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文档简介
材物08-1班 郭亮亮 08132119实验8-1 InSb磁电阻特性研究【实验目的】1、掌握磁感应强度的测量方法;2、了解磁电阻的一些基本知识;3、测量和分析InSb材料磁电阻特性;【实验原理】磁电阻(Magneto Resistance,MR)通常定义为 (8-1-1)其中:(0)是零外场下的电阻率,(H)是外场下的电阻率。有时,上式也可以表示为 (8-1-2)其中:R(0)是零外场下的电阻,R(H)是外场下的电阻。根据(8-1-1)和(8-1-2)式,可以将磁电阻划分两类,即正磁电阻和负磁电阻。如果考虑磁场与电场之间的关系,又可以分为纵向磁电阻、横向磁电阻和垂直磁电阻。如图8-1-1所示,图中电阻沿电流方向测量。图8-1-1 依赖与磁场和电流方向的三种磁电阻(a)纵向磁电阻:(b)横向磁电阻:(c)垂直磁电阻。目前,已被研究的磁性材料的磁电阻效应大致包括:由磁场直接引起的磁性材料的正常磁电阻(Ordinary Magneto Resistance,OMR)、与技术磁化相联系的各向异性磁电阻(Anisotropic Magneto Resistance,AMR)、掺杂稀土氧化物中特大磁电阻(Colossal Magneto Resistance,CMR)、磁性多层膜和颗粒膜中特有的巨磁电阻(Giant Magneto Resistance,GMR)、以及隧道磁电阻(Tunnel Magneto Resistance,TMR)等。图8-1-2列出了几种磁电阻阻值R随外磁场0H的变化形式。在以上磁电阻效应中,正常磁电阻应用最为普遍。图8-1-2 几种典型的磁电阻效应图8-1-3正常磁电阻普遍存在于所有磁性与非磁性材料中,其来源于外磁场对载流子的洛仑兹力,它导致载流子运动发生偏转或产生螺旋运动,从而使载流子碰撞几率增加,造成电阻升高,因而,在正常磁电阻中,、和均为正,并且有。正常磁电阻与外场的关系如图8-1-3所示。在特定的温度,随外场的增加,在低场区域,正常磁电阻近似地与外场成平方关系。对于单晶样品,在较高的磁场区域,显示了饱和的趋势(曲线),而和显示出各向异性,即随外场增加或正比于(曲线A)或趋于饱和(曲线B)。对于多晶样品,在强场中,正常磁电阻则显示出与外场H的线性关系(曲线C)。正常磁电阻的各项异性来源于费米面的褶皱。如果设载流子速度为,在洛仑兹力的作用下,沿外场方向作螺线运动,螺线的轴与方向平行,则载流子围绕该轴的角速度即回旋频率c为: (8-1-3)式中是载流子的有效质量,是磁导率。由于散射和碰撞,载流子绕轴回转的平均角度为: (8-1-4)其中:是电导率,为,n是载流子的密度(cm-3),为驰豫时间,即载流子经过两次碰撞的平均时间。很明显,只有当,才能观察到正常磁电阻。应注意到只是正常磁电阻出现的判据,并不保证满足该条件下都能观察到正常磁电阻。以Cu为例,室温下(237K),n=,根据 (8-1-4) 式,可得。要满足,需要大于1200 KOe1Oe=1000/4Am的磁场,这在目前是难以达到的,因此在室温下观察不到磁电阻。为了在室温和较低磁场条件下,观察到正常磁电阻,通常采用半导体材料。实验中我们要研究的InSb传感器就属于此种。图8-1-4 图8-1-5如图8-1-4所示,薄片状、长方形半导体材料置于磁感应强度为B的磁场(磁场方向垂直于材料表面)中,电流沿CD方向。在该情况下,半导体内的载流子将受洛仑兹力作用,发生偏转,在AB两端产生积聚电荷,形成霍尔电场。如果霍尔电场作用和某一速度的载流子的洛仑兹力作用刚好抵消,那么小于或大于该速度的载流子将发生偏转,因而沿外加电场方向(CD方向)运动的载流子数目将减少,造成电阻增大,表现出横向磁电阻效应,这种效应也称物理磁电阻效应。如A、B端短接,磁电阻效应将更明显。实验表明,当外磁场强度不大时,R正比于B2,而在强磁场中,R正比于B。伴随物理磁电阻效应,还存在一种几何磁电阻效应,产生的原因是半导体内部的电流分布由于磁场的作用发生了变化,半导体材料形状不同,几何磁电阻效应也不同,如图8-1-5所示。【实验仪器】MR-1型磁电阻效应测量装置磁感应强度B由下式给出 (8-1-5)其中k为常数,不同的霍尔元件k不同。k的值标注于仪器上。【实验步骤】1、调节InSb位置,使其刻度线处于磁线圈的中间位置,以后均保持此位置不变。2、调节励磁电流在0到400mA之间,每隔30mA测一点;大于400mA时每隔100mA测一次。测量时,要先测InSb磁电阻元件的电压(U2)和工作电流(I2),而且,对于每个励磁电流,都应保持U2(800mV)基本恒定,以及GaAs霍尔元件与InSb磁电阻元件在磁极间的位置基本相同。3、将S合向GaAs,记下GaAs的电压 U1,电流I1。4、当励磁电流达到900 mA 时,停止计数,将励磁电流降为零,再关闭电源。【数据处理】实验得到的数据如表8-1-1所示:表8-1-1 实验数据表Im/mAGaAsInSbU1/mVI1/mAU2/mVI2/mA00.52.16800.42.16326.22.11800.22.1262112.03800.32.039215.31.91801.61.9112018.51.78799.41.7915321.61.65799.41.6518224.21.55801.51.5621226.61.47800.41.4724229.31.42801.21.4227332.11.38799.51.3830034.71.35800.91.3633237.51.32799.71.3236240.21.3801.71.339242.61.27799.11.2749250.51.21800.11.2159257.41.14799.51.1469263.51.087991.0879268.91.037991.0389273.80.98801.70.9899277.60.94799.40.94对于GaAs,U1,I1,B三者的关系已知,即B=U1/KI1(8-1-1) (其中k=171mV/ mA.T),将式8-1-1代入表8-1-1中,计算出不同励磁电流所对应的B值。 I励磁=0时,InSb的R(0)= 800.4/2.16=370.56()I励磁0时,InSb的R=U2/I2,R=R-R(0)(8-1-2)将(8-1-2)代入表8-1-1中,得出不同磁场强度B时的R,进而得到R/R。数据如下表8-1-2所示:表8-1-2 计算出的B-R/R(0)关系表Im/mAB-R/RB/TR/R/R00.001353370.560320.017183377.450.0186620.031688394.240.0639920.046844419.690.13251200.060779446.590.20521530.076555484.480.30741820.913035513.780.38652120.10582544.480.46932420.142787572.280.54442730.136028579.350.56343000.150314588.890.58923320.166135605.830.63493620.180836616.690.66423920.196159629.210.69794920.244067661.240.78445920.294449701.320.89266920.343837739.810.99657920.391188775.731.09348920.440386818.061.20769920.482767850.431.2949当I励磁从0增大到992mA时,磁场强度从0增大到0.482767T。分析:在I励磁=0时,B0,说明铁芯内有剩磁存在,很小约为0.001T,顾在实验前应先将铁芯取出进行“退磁”处理。作出全过程的BR/R(0)曲线,如图 8-1-4所示: 由上图8-1-4可以明显看出,曲线分为两段,在弱磁场(B0.1T)时,R/R(0)与B近似成二次关系,在强磁场(B0.14)时,R/R(0)与B呈线性关系。 下面分别对这两段曲线进行拟合。1. B0.1T时,作出R/R(0)与B的关系曲线: 由图8-1-5可以判断出,B0.1T时,R/R(0)与B之间成二次关系,即R/R(0)与B2成线性关系。B2与R/R(0)的数据如下表所示: B2与R/R(0)的数据记录表B2/T2R/R0.00000100.0002950.01860.0010040.06390.0021940.13250.0036970.20520.0058610.30740.0083360.3865作出B2与R/R(0之间的关系曲线,如下图8-1-6所示:由图可知R/R(0)与 B 呈线性关系,对其添加趋势线l(如图所示),并进行线性拟合得: y = 47.16x +0.0151 即 R/R(0)=47.16 B2 + 0.0151 (8-1-3) 分析式(8-1-3),此拟合直线与y轴有截距,即B=0时,RR(0)。 分析原因:在I励磁=0时 ,B实际不为0,因为有剩磁的存在,使InSb的电阻发生了改变 即RR(0)。 2.B0.14T时, B与 R/R(0)的数据如下表:B/T0.1427870.1360280.1503140.1661350.1808360.196159R/R(0)0.54440.56340.58920.63490.66420.6979B/T0.2440670.2944490.3438370.3911880.4403860.482767R/R(0)0.78440.89260.99651.09341.20761.2949R/R(0)为B的一次函数,二者成线性关系,如图8-1-7所示: 由图可知,其趋势线 l 为: y = 2.119x +0.2707即 R/R(0) = 2.119B + 0.2707综合 1,2可知:B0.1T时,R/R(0)= 47.16 B2 + 0.0151,即R/R(0)正比于B2B0.14T时,R/R(0)= 2.119B + 0.2707,即R/R(0)正比于B。因此通常用电阻率的相对变化率/(0)表示磁阻的大小,而该InSb的电阻的相对变化率R/R(0) 正比于/(0),故也可以用R/R(0) 表示磁阻效应的大小。所以得出:当金属或半导体处于较弱磁场中时,一般磁阻传感器电阻相对变化率R/R(0)正比于磁感应强度,当金属或半导体处于较强磁场中时,R/R(0)与B呈性性函数关系.【思考题】1 试举例说明磁电阻效应的应用。答:磁电阻效应的应用有:传感器,例如 磁通门,霍尔效应器件,目前市场上磁阻器有半导体和磁性合金两种。很少用来制作电子磁罗盘,验钞机和大功率电流计等。磁电阻读出磁头.通过阻值的变化来感应信号的幅度,对信号变化相当灵敏,准确性也较高。自旋开关器件.是一个磁性薄膜装置,两个磁场薄层夹一个非磁性金属层,正相通电时多层膜处于低电阻,反向通电时呈高阻态.磁性随机存储器,是一种非挥发性的磁性随机存储器,可以静态或者动态随机存储.2. 如果磁场为交变形式,分析磁电阻元件随磁感应强度的变化情况?答:如果磁场处于正弦交变磁场中时:B=B0cost ,B0为磁感应强度振幅,为角频。 设在若磁场中 R/R(0)=K B2 R(B)=R(0)+ R= R(0)+ R(0)K B2 = R(0)+ R(0)KBO2cos2t = R(0)+0.5 R(0) KBO2+0.5 R(0) KBO2cos2t上式中 0.5 R(0) KBO2为不随时间变化的电阻值,0.5 R(0) KBO2cos2t是以角频率2作余弦变化的电阻值。因此,磁阻传感器的电阻值在弱正弦波交流磁场中,将产生倍频交流电阻阻值的变化。【实验总结】实验分析:1.分析 “纵向磁阻效应”:当磁场与外电场垂直时,因为载流子受洛伦兹力,所以偏转使其表现出磁阻效应,这称为“横向磁阻效应”。而当磁感应强度平行于外电场时,是否会产生“纵向霍尔效应的磁阻”呢?有两种情况:若载流子的有效质量和驰豫时间与其移动的方向无关,则B与载流子运动方向V平行,不产生洛伦兹力,也不会引起载流子漂移运动的偏转,不会产生磁阻效应。若载流子的有效质量和驰豫时间与其移动的方向V有关,作用力的方向不
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