结合PCB实例的WnSn教材

1、软件 硬件SYSTEM IN DESIGH INWnSn教材*描述异常现象并以 图表整理分析*WKKD判断*以数据来证明（PROOF）（EX.柏拉图A项）*以重点为原则水问题点不能太大， 必须作适当的切割水针对问题点做Wn分析，不断地问什么： 全面展到不能再展，找 至ij ROOT CAUSE 为止（是否展到ROOT CAUSE 由KLM判断）水针对所有展开之Wn,提 出相对应之解决对策。 每一个W应尽可能至少 有一个Solution与之对 应。*针对每一个展开之Sn, 列出细部执行subicct,针 对subject做困难度的评 估，加总后即为各 SOLUTION之总评分。再将此分数除以贡献

2、度， 视数值低高，决定对策 是否实施及实施顺序。*对策实施时，以造成D/C ration数值低者优先实 施，这些subject项目并 列入工作计划内管理。*订立 Trouble-Shooting 与Continuous Improvement 执行计划。水利用质量手法手法/工具水柏拉图*现象描述分 析屮推移图-4WIH屮层别 -IS/IS NOT*直方图 DISTINCTION CHANGE*柏拉图嚨移图*系统图（TREE） 似符合逻辑&WHYn 的方式展开）*W->WHYn込治标治本（不可只有治标的solution）咁特图*P . D . C . A（P须涵盖T . S . M

3、 . K）T : TARGETS:SCHEDULEM : MEASUREMENTK : KLM*推移图*直方图驾佥定水DESIGN IN SYSTEM IN参考表格*现象描述分析表*Wn分析表WnSn展开表*贡献度与困难度评 估表Trouble Shlooting 与ContinuouImprovement执行计划表水软件指制度面IWn-Sn展开表問題點HighW1-1蚀刻制程 能虽不够W1W2W3W4W5-1-W2-1上下对位能虽不够p W3J底片对位不佳 厂W4-1底片易涨缩V5lpolycslcr手温湿彩响|_1- W4.2PLOTTER精度不够 V52无回馈微调定位系统W32曝光机对准

4、不稳定¥43无CCD自动对位回馈系统_W4-4曝光DIE SET结构不够强1 前处理不佳W5-5压膜板淙不够W5-3导杆直径不够大W2-2BT不足W3-3蚀刻侧蚀速度过快-W3-4蚀刻正面穿透力不够"W2-3整体补偿不当匚W35 -般性补偿不当W34实际与设计值有误至W2-4有蚀刻未穿现象W3-7霜光W38显彫不洁W4-5D/F与板面adhesion不佳¥46侧面缺乏保护'Z W4-7有水滞效盒W4-8板面受蚀刻压力不够W4-9滚轮有遮蔽效应W5-6水平蚀刻Ew5-7喷嘴距板面太远W5-8药液比董不足W4-IOploUcr resolution 不够W4-

5、11曝光笺虽过高W4-I2 干膜 resolution 不够W5-9Pixel size 过大W5-l0address accuracy 不够 小S1S2S3(0) S3-1订立补偿准则(0) S32求出最适去膜压力¥413水压膜温度过高.造成部 分 D/F cureS4S5(A)S4-1护岸剂评估(0)S4-2蚀刻滚轮设计更改(O)S4-3卷式蚀刻设备建立(OJS4-4定期校正喙光能虽(O)S45评估较薄干膜(O)S46定期校正压膜淙度(0)S5-l玻璃底片评估(0)S5-2保湿工具运送底片(O)S53保持无尘室温湿均一(O)S5-4 最适 plotter 评估(O)S5-5最适喙

6、光机评估(O)S56前处理.压膜条件最适化G)S57垂直蚀刻机(a)S5-8延长喷嘴研究此题过大，应针对“丁蚀刻制程能力不够収嘅有哪些能力不足层别作初步的分析。初步分 析展开后(亦及W2),若依L/F产品特性而言，“E/F不足"是较重要的课题，所以应拟订“E/F不足”为Wn 分析的对象(追根问题点)，较为恰当。(详见下图)Wn展开表W1W2W3W4W5W1-1侧蚀速度过快W2-1D/F与铜面adhesion -j- V31铜面接触不良n-W4l铜面有油脂 不佳一 W2-2侧面缺乏保护E/F不足W2-3未能确定nozzle型式角 度.摆动对防侧蚀之最佳 设计或氧化 LW4-2铜面与D/

7、F未达最 适adhesion结果 -W3-2D/F本身附着-p W4-3D/F硬化不完全一厂W5l压膜板 温不够 ,2曝光能 星不足力不佳-W4-4D/F特性不佳W1-2正面穿透-I W2-4有水滞效应力不足W2-5板面正面冲击压力 不够W33水平蚀刻W3-4喷嘴距离板面W4-5未拿握上下喷穿透 太远0R喷压力差异不足0R滚轮 有遮蔽效应Wn（WHYn）分析（问题分析）做法：针对所拟定Wn分析的对象，不断的问彷什么n（why）,全面展到不能再展，直到找到 ROOT CAUSE 为止原则:n-l n n+11 Wn分析要依结果一原因结果原因结果一原因的方式展开（第n阶是第n-l阶的原因，是 第n

8、+1阶的结果），要不断的以“为什么，因为。”，且符合逻辑的方式展开，如此方可 避免跳阶的弊病。所以在Wn展开过程中，不应有who . where . when . what的分析。2 展开的内容应based on专业技术.知识经验与理论基础。3 以who . where . when . what之分析或层别应置于“一.题目选取”之问题层别部分。4 - Wl, W2, .Wn是代表深度，Wl-1, Wl-2, Wl-3, .Wl-n代表广度。同一阶所列出之Wn,由上而下依序编以流水号。（请参考Wn分析表）5 展开时要给于编号，结果与原因之间要用线连结。（请参考Wn分析表）6Wn展开后，应依据某

9、一期间之质量数据收集，在经过报废板之缺点比对判定后，决定Wn 每一阶之贡献度，以作为solution评价的标准。7 就实务上而言，Wn展开时，因为某些尚未确知的因素.后一阶展开的原因可能无法完全说 明前一阶的结果。但一般而言，可依据【28（或37）法则】（亦即后一阶所展出的二项原因是造 成前一阶80%的结果），来判断Wn展得是否完全。常用的品管手法:1 系统图（TREE）。参考表格：Wn分析表° 实例说明:参考系统图（TREE）部分实例。Sn展开（对策提出）做法：针对所有展开之Wn,提出相对应之解决对策。原则:1 所有的W都尽可能至少一个SOLUTIONo2 Sn编号应与Wn编号相对

10、应（请参考WnSn展开表）3 为方便与Wn对照，Wn . Sn应尽量表现于同一张图表中（即WnSn展开表）。Sn 评估（Disposition）做法:有以下两种：一经验评估法：1.依据本身专业知识及经验，针对所有展开之Sn给予评价，各solution经评价后之表示方式如下： O:表示立即可行X:表示不可行:表示必须经过更进一步评估（如行效评估法）方知是否可行二行效评估法：1 针对每一个展开之Sn,列出细部执行之subject,针对subject做困难度的评估。评估的因素涵盖完成之耗时影响生产停机时间设备修改状况动用人力是否须进行长时间理论探讨改 变作业流程经费等七方面。详细的评估说明请见下表（

11、请参考Trouble Shooting与Continuous Improvement标准作业办法）o2 各个subject之评分加总后即为各solution困难度之评分。再将困难度之评分除以贡献度（困难度/贡献度），而得到丨执行效果指标（D/C皿io）。依D/C ratio所得之值选择分数低者优先实施， 介于010列为K项；11-99列为P项；100以上则为G项。故K项为优先执行之solutiono原则:1 依执行效果指标（D/C曲io）所得之值分数低者优先实施参考表格:贡献度与困难度评估表Wn分析W2-1W1-1W2-2W2-3|_ W2-4W1-2 W2-5I W2-6W1-3 W2-7W1-4| W2-8I W2-9Wl-nW3-1W3-2W3-3W3-4W3-5W3-6W3-7W3-8W3-9W3-10W3-11W3-12W3-13W3-14匚 W4-1W4-2-E Wn-1.Wn-2Wn-Sn展开表Wl-lWl-2I Wl-3W1W2W3W2-1W2-2W2-3W2-4W2-5W2-6W2-7SIW4WnW3-1W3-2W3-3(O)S1-1(O)S2-1(O)S3-1(O)Sl-2(O)S2-2(O)S3-2(X)Sl-3-l(X)S2-3-l(O)S3-3-l(A)Sl-3-2(A)S2-3-