12[1].206.2–2008镀层和化学覆盖层技术规范铝合金化学导电氧化全解

1、内部公开中兴通讯股份有限公司发布Q/ZX技术标准中兴通讯股份有限公司企业标准Q/ZX12.206.2-008代替Q/ZX12.206.2-2004镀层和化学覆盖层技术规范铝合金化学导电氧化2008-04-11实施2008-03-11发布本文中的所有信息均为中兴通讯股份有限公司内部信息，未经允许，不得外传。内部公开Q/ZX12.206.2-2008镀层和化学覆盖层技术规范铝合金化学导电氧化2TE中兴为了提高金属电镀和化学处理件生产制造质量，加强对电镀和化学处理制品生产流程相关环节的监督检验和质量控制，并为电镀层和化学处理层的质量验收和试验方法提供标准，同时为结构设计人员提供参考，特编写本系列标准

2、。镀层和化学覆盖层技术规范为系列标准：a) Q/ZX12.206.1镀层和化学覆盖层技术规范-锌电镀层；b) Q/ZX12.206.2镀层和化学覆盖层技术规范-铝合金化学导电氧化c) Q/ZX12.206.3镀层和化学覆盖层技术规范-镍电镀层；d) Q/ZX12.206.4镀层和化学覆盖层技术规范-铝合金阳极氧化；e) Q/ZX12.206.5镀层和化学覆盖层技术规范-铜+镍+铬电镀层；f) Q/ZX12.206.6镀层和化学覆盖层技术规范-钢铁和铜合金化学转化膜；g) Q/ZX12.206.7镀层和化学覆盖层技术规范-达克罗涂覆层h) Q/ZX12.206.8镀层和化学覆盖层技术规范-铬电镀

3、层；i) Q/ZX12.206.9镀层和化学覆盖层技术规范-锡电镀层；j) Q/ZX12.206.10镀层和化学覆盖层技术规范-热镀锌和连续电镀锌板材；本标准是第2部分。本标准主要依据GB/T17460-1998化学转化膜铝及铝合金上漂洗和不漂洗铬酸盐转化膜，QJ487-1983铝及铝合金化学导电氧化膜层技术条件等标准，并结合我公司产品的具体情况而起草。本标准由中兴通讯股份有限公司物流体系硬件研究所结构产品部提出，总部直属部门质量部归口。本标准起草部门：康讯结构系统部。本标准起草人：刘彦明。本标准修订部门(第一次修订)：物流体系硬件研究所结构产品部。本标准修订人(第一次修订)：刘彦明。本标准审

4、核人：何剑波本标准批准人：张晖本标准于2004年12月首次发布，于2008年03月第一次修订。为便于理解，将第二次及以后的修订记录保留如下：标准编号修改前文件编号主要修订内容修订部门修订人批准人Q/ZX12.206.2-2008Q/ZX12.206.2-20041、前言内容更新；2、重新调整文档章节编排；3、增加膜层设计要求内容，简化前处理质量要求；4、简化工艺过程要求，增加对化工原材料的物流体系硬件研究所结构产品部刘彦明张晖要求，补充后工序要求；5、完善补充导电氧化膜层质量要求，将试验方法章节进行了合并。6、删除了对非环保导电氧化的外观要求，增加了环保导电氧化的外观要求；7、简化了验收规则相

5、应内容；8、压铸件的外观要求有灰色调整为淡蓝灰色;9、对外观要求的允许和不允许缺陷进行了细化和具体缺陷说明，增加了一些允许缺陷；10、删除了黄绿色导电氧化的相关内容；11、明确工艺要求采用无六价铬的氧化工艺；12、删除了单位面积膜层质量要求和检测方法，修改了导电性和附着力测试方法；13、增加了有害物质限制要求；14、完善了标准的引用。本文中的所有信息均为中兴通讯股份有限公司内部信息，未经允许，不得外传。IV内部公开Q/ZX12.206.2-2008镀层和化学覆盖层技术规范铝合金化学导电氧化2TE中兴镀层和化学覆盖层技术规范铝合金化学导电氧化1范围本标准规定了中兴通讯股份有限公司对铝及铝合金化学

6、导电氧化层的工艺质量要求、检验方法和验收规则。本标准适用于中兴通讯股份有限公司外协加工铝及铝合金表面化学导电氧化零件。本标准同时也适用于铝及铝合金化学导电氧化工艺的鉴定和批量生产的质量检验依据。2规范性引用文件下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单（不包括勘误的内容）或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。MIL-DTL-5541FCHEMICALCONVERSIONCOATINGSONALUMINUMANDALUMINUMALLOYSGB

7、/T10125-1997人造气氛腐蚀试验盐雾试验GB/T12609-1990电沉积金属覆盖层和有关精饰计数抽样检查程序GB/T2828.1-2003计数抽样检验程序第1部分：按接收质量限（AQL）检索的逐批检验抽样计划QJ487-1983铝及铝合金化学导电氧化膜层技术条件Q/ZX12.208禁止和限制使用的环境物质要求Q/ZXZ12.001禁止和限制使用的六种有害物质浓度测定方法3术语和定义下列术语和定义适用于本标准。3.1 主要表面significantsurface指镀覆层对于工件的外观和使用性能起主要作用的表面。3.2 化学导电氧化electriechemicalconversionco

8、atings将工件放在化学氧化溶液中处理，使表面形成一层可导电的钝态保护膜。3.3 批lot同一供方在同一时间或大约同一时间提供的、按同一规范在相同条件下生产的并按同一质量要求提交检查的一组产品。4导电氧化的设计要求和工艺要求4.1设计要求对于变形铝合金，外观为基材本色，工艺包含：普通导电氧化AL/CtOcd（SR）喷砂(100目)+导电氧化AL/SB(100)/CtOcd(SR)拉丝(100目)+导电氧化AL/SP(100)/CtOcd(SR)对于压铸铝合金，外观为淡蓝色，工艺包含：喷砂(100目)+导电氧化AL/SB(100)/CtOcd(SR)喷丸(50目)+导电氧化AL/SHB(50)

9、/CtOcd(SR)注：喷砂和拉丝都有100和150目可选，喷丸只有50目。所有导电氧化产品不可直接暴露于户外淋雨条件，设备外壳外表面经喷漆、喷粉后方可用于户外。4.2工艺体系要求环保化学导电氧化工艺要求采用不含六价铬的钝化溶液体系，不得采用对导电性有影响的后处理封闭剂，所有处理溶液中均不得含有RoHS规定的六种有害物质。目前可满足要求的是三价铬化学导电氧化溶液体系，由于三价铬氧化溶液体系质量差异很大，未经中兴通讯认可的溶液不得采用。4.3处理前的工件要求4.3.1应无严重油污、油漆、金属屑等多余物。4.3.2应无起泡、空洞、槽痕、气孔、小坑、非金属夹杂等机械损伤，无氧化物、腐蚀物、斑点、凸瘤

10、、毛刺、划伤等缺陷。4.3.3经喷砂、拉丝、喷丸等方法处理过的表面，外观应符合中兴公司的样板要求。表面不得有残砂、灰尘及其它杂质。4.3.4压铸件、冲压件及型材等原材料，如果带有其相应的技术标准允许范围内的缺陷，可以接受处理，但镀覆后形成的相应缺陷不应作为镀覆层本身的缺陷。4.4工艺过程要求4.4.1除油可采用有机溶剂或其他类型低泡脱脂剂化学除油，大工件可以采用手工擦拭除油。化学氧化处理前必须保证油污已除净，压铸件必须在喷砂前进行除油。油污是否除净的检测方法为：连续水膜法。以水膜持续时间30s不断裂为合格。4.4.2溶液参数控制和管理。碱蚀和化学抛光工序为铝型材处理的必须工序，要注意温度和时间

11、的控制，避免腐蚀过度。化学氧化槽液的成分、工作温度、PH值等必须符合工艺标准的规定，要做好详细记录。槽液分析和调配记录必须完善。氧化液按槽液使用周期定期调整和更换。4.4.3工序间隔要求氧化过程中湿处理工序间不允许间隔时间过长，工序间不允许零件表面干燥。在所有工序中要谨防处理表面被污染。4.4.4膜层的干燥和固化在工件风干之前，为加快干燥速度和减少水纹，允许采用80oC以下的热水清洗，但清洗时间不能大于1分钟。膜层的干燥固化可采用暖风吹方法,压缩空气法及暖风循环法。不管采用那一种方法，温度不应超过80oC。4.4.5 化工原材料要求配槽用水和后处理水洗用水应采用纯净水。所有化工原材料必须定点采

12、购，不得随意变更。铬化剂供应商需要得到中兴通讯的认可方可采用。4.5 后工序要求4.5.1后工序要求本文中的所有信息均为中兴通讯股份有限公司内部信息，未经允许，不得外传。22TE中兴镀层和化学覆盖层技术规范内部公开铝合金化学导电氧化Q/ZX12.206.2-2008导电氧化处理后的工件在包装、周转和暂存过程中，要注意对膜层的保护。工件在组装、丝印和进行其他工序处理时，禁止用裸手或有汗液皮肤直接接触氧化层表面。4.5.2需喷涂的工件要求导电氧化后需要局部喷漆或喷粉的工件，喷漆和喷粉工序必须在导电氧化完成24h以后再进行。喷涂前的局部保护等工序，要防止工件的相互磕碰，防止被灰尘、油污、杂质、胶带残

13、胶、汗液等污染工件，禁止用裸手直接接触需喷涂表面。5导电氧化膜的质量要求和检验方法5.1质量要求5.1.1外观导电氧化膜层应结晶均匀、细致、连续。膜层颜色变形铝合金（包含铝型材、铝板、铝机加件等），外观为基材本色，稍有光泽，允许轻微泛蓝、泛彩等；压铸铝合金，外观为淡蓝灰色，允许局部泛黄、泛彩、流痕等。不允许缺陷a）膜层疏松、粗糙、发暗、发黑、颗粒；b）明显的人为磕碰、划痕、擦伤、烧伤，膜层不连续；c）明显的水纹、斑点、发花、发雾和未洗净的盐类痕迹；d）局部无膜层（有文件特殊要求的除外）；e）黄色、暗褐色、灰色等非正常膜层；f）表面有手印、脏污。允许缺陷a）轻微的水印和夹具印（不在主要表面）；b

14、）由于零件表面状态不同，同一零件上有不均匀的颜色和光泽；c）在复杂或大型零件的非主要表面处有轻微擦伤、刮伤，但不影响产品外观；d）同一批次的零件允许有不明显色差（不明显色差是指肉眼可辨的较小的颜色不同）e）不同厂家、不同批次压铸件淡蓝色深浅差异的表面色差。5.1.2耐蚀性按照GB/T10125-1997中性盐雾实验方法（NASS）进行连续喷雾，测试时间按表1进行。试验后，参考MIL-DTL-5541的要求，在试片表面上（距边缘3mm以上范围内）直径不大于0.8mm的腐蚀点（黑点、黑斑、白斑）不多于三个为合格。表1化学导电氧化膜中性盐雾测试时间化学导电氧化类别中性盐雾测试时间（h）机加件吊961

15、80度烘烤30分钟后72压铸件吊72180度烘烤30分钟后485.1.3 附着力膜层应附着紧密、不起粉。常规进行目测，有争议时参考5.2.3试验，胶带拉起后，胶带表面不得有明显的膜层附着。5.1.4 导电性能本文中的所有信息均为中兴通讯股份有限公司内部信息，未经允许，不得外传。3内部公开Q/ZX12.206.2-2008镀层和化学覆盖层技术规范铝合金化学导电氧化2TE中兴按照QJ487-1983中的方法进行测量，或按照5.2.4采用低电阻测试仪测量，要求：任意两点间接触电阻小于100mQ为合格。5.1.5有害重金属的限制化学氧化层中的铅、镉、汞、六价铬含量须满足Q/ZX12.208标准中相关条

16、款的要求，铬化液中六价铬含量须满足10PPM以下。六价铬和铅、镉、汞含量的测试方法可以按Q/ZXZ12.001相关条款进行测试。委托第三方按相关国际标准测试时，检测机构需要得到中兴通讯认可。5.2检验方法5.2.1外观的检验方法（目检）以肉眼在300600lx的近似自然光（如40W日光灯，相距300mm500mm）照明下观察。应避免反射光的影响。如有必要，也可用45倍放大镜参考检验。注意与生产零件同槽处理的试样件比较。5.2.2耐腐蚀性按照GB/T10125-1997中的中性（NASS）盐雾试验进行连续喷雾测试。5.2.3附着力用3M胶带（附着力强度为10±1N/25mm）紧密粘贴在

17、试样表面，以未粘贴胶带边为基准大于90度角迅速拉起，胶带表面没有明显膜层附着为合格。5.2.4导电性按照QJ487-1983中3.3.1规定的方法（惠斯登电桥）进行测量。也可以采用低电阻测试仪或微欧姆计进行测量。采用低电阻测试仪测量时，操作方法为：以试片测量，将两块试片叠合，并错开一部分，用低电阻测试仪的两表笔分别以适当的压力搭接上下两块试片，测试任意两点间电阻值小于100mQ为合格。6验收规则6.1外观验收关键及重要零件进行100%的检验。其他零件按加工批次进行抽样检验，具体抽样方案按GB/T12609-1990中7.1的抽样方式进行，具体抽样方法按表2进行（相当于GB/T2828.1中一般

18、检查水平II，AQL=1.5）。表2产品抽样方法批内产品数量（批量）试验的产品数（样本量）可接收批的最大不合格品数（接收数）拒收批的最小不合格品数（拒收数）91以下200191280321228150050235011200803412013200125553201100002007810001以上31510116.2性能验收化学氧化层刚刚形成时较易划伤，随着逐渐脱水而老化变硬，所以任何性能试验均应在成膜24小时后进行。化学导电氧化件的性能检验包括：导电性、耐腐蚀性、高温后的耐蚀性、膜层附着力等，按加工批次或下面的专门规定进行抽检，有疑问时可随时抽检。一般抽样数量：每批次23件，若有一件不合格，即判定本批不合格。6.2.1 导电性和附着力导电性和附着力测试，平面零件可直接测量，复杂零件需要在与零件同类材料同槽氧化的平面试样上进行测量。连续生产时按加工批