【MOOC】光学薄膜与制备技术-中国矿业大学 中国大学慕课MOOC答案

【MOOC】光学薄膜与制备技术-中国矿业大学中国大学慕课MOOC答案1.1随堂测验1、【单选题】本课程所研究的薄膜是。本题答案：【衬底上的固体薄膜】2、【多选题】薄膜按形态可以分为哪些类型？本题答案：【气体薄膜#液体薄膜#固体薄膜】3、【多选题】常见的固体薄膜有哪些类型？本题答案：【固体薄膜单体#衬底上的固体薄膜】4、【判断题】光学薄膜就是能够产生光的干涉效应的薄膜。本题答案：【正确】1.2随堂测验1、【多选题】光学薄膜所具有的功能有哪些？本题答案：【分光作用#增透作用#光信息存储#防伪作用】2、【多选题】根据光谱相应的不同，光学薄膜可以分成哪些类型？本题答案：【增透膜#增反膜#滤光片#分光膜】3、【判断题】薄膜光学研究的是光横穿过膜层传播的规律。本题答案：【正确】4、【判断题】薄膜光学研究的是光在分层媒质中传播规律的学科本题答案：【正确】1.3随堂测验1、【单选题】第一批减反膜是在年制备出来的。本题答案：【1817年】2、【单选题】对物理光学基础建立起到最初作用的是。本题答案：【杨氏双缝干涉的提出】3、【单选题】对薄膜的应用迅速拓展起到最初推动作用的是。本题答案：【油扩散泵的出现】4、【多选题】与镀膜技术密切相关的产业有哪些？本题答案：【投影显示#舞台灯光#幕墙玻璃#光通信领域】5、【判断题】薄膜最早期的应用只局限于抗腐蚀和制造镜面。本题答案：【正确】1.4随堂测验1、【多选题】两束光产生干涉的条件是本题答案：【频率相同#振动方向一致#相位差恒定】2、【多选题】普通光源发光的特点是本题答案：【独立性#随机性#间歇性】3、【判断题】薄膜会对空间位置坐标进行光能的重新分配。本题答案：【错误】4、【判断题】薄膜与厚膜的本质区别在于能否产生光的干涉现象。本题答案：【正确】1.5随堂测验1、【多选题】薄膜的基本假定认为光学薄膜是本题答案：【各向同性的#折射率均匀连续#折射率在界面发生突变】2、【多选题】真实薄膜精确计算需要考虑的因素有本题答案：【薄膜的各向异性#光学常数的经时效应#光学常数的色散#薄膜的非均匀性】3、【判断题】薄膜表面的粗糙程度会影响光学薄膜的光学特性。本题答案：【正确】4、【判断题】薄膜制备条件的不稳定不会对薄膜产生任何影响。本题答案：【错误】1.6随堂测验1、【多选题】我们通常所说的薄膜厚度有本题答案：【几何厚度#光学厚度#位相厚度#质量厚度】2、【判断题】膜系的性能通常用反射光谱曲线或者透射光谱曲线来表示。本题答案：【正确】3、【判断题】一个膜系可以只有一层膜。本题答案：【正确】1.7随堂测验1、【判断题】膜系的性能通常用反射光谱曲线或者透射光谱曲线来表示。本题答案：【正确】2、【判断题】常见的膜系有周期性膜系和非周期性膜系。本题答案：【正确】3、【判断题】薄膜系统也可以分为规整膜系和非规整膜系。本题答案：【正确】第1章单元作业1第1章单元作业2第1章单元测验1、【单选题】对物理光学基础建立起到最初作用的是。本题答案：【杨氏双缝干涉的提出】2、【单选题】第一批减反膜是在年制备出来的。本题答案：【1817年】3、【多选题】根据光谱相应的不同，光学薄膜可以分成哪些类型？本题答案：【增透膜#增反膜#滤光片#分光膜】4、【多选题】我们通常所说的薄膜厚度有本题答案：【几何厚度#光学厚度#位相厚度#质量厚度】5、【判断题】光学薄膜就是能够产生光的干涉效应的薄膜。本题答案：【正确】6、【判断题】薄膜光学研究的是光横穿过膜层传播的规律。本题答案：【正确】7、【判断题】薄膜最早期的应用只局限于抗腐蚀和制造镜面。本题答案：【正确】8、【判断题】薄膜会对空间位置坐标进行光能的重新分配。本题答案：【错误】9、【判断题】一个膜系可以只有一层膜。本题答案：【正确】2.1随堂测验1、【多选题】麦克斯韦方程组中的每个方程所对应的电磁定理是本题答案：【电场高斯定理#磁场高斯定理#法拉第电磁感应定理#全电流定理】2、【判断题】麦克斯韦方程组的积分形式只适用于有限大小的电磁场。本题答案：【正确】3、【判断题】要确定某一给定点的电磁场必须采用麦克斯韦方程组的积分形式。本题答案：【错误】4、【判断题】在处理介质对电磁场的影响时，必须考虑介质的微观结构。本题答案：【错误】第2章单元作业1第2章单元作业2第2章单元测验1、【单选题】在p偏振时，有效光学导纳为。本题答案：【N/cosθ】2、【单选题】在s偏振时，有效光学导纳为。本题答案：【Ncosθ】3、【多选题】麦克斯韦方程组中的每个方程所对应的电磁定理是本题答案：【电场高斯定理#磁场高斯定理#法拉第电磁感应定理#全电流定理】4、【多选题】电磁场边界条件包含哪些？本题答案：【Et1=Et2#Bn1=Bn2】5、【判断题】麦克斯韦方程组的积分形式只适用于有限大小的电磁场。本题答案：【正确】6、【判断题】在处理介质对电磁场的影响时，必须考虑介质的微观结构。本题答案：【错误】7、【判断题】在静磁场中界面两侧磁感应矢量的法向分量连续。本题答案：【正确】8、【判断题】电磁矢量都是时间、空间的函数，所以边界条件对任意时刻、界面上任意位置都成立本题答案：【正确】9、【判断题】介质的光学导纳是磁场强度与电场强度的比值本题答案：【正确】第3章单元作业第3章单元测验1、【判断题】电磁波传播的方向和速度与电磁波能量的传播方向和速度是一致的。本题答案：【正确】2、【判断题】电磁波所传递的能量与其振幅成正比。本题答案：【错误】3、【判断题】任何一个复杂的薄膜系统，其反射率的计算问题都可以通过其等效界面对应的等效光学导纳进行计算。本题答案：【正确】4、【判断题】光学厚度相差为某半波长的整数倍的同一材料的单层介质膜，对同一波长有相同的反射率本题答案：【正确】5、【判断题】虚设层对膜系所有波段的有效光学导纳和反射率都没有任何影响。本题答案：【错误】4.4随堂测验1、【单选题】对推动技术光学发展来说。在所有的光学薄膜中起着最重要的作用。本题答案：【减反膜】2、【单选题】第一批减反膜是用方法制备出来的。本题答案：【化学腐蚀法】3、【多选题】单层减反膜的主要缺陷有。本题答案：【剩余反射率高#破坏色中心】4、【多选题】克服单层膜缺陷常用的方法有。本题答案：【采用渐变膜#制备多层膜】5、【判断题】多层减反膜中的虚设层通常起着平滑膜系反射特性的作用。本题答案：【正确】4.5随堂测验1、【单选题】金属膜中从紫外区到红外区都有很高反射率的材料是。本题答案：【铝膜】2、【单选题】在红外区反射率很高，常用来制作红外反射镜的是。本题答案：【金膜】3、【判断题】金属膜的缺点是比较软，容易损坏。本题答案：【正确】4、【判断题】金属膜表面通常都镀制一层保护膜，为了起到保护作用，保护膜材料的折射率越高越好。本题答案：【错误】4.10随堂测验1、【单选题】要想使镀制的单层薄膜的反射率增加，则膜层的折射率要比衬底的折射率。本题答案：【大】2、【单选题】光学厚度均为四分之一波长的介质高反射膜，其高反射带的宽度取决于。本题答案：【高、低折射率的比值】3、【多选题】多层介质高反膜具有的反射特性有。本题答案：【反射率随层数增加#高反射宽度有限#反射带宽度与层数无关#透射区的振荡与层数有关】4、【多选题】铝膜能够广泛应用的原因是。本题答案：【反射率高的波段宽#牢固稳定】5、【判断题】λ/4-λ/4双层减反膜系通常也称为W形膜。本题答案：【错误】6、【判断题】在基片上交替镀制光学厚度为四分之一波长的高、低折射率材料，就一定能满足我们对薄膜光谱特性的需要。本题答案：【错误】4.11随堂测验1、【多选题】本课程讲述的滤光片主要有。本题答案：【长波通滤光片#短波通滤光片】2、【多选题】选择一个满足要求的截止滤光片需要考虑的因素有。本题答案：【截止区波长范围#透射区波长范围】3、【判断题】四分之一膜堆最外侧的两层用高折射率材料八分之一光学厚度可以减少长波侧的波纹本题答案：【正确】4、【判断题】在重叠多个四分之一膜系时，要把工作波长区吸收大的高反膜安排在入射光一侧。本题答案：【正确】4.15随堂测验1、【多选题】截止滤光片主要的类型有。本题答案：【吸收型滤光片#薄膜干涉型滤光片#吸收干涉组合型滤光片】2、【判断题】一个周期性的对称多层膜系在数学上可以等效为一个双层膜。本题答案：【错误】3、【判断题】一个周期性对称膜系通带中的等效折射率是其基本周期等效折射率的S倍（S为周期数）。本题答案：【错误】4、【判断题】截止滤光片通带波纹的产生是因为等效层的等效折射率与入射介质及基片匹配不好引起的。本题答案：【正确】第4章单元作业1第4章单元作业2第4章单元作业3第4章单元测验1、【单选题】对推动技术光学发展来说。在所有的光学薄膜中起着最重要的作用。本题答案：【减反膜】2、【单选题】在玻璃表面上镀制一层薄膜达到减反射的目的应该镀制的材料是。本题答案：【氟化镁】3、【单选题】常用来防腐和镀制镜面的材料是。本题答案：【银膜】4、【多选题】表面反射对光学系统造成的严重后果有。本题答案：【光能损失#像亮度降低#分辨率下降#像的衬度降低】5、【多选题】选择一个满足要求的截止滤光片需要考虑的因素有。本题答案：【截止区允许的最大透过率#透射区允许的最小透过率】6、【判断题】/4-/2双层减反膜系通常也称为v形膜。本题答案：【错误】7、【判断题】在重叠多个四分之一膜系时，要把工作波长区吸收大的高反膜安排在入射光一侧。本题答案：【正确】8、【判断题】在基片上交替镀制光学厚度为四分之一波长的高、低折射率材料，就一定能满足我们对薄膜光谱特性的需要。本题答案：【错误】9、【判断题】/4-/2双层减反膜系通常也称为W形膜。本题答案：【正确】5.1随堂测验1、【单选题】金属的热处理一般都在区域进行的。本题答案：【低真空】2、【单选题】电容器生产中所采用的真空浸渍工艺所需要的真空度在区域。本题答案：【粗真空】3、【单选题】通常的真空蒸发镀膜所采用的真空区域是。本题答案：【高真空】4、【多选题】采用超高真空的用途通常是。本题答案：【进行溅射镀膜#获得纯净固体表面#得到纯净气体】5、【多选题】可以用来度量真空的参量有。本题答案：【真空度#压强#气体分子数密度#气体平均自由程】5.3随堂测验1、【单选题】决定一个真空泵是否满足真空度要求的性能指标是。本题答案：【真空泵的极限压强】2、【单选题】决定一个真空泵效率的性能指标是。本题答案：【真空泵的抽气速率】3、【多选题】典型的真空系统包括。本题答案：【真空室#真空泵#真空计】4、【多选题】衡量一个真空系统是否满足要求的性能指标有。本题答案：【极限压强#抽气速率】5.4随堂测验1、【多选题】真空计按照测量原理分为。本题答案：【绝对真空计#相对真空计】2、【多选题】下列属于相对真空计的是。本题答案：【放电真空计#热传导真空计#电离真空计】3、【判断题】能够测出气体压强的真空计都是绝对真空计。本题答案：【错误】4、【判断题】通过测量与压强有关的物理量，并与绝对真空计比较后得到压强值的真空计就是相对真空计。本题答案：【正确】随堂测验1、【单选题】真空蒸发镀膜一般不包括过程。本题答案：【分离过程】2、【单选题】真空蒸发镀膜时为了抑制或避免薄膜原材料与蒸发加热器发生化学反应，应该采用。本题答案：【耐热陶瓷坩埚】3、【单选题】真空蒸发镀膜时为了制造成分复杂或多层复合薄膜，应该采用。本题答案：【多源蒸发法】随堂测验1、【单选题】不能采用电阻加热法进行镀膜的是。本题答案：【钨膜】2、【多选题】在真空蒸发镀膜过程中，为了制备出满足要求的薄膜，需要确定的参数有。本题答案：【真空室的真空度#蒸发温度】3、【多选题】下列属于物理气相沉积薄膜的方法有。本题答案：【真空蒸发镀膜#溅射镀膜#离子镀】4、【判断题】物质的饱和蒸气压随温度的上升而减小。本题答案：【错误】随堂测验1、【单选题】在溅射镀膜过程中，靶材通常是放在区进行的。本题答案：【负辉光区】2、【多选题】影响溅射率的因素有。本题答案：【靶材料#入射离子能量#入射离子种类#入射离子入射角】3、【判断题】面心立方结构靶材的溅射率比六方晶格结构靶材的溅射率低。本题答案：【错误】4、【判断题】满壳层元素具有最小的溅射率。本题答案：【错误】随堂测验1、【单选题】在溅射镀膜过程中，靶材通常是放在区进行的。本题答案：【负辉光区】2、【单选题】下面哪一种溅射方式的靶材可以是绝缘材料。本题答案：【射频溅射】3、【多选题】描述溅射镀膜特性的物理量有。本题答案：【溅射阈值#溅射产额#溅射原子的能量#溅射原子的方向】4、【判断题】用单晶材料为靶材进行溅射镀膜时，溅射出来的原子基本上遵循余弦规则。本题答案：【错误】随堂测验1、【多选题】在进行膜层厚度的分布计算时，我们往往认为。本题答案：【蒸气分子无碰撞#到达基片全凝结#蒸发特性不改变#残余气体无影响】2、【多选题】常用的膜厚监控方法有。本题答案：【极值法#石英晶体振荡法#触针法】3、【判断题】极值法测得的膜厚是质量厚度。本题答案：【错误】4、【判断题】采用小平面蒸发源蒸发镀膜时要想在球面夹具上得到均匀的薄膜，应该把小平面蒸发源放在球面上。本题答案：【正确】第5章单元作业1第5章单元作业2第5章单元作业3随堂测验1、【多选题】薄膜的形成过程一般包含。本题答案：【凝结过程#核形成过程#岛的形成过程#岛的结合与生长过程】2、【多选题】热力学表面能理论和原子聚集体理论的相同点包括。本题答案：【基本概念#速率公式形式】3、【判断题】薄膜形成过程中，气相原子或分子到达基板表面上首先发生的是化学吸附本题答案：【错误】4、【判断题】固体表面与体内在晶体结构上的重大差异是固体表面具有许多不饱和键。本题答案：【正确】随堂测验1、【多选题】薄膜的生长模式一般包含。本题答案：【核生长型#层生长型#层－核生长型】2、【多选题】电子显微镜和理论分析表明，核生长型薄膜的生长过程分为阶段。本题答案：【小岛阶段#结合阶段#沟道阶段#连续薄膜阶段】3、【判断题】层生长型生长方式发生的主要原因是蒸发原子间的结合能大于基片原子与蒸发原子间的结合能。本题答案：【错误】4、【判断题】在基体和薄膜原子间相互作用特别强的情况下容易发生核生长型。本题答案：【错误】随堂测验1、【多选题】根据研究对象的不同薄膜的结构分为。本题答案：【组织结构#表面结构#晶体结构】2、【多选题】形成无定形薄膜的主要方法是。本题答案：【降低基体温度#引入反应气体#引入杂质】3、【判断题】无定形结构的显著特点是进程有序，远程无序。本题答案：【正确】4、【判断题】形成无定形薄膜的条件就是降低吸附原子的表面扩散速率。本题答案：【正确】随堂测验1、【多选题】位错的基本类型有。本题答案：【刃位错#螺位错#混合位错】2、【多选题】影响晶粒尺寸的因素有。本题答案：【薄膜厚度#基板温度#退火温度#沉积速率】3、【判断题】绝大多数位错是在沟道和空洞阶段产生的。本题答案：【正确】第6章单元作业1第6章单元作业2第6章单元测验1、【多选题】气相原子或分子到达基片表面可能会发生以下现象。本题答案：【反射#吸附#重蒸发#二次蒸发】2、【多选题】影响晶粒尺寸的因素有。本题答案：【薄膜厚度#基板温度#退火温度#沉积速率】3、【多选题】面缺陷常见的典型构型有。本题答案：【晶界#层错#孪晶面#表面】4、【多选题】电子显微镜和理论分析表明，核生长型薄膜的生长过程分为阶段。本题答案：【小岛阶段#结合阶段#沟道阶段#连续薄膜阶段】5、【判断题】层生长型生长方式发生的主要原因是基片原子与蒸发原子间的结合能接近于蒸发原子间的结合能。本题答案：【正确】6、【判断题】核生长型生长方式发生的主要原因是蒸发原子间的结合能大于基片原子与蒸发原子间的结合能。本题答案：【正确】7、【判断题】我们可以使用电子显微镜来直接观察和研究点缺陷。本题答案：【错误】8、【判断题】绝大多数位错是在沟道和空洞阶段产生的。本题答案：【正确】2021-2022-2光学薄膜与制备技术在线期末考试卷1、【单选题】本课程所研究的薄膜是。本题答案：【衬底上的固体薄膜】2、【单选题】对物理光学基础建立起到最初作用的是。本题答案：【杨氏双缝干涉的提出】3、【单选题】对薄膜的应用迅速拓展起到最初推动作用的是。本题答案：【油扩散泵的出现】4、【单选题】第一批减反膜是在年制备出来的。本题答案：【1817年】5、【单选题】在p偏振时，有效光学导纳为。本题答案：【N/cosθ】6、【单选题】在s偏振时，有效光学导纳为。本题答案：【Ncosθ】7、【单选题】对推动技术光学发展来说。在所有的光学薄膜中起着最重要的作用。本题答案：【减反膜】8、【单选题】第一批减反膜是用方法制备出来的。本题答案：【化学腐蚀法】9、【单选题】在玻璃表面上镀制一层薄膜达到减反射的目的应该镀制的材料是。本题答案：【氟化镁】10、【单选题】金属膜中从紫外区到红外区都有很高反射率的材料是。本题答案：【铝膜】11、【单选题】常用来防腐和镀制镜面的材料是。本题答案：【银膜】12、【单选题】在红外区反射率很高，常用来制作红外反射镜的是。本题答案：【金膜】13、【单选题】要想使镀制的单层薄膜的反射率增加，则膜层的折射率要比衬底的折射率。本题答案：【大】14、【单选题】要想使镀制的单层薄膜起到增透作用，则膜层的折射率要比衬底的折射率。本题答案：【小】15、【单选题】光学厚度均为四分之一波长的介质高反射膜，其高反射带的宽度取决于。本题答案：【高、低折射率比值】16、【单选题】电容器生产中所采用的真空浸渍工艺所需要的真空度在区域。本题答案：【粗真空】17、【单选题】金属的热处理一般都在区域进行的。本题答案：【低真空】18、【单选题】在区域气体的热传导和内摩擦与压强无关。本题答案：【高真空】19、【单选题】通常的真空蒸发镀膜所采用的真空区域是。本题答案：【高真空】20、【单选题】通常的溅射镀膜所采用的真空区域是。本题答案：【高真空】21、【单选题】采用低真空的主要目的是。本题答案：【获得压力差】22、【单选题】决定一个真空泵是否满足真空度要求的性能指标是。本题答案：【真空泵的极限压强】23、【单选题】决定一个真空泵效率的性能指标是。本题答案：【真空泵的抽气速率】24、【单选题】真空蒸发镀膜时为了蒸发低蒸气压物质，应该采用。本题答案：【电子束加热法】25、【单选题】真空蒸发镀膜时为了抑制或避免薄膜原材料与蒸发加热器发生化学反应，应该采用。本题答案：【耐热陶瓷坩埚】26、【单选题】真空蒸发镀膜时为了制造成分复杂或多层复合薄膜，应该采用。本题答案：【多源蒸发法】27、【单选题】真空蒸发镀膜时为了制备化合物薄膜或抑制薄膜成分对原材料的偏离，应该采用。本题答案：【反应蒸发法】28、【单选题】不能采用电阻加热法进行镀膜的是。本题答案：【钨膜】29、【单选题】电容器生产中所采用的真空浸渍工艺所需要的真空度在区域。本题答案：【粗真空】30、【单选题】金属的热处理一般都在区域进行的。本题答案：【低真空】31、【单选题】在区域气体的热传导和内摩擦与压强无关。本题答案：【高真空】32、【单选题】通常的真空蒸发镀膜所采用的真空区域是。本题答案：【高真空】33、【单选题】通常的溅射镀膜所采用的真空区域是。本题答案：【高真空】34、【单选题】采用低真空的主要目的是。本题答案：【获得压力差】35、【单选题】决定一个真空泵是否满足真空度要求的性能指标是。本题答案：【真空泵的极限压强】36、【单选题】决定一个真空泵效率的性能指标是。本题答案：【真空泵的抽气速率】37、【单选题】真空蒸发镀膜时为了蒸发低蒸气压物质，应该采用。本题答案：【电子束加热法】38、【单选题】真空蒸发镀膜时为了抑制或避免薄膜原材料与蒸发加热器发生化学反应，应该采用。本题答案：【耐热陶瓷坩埚】39、【单选题】真空蒸发镀膜时为了制造成分复杂或多层复合薄膜，应该采用。本题答案：【多源蒸发法】40、【单选题】真空蒸发镀膜时为了制备化合物薄膜或抑制薄膜成分对原材料的偏离，应该采用。本题答案：【反应蒸发法】41、【单选题】不能采用电阻加热法进行镀膜的是。本题答案：【钨膜】42、【单选题】在溅射镀膜过程中，靶材通常是放在区进行的。本题答案：【负辉光区】43、【单选题】下面哪一种溅射方式的靶材可以是绝缘材料。本题答案：【射频溅射】44、【单选题】下面哪一种镀膜技术称作辉光放电中的蒸发法。本题答案：【离子镀】45、【单选题】下面哪一种溅射方式的靶材可以是强磁性材料。本题答案：【对靶溅射】46、【多选题】镀制薄膜时膜厚与下列哪些因素有关。本题答案：【蒸发源特性#基片形状#蒸发源形状#源基配置方式】47、【多选题】在进行膜层厚度的分布计算时，我们往往认为。本题答案：【蒸气分子无碰撞#到达基片全凝结#蒸发特性不改变#残余气体无影响】48、【多选题】薄膜按形态可以分为哪些类型？本题答案：【气体薄膜#液体薄膜#固体薄膜】49、【多选题】与镀膜技术密切相关的产业有哪些？本题答案：【投影显示#舞台灯光#幕墙玻璃#光通信领域】50、【多选题】薄膜的形成过程一般包含。本题答案：【凝结过程#核形成过程#岛的形成过程#岛的结合与生长过程】51、【多选题】气相原子或分子到达基片表面可能会发生以下现象。本题答案：【反射#吸附#重蒸发#二次蒸发】52、【多选题】下列属于临界核长大的方式有。本题答案：【入射原子直接碰撞#吸附原子扩散碰撞】53、【多选题】形核过程一般可以分成以下类型。本题答案：【均匀成核生长#非均匀成核生长】54、【多选题】薄膜的生长模式一般包含。本题答案：【核生长型#层生长型#层－核生长型】55、【多选题】临界核形成初期的吞并结合机制有。本题答案：【奥斯瓦尔多吞并机制#熔结机制#原子团迁移机制】56、【多选题】热力学表面能理论和原子聚集体理论的不相同点包括。本题答案：【采用的能量#适用的范围】57、【多选题】薄膜的组织结构可以分为。本题答案：【无定形结构#晶体结构#纤维结构#单晶结构】58、【多选题】形成无定形薄膜的主要方法是。本题答案：【降低基体温度#引入反应气体#引入杂质】59、【多选题】多晶结构的薄膜可以分为本题答案：【无序多晶薄膜#锥形结构薄膜#柱状结构薄膜#纤维结构薄膜】60、【多选题】表面反射对光学系统造成的严重后果有。本题答案：【光能损失#像亮度降低#分辨率下降#像的衬度降低】61、【多选题】常见的热缺陷类型有。本题答案：【肖特基缺陷#弗伦克尔缺陷】62、【多选题】单层减反膜的主要缺陷有。本题答案：【剩余反射率高#破坏色中心】63、【多选题】克服单层膜缺陷常用的方法有。本题答案：【渐变膜#多层膜】64、【多选题】面缺陷常见的典型构型有。本题答案：【晶界#层错#孪晶面#表面】65、【多选题】影响晶粒尺寸的因素有。本题答案：【薄膜厚度#基板温度#退火温度#沉积速率】66、【多选题】按缺陷在三维空间几何形状和涉及的范围，缺陷可以分为。本题答案：【点缺陷#面缺陷#线缺陷#体缺陷】67、【多选题】选择一个满足要求的截止滤光片需要考虑的因素有。本题答案：【截止区波长范围#透射区波长范围】68、【多选题】描述溅射镀膜特性的物理量有。本题答案：【溅射阈值#溅射产额#溅射率#溅射系数】69、【多选题】影响溅射率的因素有。本题答案：【靶材料#入射离子能量#入射离子种类#入射离子入射角】70、【多选题】普通二极直流溅射中工作气体压强必须保持在1～10Pa范围内，如果压强低于1Pa，辉光放电就不能自持而无法溅射。而却能在低压下进行溅射镀膜。本题答案：【三级溅射#磁控溅射】71、【多选题】与蒸发和溅射相比，离子镀所具有的优点是本题答案：【膜层附着力强#膜层密度高#绕射性能好#沉积速率高】72、【判断题】真空就是压力低于一个大气压的任何气体空间。本题答案：【正确】73、【判断题】碰撞与固体表面的分子，它们飞离表面的方向与原来入射方向无关本题答案：【正确】74、【判断题】能够测出气体压强的真空计都是绝对真空计。本题答案：【错误】75、【判断题】物质的饱和蒸气压随温度的上升而增加。本题答案：【正确】76、【判断题】辉光放电是溅射镀膜的基础。本题答案：【正确】77、【判断题】面心立方结构靶材的溅射率比六方晶格结构靶材的溅射率低。本题答案：【错误】78、【判断题】入射离子的能量高于某一值的时候才能发生溅射。本题答案：【正确】79、【判断题】用单晶材料为靶材进行溅射镀膜时，溅射出来的原子基本上遵循余弦规则。本题答案：【错误】80、【判断题】石英晶体振荡器测得的膜厚是光学厚度。本题答案：【错误】81、【判断题】薄膜光学研究的是光横穿过膜层传播的规律。本题答案：【正确】82、【判断题】薄膜与厚膜的本质区别在于能否产生光的干涉现象。本题答案：【正确】83、【判断题】触针法测得的膜厚是光学厚度。本题答案：【错误】84、【判断题】麦克斯韦方程组的积分形式只适用于有限大小的电磁场。本题答案：【正确】85、【判断题】要确定某一给定点的电磁场必须采用麦克斯韦方程组的积分形式。本题答案：【错误】86、【判断题】在处理介质对电磁场的影响时，必须考虑介质的微观结构。本题答案：【错误】87、【判断题】采用点蒸发源蒸发镀膜时要想在球面夹具上得到均匀的薄膜，应该把点蒸发源放在球心上。本题答案：【正确】88、【判断题】采用小平面蒸发源蒸发镀膜时要想在球面夹具上得到均匀的薄膜，应该把小平面蒸发源放在球心上。本题答案：【错误】89、【判断题】采用点蒸发源蒸发镀膜时要想在球面夹具上得到均匀的薄膜，应该把点蒸发源放在球面上。本题答案：【错误】90、【判断题】在平面夹具上蒸发镀膜时从节省材料的角度考虑最好采用点蒸发源。本题答案：【错误】91、【判断题】在平面夹具上蒸发镀膜时从节省材料的角度考虑最好采用小平面蒸发源。本题答案：【正确】92、【判断题】任何一个复杂的薄膜系统，其反射率的计算问题都可以通过其等效界面对应的等效光学导纳进行计算。本题答案：【正确】93、【判断题】光学厚度相差为某半波长的整数倍的同一材料的单层介质膜，对同一波