有关物质研究思路

1、化学药物有关物质研究思路王磊磊杂质分类杂质：任何影响药物纯度的物质。按理化性质分类按理化性质分类分类备注有机杂质（有关物质）工艺杂质合成中未反应完全的反应物及试剂、中间体、副产物。降解杂质、聚合物及异构体等。从反应物及试剂中混入的杂质无机杂质反应试剂、配位体、催化剂、重金属、其它残留的金属、无机盐、助滤剂、活性炭等。 残留溶剂原料药及制剂生产过程中使用的有机溶剂、降解产生的溶剂杂质分类分类依据分类依据备注备注来源工艺杂质降解杂质、聚合物及异构体等。从反应物及试剂中混入的杂质毒性毒性杂质普通杂质有关物质研究思路-工艺杂质 工艺杂质指的是药品在制备工艺过程中引入的杂质，它包括没有反应完全的反应物、

2、反应过程中所生成的中间体及副产物、反应过程中所使用的试剂及催化剂等。 此类杂质的结构较明确，可以通过合成工艺路线进行分析，确定可能引入的杂质，以及可能发生副反应产生的杂质等。 注：对于原料药中已控制的工艺杂质，且该工艺杂质在制剂生产和稳定性过程中不再增加，则在制剂中无需对该杂质进行控制。 有关物质研究思路-降解杂质 降解产物指的是药品在生产和贮藏过程中发生化学变化而产生的杂质，如发生水解、氧化、开环等反应，降解产物主要与药物的结构特征密切相关。此类杂质可以通过下面的途径进行分析：根据药物的结构特征，对可能产生的降解杂质进行分析。例如，结构中含有酯基的药物容易发生水解、结构中含有羧基和氨基的药物

3、容易发生酰化反应生成内酰胺结构等。有关物质研究思路-降解杂质参考各国药典及文献报道，对其中的降解杂质进行分析。进行强制降解试验，分析潜在降解产物，并将其中增长加快的杂质与已知杂质进行对比或进行结构确证。对于制剂，除原料药单独存在时的降解产物外，还要关注药物与辅料以及包材间相互作用引起的药物降解或副反应，以及制剂制备过程中可能引起的降解。另外，对于复方制剂，还要关注各主药间的相互作用。对于上述情况，可以通过原辅料相容性及原料与包材相容性研究来分析产生的降解产物。例如，乳糖与含有伯胺类结构的药物可以发生缩合反应，生成腙与糖脎等衍生物。将自研产品与原研制剂进行杂质谱分析，并通过强制降解、稳定性试验（

4、影响因素、加速6月、长期6-36月试验），对其中增长的杂质进行对比分析。杂质谱（Impurity Profile）杂质谱：化药合成过程中可能产生的所有杂质的清单（包括未反应完全的起始物料、副反应产物以及降解产物等）。研究思路： 原研制剂杂质谱仿制原料药杂质谱仿制制剂杂质谱。将原研产品与自研产品同时进行加速试验及强制降解试验，对两者的杂质谱进行对比，自研产品的杂质谱应与原研产品的杂质谱相同。杂质谱相同主要是指自研产品与原研产品的降解杂质一致，而由于各厂家的原料药制备工艺和制剂制备工艺不同，所引入或产生的工艺杂质也各有不同。因此，对于既有的质量标准中控制的杂质，尤其是工艺杂质，应根据实际生产工艺进

5、行分析，制定适合自身产品特点的质控限度，不能完全照搬质量标准。有关物质检测方法 有机杂质的检测方法包括化学法、光谱法、色谱法等，根据药物结构及降解产物的不同采用不同的检测方法。通过合适的分析技术将不同结构的杂质进行分离、检测，从而达到对杂质的有效控制。 在质量标准中，目前普遍采用的杂质检测方法主要为高效液相色谱法（HPLC）、薄层色谱法(TLC)、气相色谱法(GC)和毛细管电泳法（CE）。应根据药物及杂质的理化性质、化学结构、杂质的控制要求等确定适宜的检测方法。由于各种分析方法均具有一定的局限性，因此在进行杂质分析时，应注意不同原理的分析方法间的相互补充与验证，如HPLC与TLC及HPLC与C

6、E的互相补充，反相HPLC系统与正相HPLC系统的相互补充，HPLC不同检测器检测结果的相互补充等。 有关物质计算方法外标法（杂质对照品法）优点：定量比较准确。缺点：外购杂质对照品成本较高，自制对照品需要进行结构确证及标定。加校正因子的主成分自身对照法优点：定量比较准确，操作方便。缺点：（1）如果直接采用药典方法中的校正因子，应完全按照药典中的色谱条件，因为色谱条件不同，杂质的保留时间、峰形及峰面积也会有较大差别，对校 正 因 子 的 校 准 作 用 也 会 产 生 明 显 影 响 。（2）如无药典或文献报道，应对校正因子进行详细的研究。有关物质计算方法不加校正因子的主成分自身对照法优点：主要

7、用于未知杂质计算，操作方便。缺点：已知杂质对主成分的相对响应因子在0.9-1.1范围内时，可以用主成分的自身对照法计算含量，但超出0.9-1.1范围时，宜用杂质对照品法计算含量，也可用加校正因子的主成分自身对照法。面积归一化法优点：简便快捷。缺点：各杂质与主成分响应因子不一定相同、杂质量与主成分量不一定在同一线性范围内、仪器对微量杂质和常量主成分的积分精度及准确度不相同等因素，所以在质量标准中采用有一定的局限性。 校正因子（ Correction Factor ）绝对校正因子： HPLC定量测定中，物质的检测量W与色谱响应值（峰面积等）A之间的比值，即单位响应值（峰面积等）所对应的被测物质的量

8、（浓度或质量）。校正因子：某物质i与所选定的参照物质s的绝对校正因子之比。注：在有关物质计算时，应用峰面积比值乘以校正因子。主成分的绝对校正因子杂质的绝对校正因子校正因子峰面积浓度或质量绝对校正因子相对响应因子（Relative response factor）响应因子与绝对校正因子相反，它表示物质的色谱响应值（峰面积等）A与检测量W之间的比值。相对响应因子：某物质i与所选定的参照物质s的响应因子之比。注：在有关物质计算时，应用峰面积比值除以相对响应因子。主成分的响应因子杂质的响应因子相对响应因子浓度或质量峰面积响应因子校正因子测定方法单浓度点测定：制备适当浓度的特定杂质对照品溶液和主成分对照

9、品溶液，分别进样测定。多浓度点测定：制备适当的高、中、低三水平浓度的特定杂质对照品溶液和主成分对照品溶液（涵盖定量限、标准限度），分别进样测定，取平均值作为校正因子。标准曲线法测定标准曲线法测定：精密称取杂质对照品和主成分对照品，分别制备系列溶液（涵盖定量限、标准限度），分别进样后，按最小二乘法以进样量对响应值（峰面积等）进行线性回归，求得两条标准曲线，两曲线斜率之比即为校正因子。吸收系数比值法：制备适当的高、中、低三个水平浓度，测定杂质对照品与主成分对照品的平均吸收系数，将两者吸收系数比值作为校正因子。校正因子测定注意事项校正因子的测定需要用到特定杂质及主成分的标准物质，这些标准物质应具备量

10、值准确的特点，符合标准物质（对照品）的相关要求。确定校正因子的分析方法应与最终确定的质量标准方法一致，色谱条件等需经筛选优化后确定，如有变更，需考虑对校正因子的影响，必要时重新确定。要关注影响待测物UV吸收的各种因素，如溶液制备所用溶剂最好与最终确定的流动相相同，检测波长最好在特定杂质及主成分UV曲线的峰或谷处，避开吸收值急剧变化波段，以保证测定方法具有较好的耐用性，并保持测定结果的恒定。校正因子的应用当校正因子在0.91.1时，可直接采用不加校正因子的自身对照法定量。超出上述范围时，如采用主成分自身对照法的定量方式，应采用加校正因子的自身对照法定量。如校正因子在0.25.0范围以外时，表明杂

11、质与主成分的UV吸收相差过大，校正因子的作用会受到显著影响，此时应改变检测波长等检测条件，使校正因子位于上述范围内，或使用结构或UV吸收与该杂质接近的另一标准物质为参照物质（如对照品易于获得、标准已采用对照品外标法定量的另一特定杂质），重新确立校正因子。例如L-苹果酸有关物质测定时，采用马来酸为参照进行定量。如校正因子仍无法调节至适当范围，需考虑采用杂质对照品外标法等适当的杂质方式定量。基本概念-报告限度报告限度（Report Threshold）：超出此限度的杂质均应在检测报告中报告，并应报告具体的检测数据。 原料药原料药制剂制剂最大日剂量报告限度最大日剂量报告限度2g0.05%1g0.1%

12、2g0.03%1g0.05%基本概念-鉴定限度鉴定限度（Identification Threshold）：超出此限度的杂质均应进行定性分析，确定其化学结构。 原料药原料药制剂制剂最大日剂量鉴定限度最大日剂量鉴定限度2g0.10%或1.0mg (取最小值)1mg1.0%或5g(取最小值)1mg10mg0.5%或20g(取最小值)2g0.05%10mg2g0.2%或2mg(取最小值)2g0.10%基本概念-质控限度质控限度（Qualification Threshold）：质量标准中一般允许的杂质限度，如制订的限度高于此限度，则应有充分的依据。原料药原料药制剂制剂最大日剂量质控限度最大日剂量质控

13、限度2g0.15%或1.0mg (取最小值)10mg1.0%或50g(取最小值)10mg100mg0.5%或200g(取最小值)2g0.05%100mg2g0.2%或3mg(取最小值)2g0.15%有关物质限度制定原则首先应考虑药物的药理活性及毒性，对于具有活性或遗传毒性的杂质，应根据安全性数据，制定合理的限度。其次，考虑生产的可行性及批间的波动性，限度的制定应依据工艺稳定、具有代表性的批次检测结果进行制定。再次，考虑药品本身的稳定性，可根据稳定性考察、原料药的制备工艺、制剂工艺、降解途径等的研究及批次检测结果来预测正式生产时产品的杂质概况。仿制药有关物质限度制定已有药典标准的药品，可以根据已

14、有的标准制订相应的杂质限度。已有标准中未规定杂质的限度，应与已上市同品种药品（建议首选原研发企业在有效期内的产品）进行全面的质量对比研究，分析其杂质的种类与含量，根据研究的结果，以及稳定性考察的结果，决定是否需在质量标准中对杂质进行控制。如果难以获得已上市同品种的标准，但有相同原料药的其它剂型上市，则在制订杂质限度时，可参考此上市产品质量标准，对杂质进行控制。 仿制药有关物质限度制定已知杂质 根据药典或相关质量标准中已知杂质的限度进行控制。即：（1）与ICH成员国药典控制的相同已知杂质可以按药典标准控制；（2）与原研产品相同的非特定杂质可以按药典标准中非特定杂质限度。未知杂质（1）小于鉴定限度

15、的未知杂质，按鉴定限度制定。（2）大于鉴定限度且小于质控限度的未知杂质，对其进行结构确证，并按质控限度进行控制。（3）大于质控限度的未知杂质，需要对其进行结构确证，并对其活性或安全性进行详细研究，并根据安全性数据制定合理的限度。即：出现了原研产品中没有的新增杂质要按指导原则限度，原料限度一般不超过0.1%；制剂为0.2%。可能具有特殊活性或毒性的杂质，应对其进行结构确证，并进行安全性研究，根据安全性数据制定合理限度。有关物质数据处理 检测结果应提供具体试验数据（如杂质的保留时间及含量），不能笼统地表述为“符合要求”或“合格”等。 中国药典和美国药典中，一般不设置报告限，只规定扣除空白或辅料中的

16、峰，欧洲药典一般规定忽略限（disregard limit） ，即报告限。 日常的检测中，对于报告限以下的未知杂质可以忽略不计，只报告大于报告限的杂质，并计入总杂。已知杂质应根据实际计算结果进行报告。杂质的报告的数据一般精确到小数点后第二位。有关物质方法学验证-系统适用性试验定义定义系指用来确认系统能否满足分析需求的试验，通常包括理论塔板数、分离度、重复性和拖尾因子等四个参数。其中，分离度和重复性尤为重要。溶液配制溶液配制1.对照溶液或杂质对照品溶液2.已知杂质与主成分混合溶液（如杂质无法获得，可用强制降解溶液代替）*3.灵敏度溶液或增敏溶液（USP常见）可接受标准可接受标准1.主峰或杂质峰峰

17、面积RSD应符合要求*，保留时间RSD应不大于1.0%。2.杂质峰与主成分峰分离度、拖尾因子及理论塔板数应符合质量标准规定。*3.应符合质量标准规定备注备注*通常含量低于0.5%的杂质，峰面积的RSD应小于10%；含量在0.5%2%的杂质，峰面积的RSD应小于5%；含量大于2%的杂质，峰面积的RSD应小于2%。有关物质方法学验证-专属性定义定义系指在其他成分（如杂质、降解物、辅料等）可能存在下，采用的分析方法能够正确鉴定、检出被分析物质的特性。 溶液配制溶液配制1.空白溶液（及空白辅料溶液）、供试品溶液2.1中间体、已知杂质、主成分单独配制溶液（用于定位）2.2 中间体、已知杂质、主成分混合溶

18、液（用于考察分离度）*3.强制降解试验*4.滤膜吸附性试验可接受标准可接受标准1.1 空白溶液（及空白辅料溶液）在主成分及已知杂质保留时间处无干扰。 1.2 供试品溶液中主峰纯度应大于0.990。2.中间体、已知杂质及主成分间的分离度应达到要求。有关物质方法学验证-强制降解试验溶液配制溶液配制空白溶液（空白辅料溶液）、供试品溶液降解试验降解试验试验名称试验名称试验条件试验条件未破坏N/A酸破坏一般采用0.1mol/L1mol/L的盐酸碱破坏一般采用0.1mol/L1mol/L的氢氧化钠溶液高温破坏溶液、固体2种；通常温度高于加速试验温度的10，如50 ；如稳定，可采用水浴或105破坏。光照破坏

19、溶液、固体2种；可采用4500Lx/紫外254nm/光照箱氧化破坏采用0.1%3%双氧水进行破坏，同时可提高反应温度以促进主药的分解。破坏程度破坏程度以主成分含量90%左右为宜；如稳定，破坏时间可延长到24-36小时。可接受标可接受标准准1.空白溶液（空白辅料溶液）在主峰与杂质峰保留时间处无干扰。2.主峰、已知杂质峰与相邻峰能有效分离（1.5），一般要求基线分离。3.理论塔板数、拖尾因子、主峰峰纯度应符合规定。4.物料守恒，与破坏前相比，总的峰面积比值应在90.0%110.0%。有关物质方法学验证-滤膜吸附性试验目的目的对于需要过滤的样品，将过滤后样品与离心样品进行对比，确定滤膜是否脱落或对主

20、成分/杂质吸附，从而影响杂质测定，同时，根据试验结果，可以确定供试品制备滤膜的选择（包括材质、直径以及孔径大小）以及弃去初滤液的体积。溶液配制溶液配制1.供试品溶液2.100%限度主成分/杂质对照品溶液可接受标准可接受标准1.与离心后供试品溶液对比，不得有新的杂质出现。2.与离心后对照品溶液中主成分或杂质峰面积比值应在90.0%110.0%。有关物质方法学验证-精密度精密度精密度系指在规定的测试条件下，同一均质供试品，经多次取样进行一系列检测所得结果之间的接近程度（离散程度）。 *系统重复性系统重复性定义定义系指系统连续进样时结果的重复性，一般连续进样6次。溶液配制溶液配制对照（品）溶液可接受

21、标准可接受标准(n=6)RSD应符合要求（一般应5.0%）。有关物质方法学验证-精密度重复性重复性定义定义系指在同样的操作条件下，在较短时间间隔内，由同一分析人员测定所得结果的精密度。溶液配制溶液配制（三者选一）（三者选一）1.供试品溶液6份（杂质水平较高的样品）2.100%加标供试品溶液（制剂：向空白辅料中加入100%限度杂质对照品）6份（杂质较少的样品）3.杂质限度浓度的主成分溶液6份（面积归一化或主成分自身对照法）可接受标准可接受标准(n=6)1.单杂、总杂极差应小于0.1%。2.单杂、总杂极差应小于0.1%。3.RSD应符合要求（一般应5.0%）。有关物质方法学验证-精密度中间精密度中

22、间精密度定义定义中间精密度系指在同一实验室，由于实验室内部条件改变，如时间、分析人员、仪器设备、测定结果的精密度。 溶液配制溶液配制（三者选一）（三者选一）1.供试品溶液6份（杂质水平较高的样品）2.100%加标供试品溶液6份（杂质较少的样品）3.杂质限度浓度的主成分溶液6份（面积归一化或主成分自身对照法）可接受标准可接受标准（n=12）1.单杂、总杂极差应小于报告限（一般为0.05%）。2.单杂、总杂极差应小于报告限（一般为0.05%）。3.RSD应符合要求（一般应5.0%）。有关物质方法学验证-线性与范围线性线性系指在设计的测定范围内，检测结果与供试品中被分析物的浓度（量）直接呈线性关系的

23、程度。 范围范围系指能够达到一定的准确度、精密度和线性，测试方法适用的试样中被分析物高低限浓度或量的区间。 溶液配制溶液配制LOQ杂质限度的150%（至少5个点）注：若采用自身对照法定量，对照溶液可能会高于杂质限度，则线性最高点做到对照溶液浓度的150%；若采用面积归一化法定量，线性最高点需要做到总杂限度的150%。可接受标准可接受标准1.相关系数（r）不得小于0.999（对于线性过0点的情况，r可不小于0.99）。2. Y轴截距/最低杂质限度时Y轴响应值的绝对值5.0%（可根据实际情况放宽至10.0%）。有关物质方法学验证-准确度定义定义系指用该方法测定的结果与真实值或认可的参考值之间接近的程度，一般用回收率（%）表示。溶液配制溶液配制定量限、杂质限度、线性最高点各配制3份（制剂需要加入100%处方量空白辅料或者用空白辅料溶液稀释