂。可使机体保持较低温度,基材变形小：一般温度可控制在30200C,从而 保证基体不变形、不弱化。工效高：操作程序少，速度快，如对同样厚度的膜层，时间比电镀用的少得 多。被喷涂物件的大小一般不受限制：既可对大型设备进行大面积喷涂，也可 对工件的局部进行喷涂；既可喷涂零件，又可对制成后的结构物进行喷涂。涂层厚度容易控制：薄着可为几十微米，厚者可为几毫米。可赋予普通材料以特殊的表面性能：耐磨，耐蚀，抗氧化，耐热，导电，绝缘 等。成本低，经济效益显著。二、热喷涂方法分类及工艺原理(一)热喷涂分类方法按涂层的功能分

18、为耐腐，耐磨，隔热等涂层，按加热和结合方式可分为喷涂和喷熔：前者是机体不熔化，涂层与基体形成 机械结合；后者则是涂层再加热重熔，涂层与基体互溶并扩散形成冶金结合。平常接触较多的一种分类方法是按照加热喷涂材料的热源种类来分的，按此 可分为：火焰类，包括火焰喷涂、爆炸喷涂、超音速喷涂；电弧类，包括电 弧喷涂和等离子喷涂；电热法，包括电爆喷涂、感应加热喷涂和电容放电喷涂； 激光类：激光喷涂。x射线X光衍射(X-ray diffraction)技术可以用于研究分子的构象或形态。X光衍射技术是基于X 光在穿过长程有序物质所发生的弹性散射。“以下列出的是X光衍射的相关技术：单晶X射线衍射：用于解析晶态物质中分子的整体结构，研究范围可以从小的无机小分子 到复杂的大分子，如蛋白质；可用单色性X光或连续波长X光（即“劳厄法”）进行研究。粉末衍射：也是一种获得晶体（微晶）结构的方法，所用样品为多晶态或