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文档简介

1、高级氧化技术-复习题 高级氧化技术复习题 1、简述构造原理的内容,怎样判断分子是处于基态还是激发态? 电子在原子或分子中排布所遵循的规则被称为构造原理。 (1)泡里不相容原理 (2)能量最低原理 (3)洪特规则 分子中所有的电子排布都遵从构造原理所包含的规则时所处的状态,称为基态。 分子中的电子排布不完全遵从构造原理所处的状态,称为激发态。 2、根据分子轨道理论,画出基态氧分子的分子轨道,并分析其的多重性。 2p*2py*2pz*能量2p2py2p2pz2p2s*2s2s2s1s*1s1s1s原子轨道分子轨道原子轨道 基态氧的多重性为3。 3、画出激发态分子与基态分子之间分别发生(1)电子转移

2、;(2)能量转移的示意图。 (1)电子转移 d*ad+a- d*+ad+a- (2)能量转移 lumolumohomod*homoada* d?a? *d?a *4、半导体tio2受光激发后,电子和空穴的命运有哪几种?画图表示并说明。 hveg+-+da+-*ce-+b+ox-aadsox+reddadsred (a)受光激发,电子-空穴对分离;(b)空穴扩散到催化剂表面,氧化有机物;(c)电子扩散到催化剂表面,还原分子氧;(d)电子-空穴的表面复合;(e)电 子-空穴的体相复合。 5、二氧化钛的工业制备方法有哪些?简单介绍其原理。 (1)硫酸法原理: fetio3?2h2so4?tioso4

3、?feso4?2h2otioso4?2h2o?tio(oh)2?h2so4tio(oh)2?tio2?h2o? (2)氯化法原理 tio2?2cl2?2c?ticl4?2coticl4?o2?tio2?2cl2 6、贵金属表面沉积对tio2光活性有什么影响?画图表示并说明。 贵金属通过改变电子的分布而修饰了半导体的性质。当两种物质接触时,电 子就会不断地从tio2向沉积金属迁移。贵金属负载,可以电子和空穴分别定域在贵金属和半导体上。抑制复合,高光催化活性。 hv surface recombination+-+-*+o2pt-o2-+oho2- volume recombination+r.+

4、o2ohr- 7、cds-tio2复合型半导体的电子传输机理? hveg=2.5eveg=3.2evcdstio2 cds的禁带宽度(2.5ev)比tio2的带隙(3.2ev)窄,能够吸收可见光而受到激发,而且cds的导带位置比tio2的高越0.5ev,这使光生导带电子能够注入到tio2的导带上,产生有效的电荷分离,提高光催化效率。复合半导体光催化剂通过提高电荷分离度,拓展体系光激发能量范围,为提高光催化反应过程提供了一个便捷途径。 8、非金属(如氮)掺杂tio2有什么意义?其原理?掺杂tio2方法的缺陷? cbtio2tio2-xnxdopant levelvb 非金属掺杂通过在tio2的禁

5、带中间引入掺杂能级,效缩小tio2的禁带宽度,使tio2的激发波长从紫外区拓展到可见光区,提高了可见光的催化活性。 缺点:(1)催化剂的稳定性下降;(2)空穴的氧化能力减弱;(3)可能牺牲 催化剂的紫外光催化活性。 9、tio2在紫外光的作用下,可以降解活性染料x3b。实验发现,当在溶液中加入少量的fe3+后,x3b的降解速率大大增加。试解释原因。 o2o2.-fe2+fe3+rr.+ fe3+夺取光生电子的能力要大于分子氧。fe3+通过快速转移光生电子,抑制了载流子的复合,增加了空穴浓度。因此,x3b的降解速率大大加快。 10、简述tio2溶液中,可见光照射下的染料自敏化降解的原理。 在可见

6、光的照射下,tio2通常不能被激发,但染料分子可以被激发。(1)激发态的分子可以向二氧化钛导带注入电子,该电子被吸附在tio2表面的分子氧俘获,生存超氧负离子自由基。(2)超氧负离子自由基可以氧化染料阳离子,使它发生氧化降解。超氧负离子自由基也可以逐渐转化为羟基自由基,再去氧化染料分子而发生降解。 11、photo-fenton反应降解有机污染物的原理? h2o2fe3+ho2.x3bx3b.ohfe2+h2o2 fenton反应原理: fe2+离子能促进h2o2的分解,产生羟基自由基,自身被氧化为fe3+。fe3+也可以被h2o2还原,实现自身的循环,而h2o2被氧化为超氧自由基。羟基自由基和超氧自由基具有很强的氧化能力,使水中的有机污染物发生降解和矿化。 在光的作用下,fenton反应的速率大大加快。因而,有光参与的fenton反应,又被称为photo-fenton反应。 12、杂多酸光催化降解有机污染物的原理? pom?pom pom + h2o?pom + .oh + h *-+hv*dye + .oh?degradation pom+o2?pom+o2 -.- 13、什么是高级氧化技术?环境光催化技术的共性? 高级氧化技术是指以羟基自由基为主要氧化物种的氧化过程。常用的高级氧化技术有tio2光催化、杂多酸光催化、photo-fenton反应、fe3+光解和

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