湿法刻蚀(RENA)作业指导书_第1页
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文档简介

1、赛赛维LDK太阳能高科技(合肥)有限公司文件 编号文件名称湿法刻蚀 作业指导书生效日期页码第1页 共3页、目的建立正确操作湿法刻蚀工序的规范,以保证刻蚀的质量及保护机器和人身安全。二、适用范围RENA湿法刻蚀工序的所有操作人员三、职责3.1、工艺技术人员3.1.1 、负责RENA刻蚀工序生产工艺运行的正常性、稳定性 。3.1.2 、负责部门内工艺运行原始资料的累积,保管,随时检查工艺运行状态,并记录异常,积极处理工艺异常。3.1.3 、负责应对RENA刻蚀设备常见、突出、重大的工艺异常,制定落实整改措施、预防措施、应急方 案。3.2、设备技术人员3.2.1、负责RENA刻蚀设备开关机、故障分析

2、、设备维护及检修。3.2.2、如有工艺需求,积极配合工艺人员调整设备硬件设置。3.3、生产人员3.3.1 、负责依照作业指导书要求,按标准进行生产作业,掌握正确的操作方法,确保操作安全、人身安全。3.3.2 、细心总结操作经验,发现新问题或改善建议,及时向工艺技术员汇报。3.3.3 、负责对RENA刻蚀设备进行标准、规范化操作,并配合、协助设备的日常维护工作。四、湿法刻蚀工段标准作业流程4.1刻蚀目的4.1.1在扩散过程中,硅片表面和四周都生长一层PN结,若不去除边缘的 PN结,制成的电池片因为边缘漏电而无法使用。4.1.2扩散时硅片表面形成了一层磷硅玻璃,磷硅玻璃不导电,为了形成良好的欧姆接

3、触,减少光的反射,在沉积减反射膜之前,必须把磷硅玻璃腐蚀掉。山彳赛赛维LDK太阳能高科技(合肥)有限公司文件 编号文件名称湿法刻蚀 作业指导书生效日期页码第2页 共3页4.2生产准备4.2.1穿上工作服,戴上PV(手套。422确保手套没有粘有油脂性物质,使用吸笔上下片,严禁用手直接接触硅片,在生产过程中禁止用手套接触皮肤,如接触过皮肤、头发或者是带有油脂的物品,请更换手套。4.2.3确认厂务配套各项目是否正常压缩空气:4.3生产操作过程4.3.1从扩散与去PSG勺传递窗领取硅片,一次限拿两盒,并检查流程 单,注意,传递窗不能两边同时打开。in process ",即表示设备进入正常生

4、产状态,4.3.2 检查界面显示,若各模块均为绿色"Ready'和绿色" 如果不在此状态,通知工艺人员进行处理。4.3.3从载片盒中拿出硅片,注意取片方式,先小心拿出盒盖,将硅片 盒竖起抽出硅片。4.3.4确认设备可正常使用后,把硅片轻放在滚轮上,注意硅片的扩散面,确保扩散面朝上,保证硅片整齐且每片之间的前后距离大于1.0cm。时使用吸笔将处理好的硅片从滚轮上吸到载片盒内。4.3.5 经过一遍刻蚀之后,硅片背场与边缘的PN结全部被刻蚀,下片赛维LDK太阳能高科技(合肥)有限公司文件 编号文件名称湿法刻蚀 作业指导书生效日期页码第3页 共3页436抽取每批的最后四片进行刻蚀前和刻蚀后称重测量,将所测数据记入规定表格,若减薄量超出工艺控制范围,及时通知工艺人员进行调整。4.3.7把装满硅片的片盒放入传递窗,流入PEVC工序。五、注意事项5.1上片时如果发现碎片、裂纹片或颜色异常的硅片及时挑出,并通知工艺人员进行处理。5.2生产过程中保持设备门窗关闭。5.3下片时观察硅片外观,发现有裂纹、碎片、未吹干、带液等情况时及时通知工艺与设备人员进行处理。5.4生产过程中,严禁裸手接触硅片、吸笔。5.5确保手

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