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d m d 用于数字光刻成像研究 光学专业 研究生刘驰指导教师杜惊雷 信息时代对器件的微型化、轻量化、集成化的迫切需求，极大地推动了微 细加工技术的发展，以微光学、微电子、微机械为基础的m e m s 和m o e m s 技术已 在航空航天、光纤通信、光互联、光计算等高科技诸多领域展现出十分广阔的 应用前景，将对本世纪的军事、工业生产、以及人们的生活产生深远影响。源 f 二v i 。st 的平面光刻工艺用于制作微光学、m e m s 、m o e m s 器件的三维连续面型受 到很大的局限。本文研究- - e e 可制作微光学元件的d m d 数字掩模光刻技术，应 用数字化d m d 显示器件建立数字光刻实验装置。根据d m d 的周期结构的特点并 考虑实际光刻系统的结构，建立一个可描述数字光刻成像过程的特殊的部分相 二卜成像模型，并丌展了数字灰度光刻制作微光学元件的实验研究。 论文中分析研究d m d 狄阶的产生方式。根据建立的基于d m d 部分相干成 像模型，对d m d 单个微镜点成像，采用相干成像处理，对d m d 阵列面成像采用 非相干像强度叠加处理，并以数字光刻微透镜为例。进行计算模拟和分析。最 后研究用数字光刻和生化酶化学湿法刻蚀卤化银明胶制作连续浮雕微光学元件 ： 岂实验制作了有较好面型的微透镜阵列。 i ) m d 数字掩模光刻技术具有不需要常规掩模，方便曝光图形曝光量分布实 时校i - i - l j 不需要昂贵设备以及制作周期短等优点，为批量制作微光学元件提供 了一条有效的新途径，对促进高性能的微电子、微光机电系统加工技术的发展 有重要意义。 关键词：光刻技术；数字掩模：数字微镜装置；灰度；微透镜；酶刻蚀 s u d yo ni m a g i n g ad d m i g i t d 鹊1 m 。矿a p h y - v - m a j o r ：o p t i c s g r a d u a t e ：l i uc h is u p e r v i s o r ：d uj i n g l e i t h eg r e a td e m a n d sf o rt h em i c r o - d e v i c e sw i t hm i c r o m a t i o n ，l i g h t w e i g h ta n d i n t e g r a t i o n h a v ev a s t l y p r o m p t e dt 1 1 ed e v e l o p m e n t o ft h em i c r of a b r i c a t i o n t e c h n o l o g i e si ni n f o r m a t i o ne r a t h em e m sa n dm o e m st e c h n i q u e so ft h er a p i d d e v e l o p m e n tb a s e do nm i c r oo p t i c s ，m i c r o e l e c t r o n i c sa n dm i c r om e c h a n i c sh a v e i n d i c a t e da ne x p a n s i v ef u t u r e ，w h i c ha r ea p p l i e di nt h ea v i a t i o na n ds p a c ef l i g h t ， o p t i c a lc o m m u n i c a t i o n ，o p t i c a li n t e r c o n n e c t e dn e t w o r k ，o p t i c a lc o m p u t i n ga n do t h e r m a n yh i g ht e c h n i q u ef i e l d s ，a n dw i l la l s oh a v eaf a r r e a c h i n gi m p a c to nt h em i l i t a r y s c i e n c ea n dt e c h n o l o g i e s ，i n d u s t r ya n dt h el i v i n go f t h ep e o p l ew h i c hw ec o n f r o n ti n t h ec u r r e n tc e n t u r y t h ec o n v e n t i o n a lp h o t o l i t h o g r a p h i ct e c h n o l o g yf r o mv l s i t e c h n i q u ee x i s t si nl a r g el i m i t a t i o n sf o rt h ef a b r i c a t i o no f m i c r oo p t i c a l m e m sa n d m o e m se l e m e n t sw i t ht h r e e d i m e n s i o nf 3 d 1c o n t i n u o u ss t r u c t u r e i n 山i st h e s i s ， t h es t u d yo nl i t h o g r a p h yt e c h n i q u ew i t hd m d d i g i t a lm a s kf o rt h ef a b r i c a t i o no f3 - d a r b i t r a r i l ys h a p e dm i c r o s t r u c t u r e sh a sb e e nc a r r i e do u t t h es y s t e mo fd m dd i g i t a l m a s k sl i t h o g r a p h yi sp r o p o s e da n ds e t u pt h r o u g ht h es u f f i c i e n ti n v e s t i g a t i o n a c c o r d i n gt ot h ec h a r a c t e r i s t i c so fp e r i o d i cm i c r o s t r u c t u r eo fd m d w ep r e s e n ta p a r t i a lc o h e r e n ti m a g i n gm o d e lo fd i g i t a lm a s kl i t h o g r a p h y ，w bh a ds t u d i e do n d m dg r a y s c a l e w h i c hi sa c h i e v e db yb i n a r yp u l s e w i d t hm o d u l a t i o no ft h ei n c i d e n t l i g h tb e c a u s ee a c hm i c r o m i r r o rs t m c t a r eo fd m di st h es a l t l e i ti so n l yn e e dt o g i v et h ei m a g i n gp r o c e s so fas i n g l em i c r o m i r r o r i nt h i sa n a l y s i s ，o b j e c tl i g h ts o u r c e i sr e g a r d e da sc o m b i n a t i o no fm a n yi n c o h e r e n tl i g h ts o u r c e ( s i n g l em i r r o n w h i l e e a c hm i r r o ri si l l u m i n a t e db yac o h e r e n tl i g h ts o u r c e ，t h a ti s ，t h ei m a g i n gp r o c e s si sa p r o c e s so fu s i n gp a r t i a lc o h e r e n tl i g h t a tl a s t ，t h es i m u l a t i o n sh a v eb e e nm a d eb a s e d o nt h ep a r t i a lc o h e r e n ti m a g i n gm o d e l ，a n dt h em i c r o o p t i c a le l e m e n t ss u c ha st h e m i c r o1 e n sh a v eb e e na c h i e v e do ns h s gt h r o u g ht h ea p p l i c a t i o n so fd m d d i g i t a l m a s ka n de n z y m ee t c h i n gt e c h n i q u e w h e nt h ed m d d i g i t a lm a s ki su s e di nt h ec o n v e n t i o n a lp h o t o l i t h o g r a p h y ， w h i c hi sg r e a t l ys i m p l i f i e d b e c a u s et h em a s kd e s i g nc a nb ea d j u s t e di nr e a lt i m e ，i t i sc o m p a r a t i v e l ye a s yt o c h a n g et h em a s kd e s i g nt oc o m p e n s a t ea n yn o n l i n e a r e f f e c t si na e r i a l i m a g i n g ，i np h o t or e s i s te x p o s u r e ，d e v e l o p m e n ta n ds u b s t r a t e e t c h i n gp r o c e s s e s t h u si tg i v e san e wa n de r i e c t i v ea p p r o a c hf o rt h ef a b r i c a t i o no f t h ec o n t i n u o u ss h a p e dm i c r o s t r u c t u r ea n dh a sv e r yi m p o r t a n ts i g n i f i c a n c et ot h e d e v e l o p m e n to fm i c r oo p t i c sa n dm o e m s k e y w o r d s ：p h o t o l i t h o g r a p h y ；d i g i t a lm a s k ；d m d ；g r a y s c a l e ；m i c r o l e n s e n z y m ee t c h i n g ； 0 3 前言 四川大学硕十学位论文 第一章前言 1 1 无掩模光刻技术 在科学技术飞速发展的今天，高科技的信息化、数字化、微型化新产品日 益普及，币逐渐地改变着人们日常生活的方式、质量和理念。众所周知，光学 光刻技术不断进步是推动微电子及其相关产业高速发展的一个重要因素。微电 子技术的巨大成功引发了一场微小型化技术革命，以加工微纳米结构和系统为 目的的微米、纳米技术在此背景下应运而型。”，人们利用精细加工手段加工出 微米、纳米级结构，在小型机械制造领域开始了一场新的革命，导致了微型机器 或微机电系统( m i c r oe 1 e c t r om e c h n i c a ls y s t e m s ，m e m s ) 的诞生。将m e m s 与微光学元件相结合，又发展起来了种极具活力的所谓微光机电系统 “( m i c r 0o p t oe l e c t r om e c h n i c a ls y s t e m s ，m o e m s ) 。微光机电系统中的微光 学元件在微电子和微机械装置的作用下能够对光束进行汇聚、衍射、反射等控 制，从而可最终实现光开关、衰减、扫描和成像等功能“1 0 。微光机电系统的出 现将极大地促进信息通讯、航天技术以及精密光学仪器的发展，对整个信息化时 代将生产深远的影响。 在m o e m s 中应用的各种微光学元件和微机械器件常常具有连续的表面浮雕 结构，而m o e m s 的制造技术主要是以微电子集成电路工艺为基础发展起来的微细 加工技术，其微电子集成电路工艺主要是一种平面加工技术，如果要制作三维 连续微结构，往往需要采用套刻的方法，这种方法工艺流程繁琐复杂，在制作 过程中常常带来各种误差。而且在微光学元件加工过程中，光掩模的制作加工 是一一道比较繁琐复杂的工序，对掩模和光刻工艺有较高的要求，j j h i 成本相对 昂贵。闲此，为了适应高新技术发展的需要和降低微电子加工成本需求，一些 颇具特色的无掩模光学光刻技术逐渐新兴起来。目前，倍受关注的无掩模光刻 技术可大致分两类：( 1 ) 带电粒子无掩模光刻( c h a r g e dp a r t i c l em a s k l e s s l i t h o g r a p h y ，c p m l 2 ) ，如电子束直写技术，离子束光刻技术和带电微滴喷墨 光刻( w r i t i n gw i t hc h a r g e di n kd r o p l e t s ) 等。( 2 ) 光学无掩模光刻( o p t i c a l m a s k l e s sl i t h o g r a p h y ，o m l 2 ) ，如干涉光刻技术，原子光刻技术，数字光刻 ( d i g i t a lp h o t o l i t h o g r a p h y ) 技术等。下面我们将对其中一些无掩模光刻技术进 前言 四川i 火学硕十学位论文 行简单的介绍。 1 1 1 电子束直写技术”1 电子柬直写光刻是一种利用带电粒子实现的无掩模光刻技术，与传统的光 刻( 区域曝光) 加工不同，它是利用可变曝光剂量的电子束直接对涂在基片表 面的抗蚀剂曝光加工。电子束光刻机与s e m ( 扫描电子显微镜) 的原理基本相 同。电子束被电磁场聚焦成微细束照射到电子抗蚀剂( 感光胶) 上，由于电子 束可以方便地由电磁场进行偏转扫描，复杂的图形可以直接写到抗蚀剂上，因 而不需要掩模版。 与其它的光刻技术相比，电子束直写光刻技术的优点很明显：( 1 ) 电子束 光刻分魏率高，可达到0 1 微米，如直接刻蚀可达到几个纳米；( 2 ) 电子束光 刻不需要掩模板，操作非常灵活，很适合小批量，特殊微结构器件的生产。 但是电子束直写技术在应用中也存在一些困难： ( 1 ) 加工微结构时，难以精确控制浮雕轮廓深度。加工轮廓深度与曝光强 度、扫描速度、抗蚀剂材料、显影液配方和温度状态以及显影时间等多种因素 有关，任何一个因素的改变都会引起轮廓深度误差。 ( 2 ) 由于曝光量是靠在每个格点的驻留时间来控制的，因此局部浮雕轮廓 的深浅不仅与局部曝光剂量有关，还与附近区域的曝光剂量有关，使抗蚀剂所 得到实际曝光量与入射曝光量存在一定差距，显影后的实际轮廓也就有别于设 计轮廓。对于复杂轮廓器件，其曝光量的控制是很困难的。 ( 3 ) 直写设备复杂、昂贵，并且是串行、单点的写入工作方式，因此曝光 时间长。般为数十小时，元件制作费用高，不易进行批量生产。较适合于高 精度单件生产。 1 1 2 离子束光刻技术 离子束光刻也是一种带电离子无掩模光刻技术，它可分为聚焦离子束 ( f i b ) 掩模离子束光刻( m i b ) 和离子束溅射( i b p ) m 1 1 4 3 o 离子束光刻是利 用离予源进行曝光，从8 0 年代开始出现的液态金属离子源。是离子束光刻的真 一，i + 端其原理是通过加热使附在一根金或钨的针尖端的镓或金硅合金熔化， 前京 四川火学硕士学何论文 存外加电场作用下使液态金属表面产生场致离子发射，其发射面积极小，可以 较窖易离子光学系统将发射的离子聚焦成离子束，进行高分辨率离子束曝光。 聚焦离子束刻蚀与电子束曝光相比有些优点： ( 1 ) 邻近效应几乎可以忽略，因离子比电子重得多，电子质量极轻，在抗 蚀剂中的散射范围大，影响邻近电路图形的曝光质量；( 2 ) 感光胶对离子束的 灵敏度要比电子束高数百倍。 但聚焦离子柬刻蚀也有一些弱点： ( 1 ) 分辨率比电子束低，因为离子束中的离子能量分散，使聚焦受到限制。 ( 2 ) 离子质量大在光刻胶中的曝光深度较小，2 0 万伏的硅离子束的曝光深度 仅为0 5 微米，而2 万伏的电子束可曝光1 微米以上。 现在聚焦离子束技术在微电子工业中主要用作光学掩模版和集成电路芯 片的修复工具，例如，用离子束可去除掩模版上的多余斑点和透光斑，切割或 接通集成电路芯片上的某些连接等。 m i b 和i b p 光刻都是区域曝光，曝光效率高，但需要特殊孔径和掩模，其 制作与x 射线一样复杂，m i b 有望用于v l s i 的生产，最近美国和奥地利科学家 研制了a l g l 0 0 0 型离子束投影曝光机”，可满足生产i g b 存储芯片的需要，该机 采用能量分散极小的2 0 力_ 伏的氢离子源，加上先进的离子光学系统使曝光机可 进行0 1 8 微米光刻，曝光深度可达到1 0 5 微米，可满足集成电路曝光需要。也 有应用到微电子机械系统( m e m s ) 的加工当中的迹象。 1 1 3 干涉光刻技术“q ”7 干涉光刻一种无掩模光学光刻技术，这种技术的光刻图形是利用激光束的 f 涉来生成，经过双光束、多光束一次曝光或双光束、多光束多次曝光产生周 期图形，如周期性光栅、孔阵、点阵、柱阵图形等，以满足某些特定应用场合 的要求。要产生任意形状的周期图形，可以利用若干个正弦图形就可以综合出 所需的剖丽形状，因为任意剖面形状的图形可以按傅立叶分析法分解为许多不 同空频的币弦图形之和。这是干涉光刻利用傅立叶频谱综合法的基本思想。 设在个周期内，图形的剖面形状由函数f ( x ) 描写，f ( x ) 是周期函数： 前言四川大学硕士学位论文 f ( x 1 = f ( x + 2 n p ) ( 1 ) n 为整数，2 p 为周期。，( x ) 可以展丌为傅立叶级数： ( x ) = + hc o s ( k n x p ) + b ks i n ( k z o c p ) ( 2 ) t = l 式中各项系数由下式决定 口。= ( 1 2 p ) f p f ( x ) 出 a n = ( 1 p ) ；p f ( x ) c 。s ( 雄舰p ) d x 6 。= ( 1 p ) ；p f ( _ c ) s i n ( 聍积p ) 出 ( 3 ) ( 5 ) ( 6 ) 利用一系列不同空频的工f 弦干涉条纹，控制好相对光强和相对位相，就可 综合出所需函数。因此这种方法相当灵活，如双光束曝光产生正弦图形，用双 光束干涉以一定方式多次重迭曝光，或多光束多次曝光方法可以产生多种结构 的二维图形。 图l 表示出双光束干涉光刻的原理“。设两束平面波分别以0 ，和口，角 入射于，记录介质基片上，则在记录平面内产生的垂直于x 轴的光栅的光强分 布为： l ( x ) = 2 i o 1 + c o s k x ( s i n o l + s i n 岛) ：2 1 0 1 + c o s ( 2 瓜型攀塑) 】( 7 ) = 2 1 0 1 + c o s ( 2 n x d ) 彳 式中：d2 i i f i 丽，矗为产生的光栅周期：a 为曝光波长；易为每束平 面波的强度。 前言 四川大学硕十学位论文 厂、八、厂v 6 v 图1 双光束干涉光刻原理图 当双光束曝光时，在两次曝光之间将记录材料旋转不同的角度可以得到不 同形状结构的周期图形，如转动9 0 度得到圆孔阵列，转动4 5 度得到椭圆形孔 阵等。由于干涉光刻不用昂贵的光刻镜头，可用一般光刻光源和抗蚀剂，相对 简单的工艺过程，成本低，较易达到高分辨率；容易获得大视场曝光，场景深， 图形对比度高，用现有激光光源和光致抗蚀剂就能实现分辨率为0 1 微米尺寸 的图形。 虽然这种技术的优点是能综合出大面积、高空频的微绍结构，但缺点是干 涉条纹的相对光强和相对位相难以控制，同时由于只能取有限个级数，综合的 形状只是近似的，因两制作任意面型的微细结构将是相当困难。若用此方法微 光学元件，也将影响到其衍射效率的提高。 1 1 4 原子光刻技术 “原子光刻( a t o ml i t h o g r a p h y ) ”最早是在1 9 9 2 年被贝尔实验室的研究 人员“提出的。以激光对中性原子的冷却、捕陷和操纵为重要内容的原子光学 研究，在过去的二十余年中得到了深入广泛的开展。玻色一爱因斯坦凝聚的实现 “坪口原子激光的诞生1 表明，这一领域的研究无论在理论探讨和实验手段上都 已进入可行阶段。原子光刻正是将原子光学这一基础性研究成果移用于高技术 刖鬲 四川人学硕士学位论文 发展的一个典型例证。 原子光刻的基本原理是利用共振光的辐射压力( 或光抽运作用) 使原子束产 生空间强度分布，然后使原子束沉积在基板上( 或使基板上的特殊膜层“曝光”) ， 在基板上形成纳米级的条纹、点阵或人们所需的特定图案。 实现原子光刻的基本方案有两种。一种是采用金属原子束，如1 9 9 2 年t i m p 等。”首次报道了n a 原子光刻实验，此后m c c l e l l a n d 小组和m l y n e k 小组报道了 c r 的原子光刻“2 。”1 ，m c g o w a n 等o ”报道了a l 的原子光刻，其原理是用共振光压 使原子束高度准直化和形成空间强度分布后，直接沉积在基板上。另一种是采 用弧稳态惰性气体原子束，用光抽运作用使其形成空间强度分布，再使亚稳原 子破坏基板上的特殊膜层，最终用化学腐蚀方法在基板上刻印成形。迄今为止， 前一种方案已经实现了纳米级光栅和点阵的刻印，后一种方案才得到初步的实 验结果报道1 。 图2 沉积型原子光刻原理图”8 现以c r 为例给出了金属原子束型原子光刻的原理性方案，如图2 所示，高 温c r 源先经喷m $ 口d , t t 的初步准直，再经驻波光场的光粘胶准直进入紧贴刻印 基板的激光原子透镜区，在驻波光场的作用下，原子发生沟道化，最终在基板上 沉积出问距为半波长的大量平行条纹，。即光栅。 原子光刻目前可获得宽度为6 0 7 0 e l m 的光栅线条，这个宽度目前远窄于 激光光刻所能达到的宽度，这只是初步的实验结果。原予光刻所根据的工作原 理和所采用的特殊技术使它在应用领域具有诱人的发展前景。原子柬中原子的 堕查 婴型查堂堡堂堡笙兰 一! ! ! ! ：一 d eb r o g e 波长仅为百分之一纳米左右，这就为大大降低刻印的衍射极限和刻 印极细条纹提供了物理基础。由于原子光刻法得到的条纹间距仅决定于激光波 长制出的光栅条纹具有极好的均匀性，现已制出的c r 光栅质量优于用电予束 法刻印的光栅，事实上这种c r 光栅可以作为纳米级的长度基准。金属原子束刻 印是“直写”式的，不纛掩模，刻印一步完成。以刻印光栅为例，原子法仅需 时1 0 m i n 左右，而电子束法曝光时间约需2 4 h 。 因此原子光刻技术虽然刚刚问世不久，但它将在未来呈现出勃勃生机。但 是目前这种技术仍需探索，在这种技术中，需要更亮的光源，因为光场导航原 子的能力，直接与强度有关，这是这项技术的关键，但目前世界上还没有适于 原子光刻需要强度和均匀度的光源。即使有更强的光源，但现在的技术还不足 以刻蚀出好的芯片，对完全任意的图案，目前电仅仅只有实现的方案。而且原 子光刻的沉积速度现在是相当慢的，其的制作费用也是相当昂贵的。 1 2 数字光刻技术 以上分绍的几种无掩模光刻技术都有各盆的特点，有的正处于发展之中， 还有许多问题需要解决，它们可分别用于制作不同性能要求的元件，目前还没 有一种技术能适合制作各种微细结构的元件。从其原理和制造工艺上看，上述 的制作技术存在一些不足：制作工艺相对复杂，各工艺参数对最终结粱的影响 复杂，元件面型的可控性较差，要得到任意的面形和折射率分布较为困难。总 的来说。设计灵活性小，费用昂贵，设各复杂。制作周期长，工艺颂琐或技术 稳定性羞是这些方法的使用受到限制的主要原因。圆此研究方便而有效的新技 术仍然是目前光刻技术发展的一个重要方向和前沿。 目前，在下一代光刻技术( n e x tg e n e r a t i o nl i t h o g r a p h y ，n g l ) 来临 之前，光学光刻技术还有相当的生命力，还可以充分挖掘现有光刻设备的潜力， 发展渡前工程，提高光刻技术的灵活性。特别是一种基于数字光处理技术 ( d i g il a li i g h tp r o c e s s in g o l p ) 的数字掩模光刻技术引起了广泛关注4 “。 数字掩模光刻术与传统光刻技术有很大不同，所谓数字光刻过程是用计算 机优化产生的一系列“虚拟”的数字图形，并控制投影曝光设备把图形一幅幅 地投影到基片上，理论上甚至可通过分析光学检测系统( 如c c d ) 反馈回来基 削鬲 四j 1 i 大学硕十学位论文 片的光场分布的数字信息，进一步优化调控下一时刻数字图形的结构，以获得 最佳的光刻图形质量。“”3 。数字掩模技术的优点在于掩模图形的生产数字化， 通过计算机控制一些特殊的空间光调制器( s p a c el i g h tm o d u l a t o r ，s l m ) 对 入射光进行调制，以取代现有的光学光刻中的掩模。常见空间光调制器有液晶 显示器件l c d 、等离子体显示器件( p 1 a s m ad i s p l a yp a n e l ，p d p ) 和数字微反 射镜器件( d i g i t a lm i c r o m i r r o rd e v i c e ，d m d ) 等，在下一章，将对这三种特 殊的空削光调制器作详细的介绍。目前数字掩模光刻技术在国际上尚处于探索 研究阶段，适应光刻设备的需要的关键技术数字掩模图形的发生器仍还处于发 展完善中，研制高分辨率数字光刻设备尚需对数字光刻成像理论、快速精确的 数宁图形优化算法、数据传输以及波前工程技术等方面的问题做深入探讨和研 究。 本文选择美国德州仪器公司的专利产品d m d 作为空间光调制器来生成数 字化掩模图形，与投影光刻系统相结合，发展一种数字光刻技术”。该技术 具有的全数字、低图形畸变、高对准精度，高效自动化、低成本( 无需掩模加 工、检测和修补) 、使用方便灵活、应用的范围广等众多特点，与其它光刻技 术相比其潜在优势十分明显。对推动微电子、微光学和微系统的深入发展有实 际意义。 1 ，3 本论文的主要内容 论文以发展一种微光学元件的制作新方法为目标，研究数字光刻成像原 理和实现方法、建立了基于d m d 的数字掩模光刻实验装置，开展了计算机模拟 和实验工作。全文共分四章， 第一章：前言重点介绍几种无掩模光刻技术。并说明本课题的研究目的 和意义。 第二章：d m d 数字微镜装置简单介绍了几种常用的空间光调制器工作原 理，着重阐述了d m d 的光学特性、工作原理及d m d 用于数字掩模光刻的理论基 础。 第三章基于d m d 的光刻成像模拟与实验以微透镜为例进行光刻成像过 程模拟，并用卤化银明胶进行数字光刻曝光和酶蚀实验。为用数字掩模光刻技 萱童 璺型查堂堡主兰堕堡墨 坐竺 术制作微光学元件提供依据。 第四章总结对本文的工作进行了总结，并提出了一些展望。 参考文献 s a m p s e l ljbt h ed i g i t a lm i c r o m i r r o rd e v i c ea n di t sa p p l i c a t i o nt op r o j e c t i o nd i s p l a y s 【a t e c hd i g e s i7 t h 如tc o 堪s 0 ms t a t es e n s o r sa n d a c t u a t o r s ( tr a u s d u c e r s l 9 3 ) ，y o k o h a m aj a p a n ， 1 9 9 3p 2 4 2 7 【2 】j k n u t i ，f i n d i n gm a r k e t sf o rm i c r o s t r u c t u r e s m i c r o m a c h i n i n ga n df a b r i c a t i o np r o c e s s t e c h n o l o g y i v p r o c e e d i n g s , s p i e ，v 0 1 3 5 1 l ，1 9 9 8 ，p 1 7 2 3 【3 1pmh a g e l i n 。uk r i s h n a m o o r t h y , jph e d t a g e ，e ta 1 s c a l a b l eo p t i c a lc r o s s 2 c o n n e c ts w i t c h u s i n g m i c r o m a c h i n e d m i n o r , 1 e e e p h o t o n i c s t e c h n o l o g y l e t t e r s ，2 0 0 0 ，1 2 ( 7 ) ：p 8 8 2 8 8 4 4 】t 殿泓，魏正英，郭俊杰等，掰扣劾及磁j 缸打。e 方珐膨辱移蕾西安理工大学学报，2 0 0 1 ， v 0 1 1 7 n o 1 ：p 7 4 7 7 【5 】桥川荣二，电火花与激光复合精密微细加工系统的开发，蔚能荣_ 笳加五瑟戎2 0 0 4 n o2 ：p 4 6 5 0 6 】r ，w e c h s u n g ，n u n a l m a r k e t sa n a l y s i sf o rm i c r o s y s t e m s ：a ni n t e r i mr e p o r tf r o mt h en e x u s t a s kf o r c e m i c r os y s t e mt e c h n o l o g i e s9 8p r o c e e d i n g s ，d e c e m b e r 3 ，1 9 9 8 ，p 2 7 5 ， 7 】d jn a g e lm e z a g h l o u l ，m e m s ：m i c r ot e c h n o l o g y , m e g ai m p a c t i e e ec i r c u i t s d e v i c e 2 0 0 1 ，1 7 ( 2 ) ：1 4 2 5 8 j 张兴，跨世纪的新技术微机电系统( m e m s ) 官j 唰学争掘1 9 9 9 ( 4 ) ：p 2 6 9 ly l i n ，elg o l d s t e i n ，rwt k a c h f r e e 2 s p a c em i e r o m a c h i n e do p t i c a ls w i t c h e sw i t h s u b m i l l i s e c o n ds w i t c h i n gt i m ef o rl a r g e 2 s c a l eo p t i c a lc r o s s c o n n e c t s i e e ep h o t o n i c st e c h n o l o g y l e t t e r s ，1 9 9 8 ，1 0 ( 4 ) ：p 5 2 5 5 2 7 ， 【1 0 ) 杨忠山微细加、l ：技术在生物医学中的应用，手国匿疗器麓穗意2 0 0 2 v 0 1 2 6 n o 5 ： p 3 4 7 3 5l 【11lm tg a l e ，m r o s s i ，j p e d e r s e n , f a b r i c a t i o no f c o n t i n u o u s r e l i e f m i c r o o p t i c a le l e m e n tb y d i r e c tl a s e rw r i t i n gi np h o t o r e s i s t ，o p te n g ，v o l3 3 ( 11 ) ：3 5 5 6 ( 1 9 9 4 ) 【1 2 】丁f u j i t a ，h n i s h i h a r a ，j ，k a y a m a ，b l a z e dg r a t i n g sa n df r e s n e ll e n s e sf a b r i c a t e db y e l e c t r o n b e a ml i t h o g r a p h yo p t l e t t ，v o l7 ( 】2 ) ：5 7 8 ( 1 9 8 2 ) 【13 1 于立鼎土缟，微机械专集，光机情报增刊。1 9 9 2 ：6 2 7 7 【1 4 】w o l f g a n gk u e h n e la n ds t e v e ns h e r m a n ，as u r f a c em i c r o m a e h i n e ds i l i c o na c c e l e r o m e t e r w i t ho n c h i pd e t e c t i o nc i r c u i t r y , s e n s o r sa n da c t u a t o r s a 4 5 ( 1 9 9 4 ) 7 1 6 1 5 】李川奇，尤晖，现代光学仪器，1 9 9 8 ，1 2 ，4 9 5 4 i1 6 eb k l e y ，b s c h n a b e l ，u d z e i t n e r , e b e a m l i t h o g r a p h y a ne f f i c i e n tt o o lf o rt h e f a b r i c a t i o no f d i f f r a c t i v ea n d m i c r o o p t i c a le l e m e n t p r o cs p l e v o l3 0 0 8 ：2 2 ( 1 9 9 7 ) 1 7 gs c h m a h l ，j ：s p e c t r o s cs o cj a p a n , v o l1 ( 3 ) ：2 4 ( 1 9 7 5 ) 9 塑羔 璺型查竺堡堂堕堡塞 ! ：! ! ! f l8 】冯伯儒，张锦，制作光纤光栅的相移掩模一双光束干涉曝光方法。光电： 程， v o l3 0 ，n o12 0 0 32 ，p 5 7 f1 9 1br i a nh c u m p s t o n ，s u n d a r a v e lpa n a n t h a v e l ，e ta l ，t w o - p h o t o np o l y m e r i z a t i o ni n i t i a t o r s f o rt h r e e d i m e n s i o n a lo p t i c a ld a t as t o r a g ea n dm i c r o f a b r i c a t i o n ，n a t u r e ，v o l3 9 8 ( 6 7 2 2 ) ：5 1 ( 1 9 9 9 ) f 2 0 1mha n d e r s o n ，j re n s h e r , m r m a t t h e w s ，c ew i e m a n ，ea c o m e l l ，s c i e n c e ，v o l 2 6 9 ：1 9 8 ( 1 9 9 5 ) 2i1m r a n d r e w s ，c gt o w n s e n d ，h 一j m i e s n e r , d sd u r f e e ，d m k u r n ，a n dw k e t t e r l e ， o b s e r v a t i o no f i n t e r f e r e n c eb e t w e e nt w ob o s ec o n d e n s a t e s ，s c i e n c e , v o l2 7 5 ：6 3 7 ( 1 9 9 7 ) 2 2 j 1m c c l e l l a n d ，r e s c h o l t e n ，c p a l m ，e ta 1 ，l a s e rf o c u s e da t o m i cd e p o s i t i o n s c i e n c e ， v o l2 6 2 ：8 7 7 ( 1 9 9 3 ) 【2 3 【2 4 2 5 r ，e 。s c h e l t e n ，j j m c c l e l l ，e c p a l m ，e ta 1 ，zv a c s c i t e c h n 0 1 ，v o lb 1 2 ：1 8 4 7 ( 1 9 9 4 ) ud r o d o f s k y , j s t u k l e r , bb r e z g e r , e ta 1 ，m i c r o e l e c t r o ne n g ，v o l3 5 ：2 8 5 ( 19 9 7 ) r wm c g o w a n ，d m g i l t n e r , s a l e e ，l i g h tf o r c e c o o l i n g ，f o c u s i n g , a n d n a n o m e t e r - s e a l ed e p o s i t i o no f a l u m i n u ma t o m s ，o p t l e t t ，v o l2 0 ( 2 4 ) ：2 5 3 5 ( 1 9 9 5 ) 【2 6 ks j o h n s o n ，j h t h y w i s s e n ，n h d e k k e r , e ta 1 ，l o c a l i z a t i o no fm e t a s t a b l ea t o m b e a m sw i t ho p t i c a ls t a n d i n gw a v e s ：n a n o l i t h o g r a p h ya tt h eh e i s e n b e r gl i m i t ，s c i e n c e , v o l2 8 0 1 5 8 3 ( 1 9 9 8 ) 1 2 7 1m u k e s hpj o s h i ，h a r i d a se p u d a v a r , j s w i a t k i e w i c z ，pn p r a s a d ，t h r e ed i m e n s i o n a l o p t i c a lc i r c u i t r yu s i n gt w o p h o t o n a s s i s t e dp o l y m e r i z a t i o n ，a p p l i e d , p 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