上饶半导体硅抛光片项目可行性研究报告_第1页
上饶半导体硅抛光片项目可行性研究报告_第2页
上饶半导体硅抛光片项目可行性研究报告_第3页
上饶半导体硅抛光片项目可行性研究报告_第4页
上饶半导体硅抛光片项目可行性研究报告_第5页
已阅读5页,还剩130页未读 继续免费阅读

下载本文档

版权说明:本文档由用户提供并上传,收益归属内容提供方,若内容存在侵权,请进行举报或认领

文档简介

1、泓域咨询/上饶半导体硅抛光片项目可行性研究报告上饶半导体硅抛光片项目可行性研究报告xx有限责任公司报告说明刻蚀设备用硅材料产业链主要由刻蚀设备用硅材料制造商(主要提供硅单晶材料)、刻蚀设备用硅部件制造商(主要为刻蚀设备厂商、芯片制造厂商提供硅部件产成品)以及刻蚀设备供应商和芯片制造厂商构成。硅材料制造商向下游提供刻蚀设备用硅材料,并由硅部件制造商加工制成刻蚀设备用硅部件。硅部件主要包括硅电极、硅环等。根据谨慎财务估算,项目总投资10285.34万元,其中:建设投资7926.98万元,占项目总投资的77.07%;建设期利息106.07万元,占项目总投资的1.03%;流动资金2252.29万元,占

2、项目总投资的21.90%。项目正常运营每年营业收入19600.00万元,综合总成本费用15463.92万元,净利润3024.21万元,财务内部收益率22.22%,财务净现值3501.77万元,全部投资回收期5.53年。本期项目具有较强的财务盈利能力,其财务净现值良好,投资回收期合理。此项目建设条件良好,可利用当地丰富的水、电资源以及便利的生产、生活辅助设施,项目投资省、见效快;此项目贯彻“先进适用、稳妥可靠、经济合理、低耗优质”的原则,技术先进,成熟可靠,投产后可保证达到预定的设计目标。本报告为模板参考范文,不作为投资建议,仅供参考。报告产业背景、市场分析、技术方案、风险评估等内容基于公开信息

3、;项目建设方案、投资估算、经济效益分析等内容基于行业研究模型。本报告可用于学习交流或模板参考应用。目录 TOC o 1-3 h z u HYPERLINK l _Toc108404197 第一章 市场分析 PAGEREF _Toc108404197 h 9 HYPERLINK l _Toc108404198 一、 行业未来发展趋势 PAGEREF _Toc108404198 h 9 HYPERLINK l _Toc108404199 二、 行业壁垒 PAGEREF _Toc108404199 h 12 HYPERLINK l _Toc108404200 三、 半导体硅片市场情况 PAGEREF

4、 _Toc108404200 h 15 HYPERLINK l _Toc108404201 第二章 绪论 PAGEREF _Toc108404201 h 19 HYPERLINK l _Toc108404202 一、 项目概述 PAGEREF _Toc108404202 h 19 HYPERLINK l _Toc108404203 二、 项目提出的理由 PAGEREF _Toc108404203 h 20 HYPERLINK l _Toc108404204 三、 项目总投资及资金构成 PAGEREF _Toc108404204 h 21 HYPERLINK l _Toc108404205 四、

5、 资金筹措方案 PAGEREF _Toc108404205 h 21 HYPERLINK l _Toc108404206 五、 项目预期经济效益规划目标 PAGEREF _Toc108404206 h 21 HYPERLINK l _Toc108404207 六、 项目建设进度规划 PAGEREF _Toc108404207 h 22 HYPERLINK l _Toc108404208 七、 环境影响 PAGEREF _Toc108404208 h 22 HYPERLINK l _Toc108404209 八、 报告编制依据和原则 PAGEREF _Toc108404209 h 22 HYPE

6、RLINK l _Toc108404210 九、 研究范围 PAGEREF _Toc108404210 h 24 HYPERLINK l _Toc108404211 十、 研究结论 PAGEREF _Toc108404211 h 24 HYPERLINK l _Toc108404212 十一、 主要经济指标一览表 PAGEREF _Toc108404212 h 25 HYPERLINK l _Toc108404213 主要经济指标一览表 PAGEREF _Toc108404213 h 25 HYPERLINK l _Toc108404214 第三章 项目建设背景、必要性 PAGEREF _To

7、c108404214 h 27 HYPERLINK l _Toc108404215 一、 半导体产业链概况 PAGEREF _Toc108404215 h 27 HYPERLINK l _Toc108404216 二、 刻蚀设备用硅材料市场情况 PAGEREF _Toc108404216 h 28 HYPERLINK l _Toc108404217 三、 促进产业转型升级,构建现代产业新体系 PAGEREF _Toc108404217 h 29 HYPERLINK l _Toc108404218 第四章 建设规模与产品方案 PAGEREF _Toc108404218 h 31 HYPERLIN

8、K l _Toc108404219 一、 建设规模及主要建设内容 PAGEREF _Toc108404219 h 31 HYPERLINK l _Toc108404220 二、 产品规划方案及生产纲领 PAGEREF _Toc108404220 h 31 HYPERLINK l _Toc108404221 产品规划方案一览表 PAGEREF _Toc108404221 h 31 HYPERLINK l _Toc108404222 第五章 建筑工程方案分析 PAGEREF _Toc108404222 h 33 HYPERLINK l _Toc108404223 一、 项目工程设计总体要求 PAG

9、EREF _Toc108404223 h 33 HYPERLINK l _Toc108404224 二、 建设方案 PAGEREF _Toc108404224 h 34 HYPERLINK l _Toc108404225 三、 建筑工程建设指标 PAGEREF _Toc108404225 h 35 HYPERLINK l _Toc108404226 建筑工程投资一览表 PAGEREF _Toc108404226 h 35 HYPERLINK l _Toc108404227 第六章 发展规划分析 PAGEREF _Toc108404227 h 37 HYPERLINK l _Toc1084042

10、28 一、 公司发展规划 PAGEREF _Toc108404228 h 37 HYPERLINK l _Toc108404229 二、 保障措施 PAGEREF _Toc108404229 h 43 HYPERLINK l _Toc108404230 第七章 SWOT分析说明 PAGEREF _Toc108404230 h 45 HYPERLINK l _Toc108404231 一、 优势分析(S) PAGEREF _Toc108404231 h 45 HYPERLINK l _Toc108404232 二、 劣势分析(W) PAGEREF _Toc108404232 h 46 HYPER

11、LINK l _Toc108404233 三、 机会分析(O) PAGEREF _Toc108404233 h 47 HYPERLINK l _Toc108404234 四、 威胁分析(T) PAGEREF _Toc108404234 h 47 HYPERLINK l _Toc108404235 第八章 运营模式分析 PAGEREF _Toc108404235 h 53 HYPERLINK l _Toc108404236 一、 公司经营宗旨 PAGEREF _Toc108404236 h 53 HYPERLINK l _Toc108404237 二、 公司的目标、主要职责 PAGEREF _T

12、oc108404237 h 53 HYPERLINK l _Toc108404238 三、 各部门职责及权限 PAGEREF _Toc108404238 h 54 HYPERLINK l _Toc108404239 四、 财务会计制度 PAGEREF _Toc108404239 h 58 HYPERLINK l _Toc108404240 第九章 法人治理 PAGEREF _Toc108404240 h 61 HYPERLINK l _Toc108404241 一、 股东权利及义务 PAGEREF _Toc108404241 h 61 HYPERLINK l _Toc108404242 二、

13、董事 PAGEREF _Toc108404242 h 66 HYPERLINK l _Toc108404243 三、 高级管理人员 PAGEREF _Toc108404243 h 70 HYPERLINK l _Toc108404244 四、 监事 PAGEREF _Toc108404244 h 72 HYPERLINK l _Toc108404245 第十章 工艺技术说明 PAGEREF _Toc108404245 h 74 HYPERLINK l _Toc108404246 一、 企业技术研发分析 PAGEREF _Toc108404246 h 74 HYPERLINK l _Toc108

14、404247 二、 项目技术工艺分析 PAGEREF _Toc108404247 h 76 HYPERLINK l _Toc108404248 三、 质量管理 PAGEREF _Toc108404248 h 78 HYPERLINK l _Toc108404249 四、 设备选型方案 PAGEREF _Toc108404249 h 79 HYPERLINK l _Toc108404250 主要设备购置一览表 PAGEREF _Toc108404250 h 79 HYPERLINK l _Toc108404251 第十一章 组织机构及人力资源配置 PAGEREF _Toc108404251 h

15、81 HYPERLINK l _Toc108404252 一、 人力资源配置 PAGEREF _Toc108404252 h 81 HYPERLINK l _Toc108404253 劳动定员一览表 PAGEREF _Toc108404253 h 81 HYPERLINK l _Toc108404254 二、 员工技能培训 PAGEREF _Toc108404254 h 81 HYPERLINK l _Toc108404255 第十二章 原辅材料成品管理 PAGEREF _Toc108404255 h 83 HYPERLINK l _Toc108404256 一、 项目建设期原辅材料供应情况

16、PAGEREF _Toc108404256 h 83 HYPERLINK l _Toc108404257 二、 项目运营期原辅材料供应及质量管理 PAGEREF _Toc108404257 h 83 HYPERLINK l _Toc108404258 第十三章 投资估算 PAGEREF _Toc108404258 h 85 HYPERLINK l _Toc108404259 一、 编制说明 PAGEREF _Toc108404259 h 85 HYPERLINK l _Toc108404260 二、 建设投资 PAGEREF _Toc108404260 h 85 HYPERLINK l _To

17、c108404261 建筑工程投资一览表 PAGEREF _Toc108404261 h 86 HYPERLINK l _Toc108404262 主要设备购置一览表 PAGEREF _Toc108404262 h 87 HYPERLINK l _Toc108404263 建设投资估算表 PAGEREF _Toc108404263 h 88 HYPERLINK l _Toc108404264 三、 建设期利息 PAGEREF _Toc108404264 h 89 HYPERLINK l _Toc108404265 建设期利息估算表 PAGEREF _Toc108404265 h 89 HYPE

18、RLINK l _Toc108404266 固定资产投资估算表 PAGEREF _Toc108404266 h 90 HYPERLINK l _Toc108404267 四、 流动资金 PAGEREF _Toc108404267 h 91 HYPERLINK l _Toc108404268 流动资金估算表 PAGEREF _Toc108404268 h 92 HYPERLINK l _Toc108404269 五、 项目总投资 PAGEREF _Toc108404269 h 93 HYPERLINK l _Toc108404270 总投资及构成一览表 PAGEREF _Toc108404270

19、 h 93 HYPERLINK l _Toc108404271 六、 资金筹措与投资计划 PAGEREF _Toc108404271 h 94 HYPERLINK l _Toc108404272 项目投资计划与资金筹措一览表 PAGEREF _Toc108404272 h 94 HYPERLINK l _Toc108404273 第十四章 项目经济效益评价 PAGEREF _Toc108404273 h 96 HYPERLINK l _Toc108404274 一、 经济评价财务测算 PAGEREF _Toc108404274 h 96 HYPERLINK l _Toc108404275 营业

20、收入、税金及附加和增值税估算表 PAGEREF _Toc108404275 h 96 HYPERLINK l _Toc108404276 综合总成本费用估算表 PAGEREF _Toc108404276 h 97 HYPERLINK l _Toc108404277 固定资产折旧费估算表 PAGEREF _Toc108404277 h 98 HYPERLINK l _Toc108404278 无形资产和其他资产摊销估算表 PAGEREF _Toc108404278 h 99 HYPERLINK l _Toc108404279 利润及利润分配表 PAGEREF _Toc108404279 h 10

21、1 HYPERLINK l _Toc108404280 二、 项目盈利能力分析 PAGEREF _Toc108404280 h 101 HYPERLINK l _Toc108404281 项目投资现金流量表 PAGEREF _Toc108404281 h 103 HYPERLINK l _Toc108404282 三、 偿债能力分析 PAGEREF _Toc108404282 h 104 HYPERLINK l _Toc108404283 借款还本付息计划表 PAGEREF _Toc108404283 h 105 HYPERLINK l _Toc108404284 第十五章 风险风险及应对措施

22、 PAGEREF _Toc108404284 h 107 HYPERLINK l _Toc108404285 一、 项目风险分析 PAGEREF _Toc108404285 h 107 HYPERLINK l _Toc108404286 二、 项目风险对策 PAGEREF _Toc108404286 h 109 HYPERLINK l _Toc108404287 第十六章 招标、投标 PAGEREF _Toc108404287 h 112 HYPERLINK l _Toc108404288 一、 项目招标依据 PAGEREF _Toc108404288 h 112 HYPERLINK l _T

23、oc108404289 二、 项目招标范围 PAGEREF _Toc108404289 h 112 HYPERLINK l _Toc108404290 三、 招标要求 PAGEREF _Toc108404290 h 112 HYPERLINK l _Toc108404291 四、 招标组织方式 PAGEREF _Toc108404291 h 113 HYPERLINK l _Toc108404292 五、 招标信息发布 PAGEREF _Toc108404292 h 114 HYPERLINK l _Toc108404293 第十七章 项目综合评价 PAGEREF _Toc108404293

24、h 115 HYPERLINK l _Toc108404294 第十八章 附表附件 PAGEREF _Toc108404294 h 118 HYPERLINK l _Toc108404295 主要经济指标一览表 PAGEREF _Toc108404295 h 118 HYPERLINK l _Toc108404296 建设投资估算表 PAGEREF _Toc108404296 h 119 HYPERLINK l _Toc108404297 建设期利息估算表 PAGEREF _Toc108404297 h 120 HYPERLINK l _Toc108404298 固定资产投资估算表 PAGER

25、EF _Toc108404298 h 121 HYPERLINK l _Toc108404299 流动资金估算表 PAGEREF _Toc108404299 h 122 HYPERLINK l _Toc108404300 总投资及构成一览表 PAGEREF _Toc108404300 h 123 HYPERLINK l _Toc108404301 项目投资计划与资金筹措一览表 PAGEREF _Toc108404301 h 124 HYPERLINK l _Toc108404302 营业收入、税金及附加和增值税估算表 PAGEREF _Toc108404302 h 125 HYPERLINK

26、l _Toc108404303 综合总成本费用估算表 PAGEREF _Toc108404303 h 125 HYPERLINK l _Toc108404304 固定资产折旧费估算表 PAGEREF _Toc108404304 h 126 HYPERLINK l _Toc108404305 无形资产和其他资产摊销估算表 PAGEREF _Toc108404305 h 127 HYPERLINK l _Toc108404306 利润及利润分配表 PAGEREF _Toc108404306 h 128 HYPERLINK l _Toc108404307 项目投资现金流量表 PAGEREF _Toc

27、108404307 h 129 HYPERLINK l _Toc108404308 借款还本付息计划表 PAGEREF _Toc108404308 h 130 HYPERLINK l _Toc108404309 建筑工程投资一览表 PAGEREF _Toc108404309 h 131 HYPERLINK l _Toc108404310 项目实施进度计划一览表 PAGEREF _Toc108404310 h 132 HYPERLINK l _Toc108404311 主要设备购置一览表 PAGEREF _Toc108404311 h 133 HYPERLINK l _Toc108404312

28、能耗分析一览表 PAGEREF _Toc108404312 h 133市场分析行业未来发展趋势1、全球及中国半导体市场规模将持续增长伴随着全球科技进步,5G技术、人工智能、新能源汽车等技术的产业化应用,全球半导体市场预计将持续增长。根据WSTS数据,全球半导体销售额从2012年2,916亿美元增长至2021年5,559亿美元,增幅约90.64%。WSTS预计全球半导体市场规模2022年将增长至5,730亿美元。半导体行业是中国电子信息产业的重要增长点、驱动力。2012年至2021年,中国集成电路市场规模从2,158亿元人民币增长至10,458亿元人民币,增幅为384.62%。近年来,中国政府颁

29、布了一系列政策支持半导体行业发展,“十四五”规划亦明确将培育集成电路产业体系、大力推进先进半导体等新兴前沿领域创新和产业化作为近期发展重点。半导体硅片及刻蚀设备用硅材料作为集成电路基础性、关键性材料,属于国家行业政策重点支持发展的领域,未来市场规模预计将持续增长。2、中国半导体市场在全球市场将维持较高的占比近十年以来,受生产要素成本以及半导体产业自身发展周期性波动影响,国际半导体产能逐步向中国大陆区域转移,国际大型半导体公司基本均在中国大陆进行布局,全球半导体专业人才也逐渐在中国大陆聚集。根据SEMI及WSTS统计,2021年中国大陆半导体市场规模占34.63%,是目前全球最大的半导体市场;其

30、次为美国市场,规模占比约为27.07%;亚太其他地区(除中国大陆外)、欧洲、及日本半导体市场规模占比分别为21.86%、8.60%、7.86%。预计随着国家政策的大力支持和全球芯片制造产能向中国大陆进一步转移,中国半导体企业技术水平将进一步提升,中国半导体市场在全球市场亦将维持较高的占比。3、硅材料质量和技术要求持续提高集成电路用半导体硅片方面,随着制程的不断缩小,芯片制造工艺对硅片缺陷密度与缺陷尺寸的容忍度也在不断降低。在半导体硅片的制造过程中,需要严格控制硅片表面微粗糙度、硅单晶缺陷、金属杂质、晶体原生缺陷、表面颗粒尺寸和数量等直接影响半导体产品的成品率和性能的技术指标,对于硅材料的质量和

31、技术要求进一步提高。刻蚀设备用硅材料方面,随着制程的不断缩小、工艺的不断提高,下游刻蚀设备硅部件厂商对刻蚀设备用硅材料的指数参数要求亦不断提高。刻蚀设备用硅材料产品的关键性能指标如尺寸、掺杂剂、电阻率、金属含量、微缺陷等,都将面临更高的下游客户要求。其中,产品直径越大,对生产商的控制技术要求越高,生产商能够覆盖的产品范围亦越广,能够开发覆盖的下游客户会更多;产品杂质越少、微缺陷越少,刻蚀设备用硅材料的性能越好,制作而成的下游刻蚀设备用硅部件的产品质量也更高。因此,在刻蚀设备用硅材料的生产过程中,生产厂家需要不断提高生产工艺,提高良品率和生产品质、优化关键性能指标,满足下游客户需求。4、大尺寸硅

32、片应用领域不断开发细化,8英寸硅片将长期与12英寸硅片共存大尺寸化是半导体硅片的重要发展方向之一。2008年以前,大尺寸硅片以8英寸硅片为主导,2009年以来8英寸硅片市场份额长期稳定在25%至27%之间,其绝对需求量并未因12英寸硅片的大发展而被淘汰或被侵蚀大量的市场空间,主要原因在于,8英寸硅片在特色芯片产品上拥有明显的成本优势,与12英寸的下游应用存在明显差异。同时,虽然半导体行业下游应用基于技术迭代及成本需求适用不同尺寸硅片,但对于制程并非越小越好,硅片的尺寸也并非越大越好。如在工业领域,对芯片的计算能力、功耗、发热以及占用面积的需求并没有手机、平板电脑那么苛刻,更关注芯片在各类极端环

33、境下的可靠性和耐久度,以及原材料的经济性。而8英寸晶圆具备成熟制程工艺,可靠度、耐久度及经济性较强,应用领域较广。并且,中美贸易争端日趋激烈,国内现在处于普及8英寸的阶段,目前国内8英寸国产替代率仅为20%左右,尚处于较低水平。近年来8英寸产线建设加速,8英寸硅抛光片在未来较长时期内产能利用率保持稳定,产能将进一步增长。根据SEMI预测,未来几年8英寸硅片的需求都将保持增长,2022年全球8英寸晶圆厂产能将比2021年增加120万片/月,增长率达21%。因此,8英寸硅片的需求将长期存在。同时,随着汽车电子、工业电子等应用的驱动,8英寸半导体硅片的需求亦呈上涨趋势。另外,随着下游市场发展,一些新

34、的应用领域得到开发,比如MEMS方面的应用上,目前行业最高水平是8英寸产品;在SOI领域,目前12英寸产品主要应用于MPU及一些特别应用上,8英寸产品主要应用于射频及功率芯片上,二者少有交集;新能源汽车上使用的功率芯片和传感器主要是8英寸芯片的应用;5G射频芯片使用的SOI和硅上化合物同样也主要是8英寸芯片的应用。可见,硅片尺寸的增长不是业内技术进步和产业发展的唯一考量,产品的投资合理性才最为关键,8英寸和12英寸硅片会长期共存,在各自的特定领域有不可替代的优势。行业壁垒1、技术壁垒半导体硅材料行业属于技术高度密集型行业,其核心工艺包括单晶工艺、成型工艺、抛光工艺等,技术专业化程度颇高。从多晶

35、到硅单晶材料的过程,需要在单晶炉内完成晶体生长,工艺难度大。除了热场设计、掺杂技术、磁场技术外,还需要匹配各类工艺参数,才能获得性能和稳定性俱佳的硅单晶。硅片作为半导体器件衬底材料,必须具备高标准的几何参数及表面洁净度,才能实现良好的芯片性能。快速更新换代的下游应用市场对半导体硅片提出了越来越高的要求,除了控制晶体缺陷、晶体杂质外,对半导体硅片表面平整度、机械强度等要求不断提高;先进制程对于硅片的翘曲度、弯曲度、电阻率、表面金属残余量等参数指标方面也有更高的要求,对市场新进入者形成了较高的技术壁垒。刻蚀设备用硅材料质量优劣的评价标准主要包括缺陷密度、杂质含量、电阻率范围及分布均匀性等一系列参数

36、指标。工艺技术水平决定了产品良品率和参数一致性,也是核心竞争力所在。建立有市场竞争力的半导体级单晶硅材料生产线需要长期的研发投入及技术积淀,作为技术密集型行业,半导体级单晶硅材料行业对市场新进入者形成了较高的技术壁垒。2、资金壁垒半导体硅材料行业属于资金密集型行业。半导体硅抛光片和刻蚀设备用硅材料制造工艺复杂,生产所需先进设备价格高,硅片企业要形成规模化生产,所需投资规模巨大,并且随着技术的进步、客户的需求不同,还需要对生产设备不断进行改造和升级。由于设备折旧等固定成本高,硅片企业在没有实现规模化量产前,可能长期处于亏损状态,需要大量运转资金。因此进入该行业的企业需要具有雄厚的资金实力。3、人

37、才壁垒半导体硅片和刻蚀设备用硅材料的研发和生产过程较为复杂,涉及固体物理、半导体物理、化学、材料学等多学科领域交叉,因此需要具备综合专业知识和丰富生产经验的复合型人才。此外,生产设备不断改造和升级、调试等,都需要掌握专门技术和丰富经验的人才。要打造高技术水平团队,需要大量的人力资源投入和时间积累,后进企业面临较高的人才壁垒。4、认证壁垒鉴于半导体芯片的高精密性和高技术性,芯片制造企业对于硅片等各类原材料的质量有着严苛的要求,对供应商的选择非常谨慎,对于核心材料半导体硅片供应商的选择尤其谨慎,并设有严格的认证标准和程序,要进入芯片制造企业的供应商名单面临较高的壁垒。芯片制造企业通常会要求硅片供应

38、商提供样品进行试生产,试生产阶段一般生产测试验证片。验证通过后,会进行小批量试生产量产片,量产片通过内部认证后,芯片制造企业会将产品送至下游客户处,待客户认证通过后,才会对硅片供应商进行最终认证,并最后签订采购合同。上述认证程序一般需要的时间较长,通常情况下,面向半导体集成电路制造常规应用的抛光片和外延片产品认证周期一般为6-18个月;面向汽车电子、医疗健康以及航空航天等应用的半导体硅片产品认证周期通常为2年以上,新进入企业面临较高的认证壁垒。半导体硅片市场情况1、半导体硅片产业链情况半导体硅片企业的下游客户是芯片制造企业,包括大型综合晶圆代工企业及专注于存储器制造、传感器制造与射频芯片制造等

39、领域的芯片制造企业。半导体硅片的终端应用领域涵盖智能手机、平板电脑、便携式设备、物联网、汽车电子、人工智能、工业电子、军事、航空航天等众多行业。随着科学技术的不断发展,新兴终端市场还将不断涌现。2020年下半年起,受益于5G、新能源汽车、物联网快速发展趋势,在功率半导体、电源管理芯片等产品需求带动下,硅片下游客户晶圆代工厂的市场需求持续稳步提升。结合ICInsights的测算,预计2021至2026年全球晶圆代工市场规模将持续增长,到2026年全球市场将增长到887亿美元,年均复合增长率约为5.24%。同时,随着中芯国际、华力微电子、长江存储等中国大陆芯片制造企业的持续扩产,中国大陆芯片制造产

40、能增速高于全球芯片产能增速,芯片制造产能的增长将带动国内半导体硅片的需求持续增长。2、半导体硅片及下游市场规模5G技术的应用、人工智能的发展,云计算数据量和终端电子产品需求大幅增加,以及新冠肺炎疫情蔓延带动居家办公、居家娱乐等信息化生活方式,促进了消费电子需求回升,各类半导体需求反弹,供需矛盾从芯片制造领域传导至上游硅片环节。据SEMI统计,2021年全球半导体硅片出货面积达到141.6亿平方英寸,硅片市场规模达到126.2亿美元,创历史新高。SEMI报告显示,全球半导体硅片出货面积有望在2023年攀升至更高水平。2014年起,随着中国各半导体制造商生产线投产、中国半导体制造技术的不断进步与半

41、导体终端产品市场的发展,中国大陆半导体硅片市场步入了发展的快车道。产能方面,据ICInsights统计数据,2018年中国硅晶圆产能243万片/月(等效于8英寸硅片),中国大陆硅晶圆产能占全球硅晶圆产能12.5%。据ICInsights对未来产能扩张预测,2022年中国大陆晶圆厂硅晶圆产能将达410万片/月,占全球产能17.15%,2018至2022年,年复合增长率为22.93%。因此,中国半导体硅片的销售额将随着下游晶圆厂的扩产而打开提升空间。根据SEMI数据,2015年中国半导体硅材料市场规模为101.6亿元,2021年增长至250.5亿元,2015年至2021年复合增长率达到16.2%。

42、国内半导体硅材料生产企业技术水平不断提升,中国市场占比维持较高水平。即便如此,中国硅片市场90%左右的市场仍由日本信越化学、SUMCO、德国Siltronic、台湾环球晶圆等国际巨头占据,国产化率水平仍旧较低。2014年起,随着中国各半导体制造商生产线投产、中国半导体制造技术的不断进步与半导体终端产品市场的发展,中国大陆半导体硅片市场步入了发展的快车道。产能方面,据ICInsights统计数据,2018年中国硅晶圆产能243万片/月(等效于8英寸硅片),中国大陆硅晶圆产能占全球硅晶圆产能12.5%。据ICInsights对未来产能扩张预测,2022年中国大陆晶圆厂硅晶圆产能将达410万片/月,

43、占全球产能17.15%,2018至2022年,年复合增长率为22.93%。因此,中国半导体硅片的销售额将随着下游晶圆厂的扩产而打开提升空间。根据SEMI数据,2015年中国半导体硅材料市场规模为101.6亿元,2021年增长至250.5亿元,2015年至2021年复合增长率达到16.2%。国内半导体硅材料生产企业技术水平不断提升,中国市场占比维持较高水平。即便如此,中国硅片市场90%左右的市场仍由日本信越化学、SUMCO、德国Siltronic、台湾环球晶圆等国际巨头占据,国产化率水平仍旧较低。绪论项目概述(一)项目基本情况1、项目名称:上饶半导体硅抛光片项目2、承办单位名称:xx有限责任公司

44、3、项目性质:技术改造4、项目建设地点:xx(以最终选址方案为准)5、项目联系人:谢xx(二)主办单位基本情况公司在“政府引导、市场主导、社会参与”的总体原则基础上,坚持优化结构,提质增效。不断促进企业改变粗放型发展模式和管理方式,补齐生态环境保护不足和区域发展不协调的短板,走绿色、协调和可持续发展道路,不断优化供给结构,提高发展质量和效益。牢固树立并切实贯彻创新、协调、绿色、开放、共享的发展理念,以提质增效为中心,以提升创新能力为主线,降成本、补短板,推进供给侧结构性改革。公司秉承“诚实、信用、谨慎、有效”的信托理念,将“诚信为本、合规经营”作为企业的核心理念,不断提升公司资产管理能力和风险

45、控制能力。面对宏观经济增速放缓、结构调整的新常态,公司在企业法人治理机构、企业文化、质量管理体系等方面着力探索,提升企业综合实力,配合产业供给侧结构改革。同时,公司注重履行社会责任所带来的发展机遇,积极践行“责任、人本、和谐、感恩”的核心价值观。多年来,公司一直坚持坚持以诚信经营来赢得信任。公司始终坚持“人本、诚信、创新、共赢”的经营理念,以“市场为导向、顾客为中心”的企业服务宗旨,竭诚为国内外客户提供优质产品和一流服务,欢迎各界人士光临指导和洽谈业务。(三)项目建设选址及用地规模本期项目选址位于xx(以最终选址方案为准),占地面积约27.00亩。项目拟定建设区域地理位置优越,交通便利,规划电

46、力、给排水、通讯等公用设施条件完备,非常适宜本期项目建设。(四)产品规划方案根据项目建设规划,达产年产品规划设计方案为:xxx吨半导体硅抛光片/年。项目提出的理由伴随着全球科技进步,5G技术、人工智能、新能源汽车等技术的产业化应用,全球半导体市场预计将持续增长。根据WSTS数据,全球半导体销售额从2012年2,916亿美元增长至2021年5,559亿美元,增幅约90.64%。WSTS预计全球半导体市场规模2022年将增长至5,730亿美元。项目总投资及资金构成本期项目总投资包括建设投资、建设期利息和流动资金。根据谨慎财务估算,项目总投资10285.34万元,其中:建设投资7926.98万元,占

47、项目总投资的77.07%;建设期利息106.07万元,占项目总投资的1.03%;流动资金2252.29万元,占项目总投资的21.90%。资金筹措方案(一)项目资本金筹措方案项目总投资10285.34万元,根据资金筹措方案,xx有限责任公司计划自筹资金(资本金)5955.93万元。(二)申请银行借款方案根据谨慎财务测算,本期工程项目申请银行借款总额4329.41万元。项目预期经济效益规划目标1、项目达产年预期营业收入(SP):19600.00万元。2、年综合总成本费用(TC):15463.92万元。3、项目达产年净利润(NP):3024.21万元。4、财务内部收益率(FIRR):22.22%。5

48、、全部投资回收期(Pt):5.53年(含建设期12个月)。6、达产年盈亏平衡点(BEP):7519.39万元(产值)。项目建设进度规划项目计划从可行性研究报告的编制到工程竣工验收、投产运营共需12个月的时间。环境影响本项目选址合理,符合相关规划和产业政策,通过采取有效的污染防治措施,污染物可做到达标排放,对周边环境的影响在可承受范围内,因此,在切实落实评价提出的污染控制措施和严格执行“三同时”制度的基础上,从环境影响的角度,本项目的建设是可行的。报告编制依据和原则(一)编制依据1、国家经济和社会发展的长期规划,部门与地区规划,经济建设的指导方针、任务、产业政策、投资政策和技术经济政策以及国家和

49、地方法规等;2、经过批准的项目建议书和在项目建议书批准后签订的意向性协议等;3、当地的拟建厂址的自然、经济、社会等基础资料;4、有关国家、地区和行业的工程技术、经济方面的法令、法规、标准定额资料等;5、由国家颁布的建设项目可行性研究及经济评价的有关规定;6、相关市场调研报告等。(二)编制原则1、所选择的工艺技术应先进、适用、可靠,保证项目投产后,能安全、稳定、长周期、连续运行。2、所选择的设备和材料必须可靠,并注意解决好超限设备的制造和运输问题。3、充分依托现有社会公共设施,以降低投资,加快项目建设进度。4、贯彻主体工程与环境保护、劳动安全和工业卫生、消防同时设计、同时建设、同时投产。5、消防

50、、卫生及安全设施的设置必须贯彻国家关于环境保护、劳动安全的法规和要求,符合行业相关标准。6、所选择的产品方案和技术方案应是优化的方案,以最大程度减少投资,提高项目经济效益和抗风险能力。科学论证项目的技术可靠性、项目的经济性,实事求是地作出研究结论。研究范围依据国家产业发展政策和有关部门的行业发展规划以及项目承办单位的实际情况,按照项目的建设要求,对项目的实施在技术、经济、社会和环境保护等领域的科学性、合理性和可行性进行研究论证。研究、分析和预测国内外市场供需情况与建设规模,并提出主要技术经济指标,对项目能否实施做出一个比较科学的评价,其主要内容包括如下几个方面:1、确定建设条件与项目选址。2、

51、确定企业组织机构及劳动定员。3、项目实施进度建议。4、分析技术、经济、投资估算和资金筹措情况。5、预测项目的经济效益和社会效益及国民经济评价。研究结论综上所述,该项目属于国家鼓励支持的项目,项目的经济和社会效益客观,项目的投产将改善优化当地产业结构,实现高质量发展的目标。主要经济指标一览表主要经济指标一览表序号项目单位指标备注1占地面积18000.00约27.00亩1.1总建筑面积33015.931.2基底面积10080.001.3投资强度万元/亩276.622总投资万元10285.342.1建设投资万元7926.982.1.1工程费用万元6708.432.1.2其他费用万元1064.662.

52、1.3预备费万元153.892.2建设期利息万元106.072.3流动资金万元2252.293资金筹措万元10285.343.1自筹资金万元5955.933.2银行贷款万元4329.414营业收入万元19600.00正常运营年份5总成本费用万元15463.926利润总额万元4032.287净利润万元3024.218所得税万元1008.079增值税万元864.9910税金及附加万元103.8011纳税总额万元1976.8612工业增加值万元6652.2013盈亏平衡点万元7519.39产值14回收期年5.5315内部收益率22.22%所得税后16财务净现值万元3501.77所得税后项目建设背景、

53、必要性半导体产业链概况半导体是指在常温下导电性能介于绝缘体与导体之间的材料。常见的半导体包括硅、锗等元素半导体及砷化镓、氮化镓等化合物半导体。作为诸多电子产品的核心,半导体行业在支撑信息产业发展、保障国家安全、促进国民经济增长的过程中起到了基础性、战略性的作用。半导体主要包括集成电路、分立器件、光电器件和传感器四大类。根据WSTS的统计,集成电路、分立器件和传感器2020年合计市场份额占比约90%,半导体产业链呈垂直化分工格局,具有技术难度高、投资规模大、产业链环节长、产品种类多、更新迭代快、下游应用广泛的特点。半导体主产业链主要包括设计、制造、封测等环节;支撑产业链包括设计工具EDA、材料与

54、半导体前道制造设备、半导体后道封测设备等环节。半导体材料位于半导体产业的上游,分为半导体晶圆制造材料与半导体封装材料两大类,主要包括硅材料、靶材、CMP抛光材料、光刻胶、湿电子化学品、电子特种气体、光掩膜等。半导体硅片是芯片制造的关键材料,是半导体产业大厦的基石。统计数据显示,90%以上的芯片需要使用半导体硅片作为衬底片。刻蚀设备用硅材料市场情况1、刻蚀设备用硅材料产业链情况刻蚀设备用硅材料产业链主要由刻蚀设备用硅材料制造商(主要提供硅单晶材料)、刻蚀设备用硅部件制造商(主要为刻蚀设备厂商、芯片制造厂商提供硅部件产成品)以及刻蚀设备供应商和芯片制造厂商构成。硅材料制造商向下游提供刻蚀设备用硅材

55、料,并由硅部件制造商加工制成刻蚀设备用硅部件。硅部件主要包括硅电极、硅环等。2、刻蚀设备用硅材料与上游行业的关系行业上游原材料主要包括高纯度多晶硅、高纯度石英坩埚、石墨件等。高纯度多晶硅存在一定的规格差异,按照行业标准可以分为三级,刻蚀设备用硅材料除部分高规格产品需要用电子一级多晶硅之外,大部分产品可以采用全部规格电子级多级硅。全球范围内,高纯度多晶硅的主要供应商为德国瓦克、日本三菱材料、日本TokuyamaCorporation等公司;国内供应商逐渐进入包括下游企业的供应链体系。3、刻蚀设备用硅材料与下游行业的关系刻蚀设备用硅材料经下游客户加工制成刻蚀用硅部件,装配进入刻蚀设备腔体,最终应用

56、于芯片制造刻蚀工艺。硅电极表面有密集微小通孔,在晶圆制造刻蚀环节,硅电极除了作为附加电压的电极,还作为刻蚀气体进入腔体的通路;硅环是支撑硅电极及其他相关零件的承载部件,保证等离子干式刻蚀机腔体的密封性和纯净度,同时对硅晶圆边缘进行保护。促进产业转型升级,构建现代产业新体系以新型工业化为核心,深入实施制造强市战略,加快实现产业基础高级化、产业链现代化,促进产业联动发展,加快构建深度融合、技术引领、绿色高效的现代产业新体系。(一)提升产业综合竞争力大力实施产业链链长制,按照自主可控、安全高效原则,推进铸链强链引链补链。以提高质量效益为中心,构建现代化产业发展体系。大力推行先进生产方式,推动产业链条

57、向“微笑曲线”两端延伸,促进先进制造业和现代服务业深度融合,大力发展服务型制造,推动产业园区转型升级。加快质量基础设施建设,增强标准、计量、专利等体系和能力建设,深入实施质量提升行动。坚持主攻工业不动摇,以有色金属、光伏、光学、汽车、新型建材、机械制造、纺织服装等产业为重点,开展技术改造、智能提升和品牌塑造行动,改造提升落后生产设备工艺,建设数字车间、智能工厂,培育现代企业自主品牌。制定出台扶持政策,做大做强做优有色金属供应链金融平台。大力培育“专精特新”企业,打造一批细分行业和细分市场领军企业、单项冠军和“小巨人”企业。加强区域产业合作,打造优质产业转移承接地,优化产业链供应链发展环境。(二

58、)培育壮大战略性新兴产业聚焦“五城一谷”,以高端化、特色化、绿色化为导向,重点发展壮大节能环保、新材料(黑滑石综合开发等)、新能源(光伏、动力电池等)、信息科技、生物医药等战略性新兴产业,引进培育战略性新兴产业龙头企业和产业集群。加快建设国家级光伏新能源产业基地、江西省重要新能源汽车生产基地,力争在光学设备及材料、卫星导航、干细胞再生等产业发展上取得重大突破。促进平台经济、共享经济健康发展。建设规模与产品方案建设规模及主要建设内容(一)项目场地规模该项目总占地面积18000.00(折合约27.00亩),预计场区规划总建筑面积33015.93。(二)产能规模根据国内外市场需求和xx有限责任公司建

59、设能力分析,建设规模确定达产年产xxx吨半导体硅抛光片,预计年营业收入19600.00万元。产品规划方案及生产纲领本期项目产品主要从国家及地方产业发展政策、市场需求状况、资源供应情况、企业资金筹措能力、生产工艺技术水平的先进程度、项目经济效益及投资风险性等方面综合考虑确定。具体品种将根据市场需求状况进行必要的调整,各年生产纲领是根据人员及装备生产能力水平,并参考市场需求预测情况确定,同时,把产量和销量视为一致,本报告将按照初步产品方案进行测算。产品规划方案一览表序号产品(服务)名称单位单价(元)年设计产量产值1半导体硅抛光片吨xxx2半导体硅抛光片吨xxx3半导体硅抛光片吨xxx4.吨5.吨6

60、.吨合计xxx19600.00半导体行业是中国电子信息产业的重要增长点、驱动力。2012年至2021年,中国集成电路市场规模从2,158亿元人民币增长至10,458亿元人民币,增幅为384.62%。近年来,中国政府颁布了一系列政策支持半导体行业发展,“十四五”规划亦明确将培育集成电路产业体系、大力推进先进半导体等新兴前沿领域创新和产业化作为近期发展重点。半导体硅片及刻蚀设备用硅材料作为集成电路基础性、关键性材料,属于国家行业政策重点支持发展的领域,未来市场规模预计将持续增长。建筑工程方案分析项目工程设计总体要求(一)设计依据1、根据中国地震动参数区划图(GB18306-2015),拟建项目所在

温馨提示

  • 1. 本站所有资源如无特殊说明,都需要本地电脑安装OFFICE2007和PDF阅读器。图纸软件为CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.压缩文件请下载最新的WinRAR软件解压。
  • 2. 本站的文档不包含任何第三方提供的附件图纸等,如果需要附件,请联系上传者。文件的所有权益归上传用户所有。
  • 3. 本站RAR压缩包中若带图纸,网页内容里面会有图纸预览,若没有图纸预览就没有图纸。
  • 4. 未经权益所有人同意不得将文件中的内容挪作商业或盈利用途。
  • 5. 人人文库网仅提供信息存储空间,仅对用户上传内容的表现方式做保护处理,对用户上传分享的文档内容本身不做任何修改或编辑,并不能对任何下载内容负责。
  • 6. 下载文件中如有侵权或不适当内容,请与我们联系,我们立即纠正。
  • 7. 本站不保证下载资源的准确性、安全性和完整性, 同时也不承担用户因使用这些下载资源对自己和他人造成任何形式的伤害或损失。

评论

0/150

提交评论