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文档简介
(图片大小可自由调整)2024年操作工技能考核考试-真空镀膜操作员考试近5年真题集锦(频考类试题)带答案第I卷一.参考题库(共100题)1.在相同光斑条件下,电子枪镀AL2O3电流跟MGF2电流大小差不多。2.为使蒸发材料分子从蒸发源到达基板时基本不和残余气体分子发生碰撞,故真空室内真空度要到达10-3Pa以下,以满足()条件A、气体分子平均自由程小于蒸发距离.B、气体分子平均自由程远大于蒸发距离C、气体分子平均自由程等于蒸发距离。D、气体分子平均自由程的平方大于蒸发距离。3.石英晶体控制原理主要是利用了石英晶体的两个效应,即()和()。4.光是沿()传播;它是一种频率极高的()波;一般可见光范围在()之间。5.自动关机时只要把总电源关掉就可以了。6.镀膜净化间规定每3小时记录一次温湿度。7.油扩散泵上面加冷阱,其作用是()。A、防止扩散油分子回流到真空室B、加快排氣速度C、防止杂物掉入扩散泵D、提高膜层附着力8.正常情况下,真空室内部清洗干净后,机器的抽气速度将()。A、变慢B、变快C、不变D、无法判断9.电子枪的高压是()千伏。10.在镀膜过程中,石英晶振可以显示以下哪些数值?()A、蒸发速率B、蒸发温度C、真空度D、膜层厚度11.光控曲线不好会导致以下哪些结果()。A、整罩分光特性超差B、均匀性不好C、表面不好D、膜层牢固度不好12.换电时先关机械泵,再关预阀,后关扩散泵。13.简述一下镀膜机的开机及关机过程。14.晶振片和镀膜材料应放在干燥器中的目的是:()15.真空镀膜时真空度范围应在()。A、低真空B、中真空C、高真空D、超高真空16.扩散泵油被氧化后,仍然可以使用一段时间。17.TiO2的充氧量过多会导致脱膜问题。18.按照目前工艺要求,镀膜三罩后需更换()和()的铝箔。19.SiO2料面的哪些因素对镀膜曲线有影响?()A、平整度B、高度C、洁净度D、硬度20.在使用扩散泵应注意哪些事项?21.修正板有R记号的是()(填枪1或枪2)修正板。22.当某罩产品良品数低于()判定为报废。23.镀膜机抽速慢,以下哪些可能会引起?()A、各类泵油使用时间太长,已变质B、POLYCOLD有问题C、真空室的清洁不到位D、机器有漏气24.换过防污板之后不烘烤就可以上片,这样可以节省时间.25.温度不对会导致以下哪些结果()。A、整罩分光特性超差B、均匀性不好C、表面不好D、膜层牢固度不好26.不合格镜片非专职人员可以随便拿取。27.在镀IR-CUT时,镀出产品表面发黑,其原因是()。A、镀膜材料受到污染B、内外排分布不均匀C、温度没有加D、充氧不够28.为什么要在高真空下镀膜?29.正常可升降修正板的镀膜机,若EB2正在镀膜,EB1,EB2上方的修正板,处于何种状态?()A、EB1上方的修正板升起B、EB2上方的修正板升起C、EB1上方的修正板下降D、EB2上方的修正板下降30.倒片时可以不用戴乳胶手套.31.在相同光斑大小和蒸发速率的情况下,AL2O3电子枪功率()SiO2电子枪功率A、大于B、小于C、等于D、不知道32.电子枪“FIL”灯变红,故障原因是()。A、电子枪高压线路故障B、真空室底下门没有关好C、电子枪灯丝有问题D、电子枪电流回路故障33.按作业流程要求在上片之前一定要查看合同评审单,确认是否能上片.34.镀膜机镀膜结束,不需要冷却可直接充气。35.如何用简单的方法检验刚换好的氧气或氩气瓶各联结处是否漏气?36.目前我们镀膜机抽真空系统一般由()、()、()组成。37.真空度不对会导致以下哪些结果()。A、整罩分光特性超差B、均匀性不好C、表面不好D、膜层牢固度不好38.换电之后扩散泵要重新预热50分钟后才能升高阀.39.简述一下镀金属膜注意事项?40.坩埚挡板装偏了会导致漏料问题。41.次品片标示卡要标示的内容有跟踪号、()、()、()、()。42.电子枪灯丝变形,可能有以下哪些结果?()A、电子枪光斑变形,位置打偏B、内外排分布不均匀C、分光特性不良D、产生杂质43.目前控制膜厚种类有()。A、光学膜厚仪控制B、电子枪控制C、晶振膜厚仪控制D、电脑控制44.简述在镀膜过程中产生杂质的原因和对策?45.穿脱净化服流程()。A、手套→浴帽→净化帽→净化服→净化鞋→口罩B、浴帽→净化帽→净化服→净化鞋→口罩→手套C、手套→口罩D、手套→口罩→浴帽→净化帽→净化服→净化鞋46.有急事时,镀膜车间里可以接听手机。47.光源灯使用寿命一般为:()小时。48.放片盒上的标示,该标示()、产品规格、()、()、数量。49.如果晶振速率突然不稳你该怎么处理?50.添加SIO2膜料药勺可以拿来添加氟化镁膜料。51.烘烤时间在原有基础上加长半小时,中心波长会()(填偏长或偏短)。52.莱宝镀膜机在镀膜过程中,需要操作员工关注以下哪些情况?()A、蒸发速率稳定情况B、APC充氧情况C、电子枪光斑位置及大小情况D、光控曲线的走向及形状.53.普通加热工艺镀制的薄膜微观结构是柱状结构,为了改善膜层结构,提高聚集密度,分别出现了三种成膜工艺()、()、()。54.材料蒸发时,充氧的主要目的有哪些?()A、补充材料失去的氧原子,使材料氧化更充分,降低膜层吸收B、使每次镀膜时,真空室内的真空状态相接近C、使蒸发更稳定D、使控制更精确55.真空镀膜有哪些优点?56.对12分积分/年累计大于12分(含12分)违纪者,公司有权给予解除劳动合同。57.手动关机时,关闭扩散泵加热,等冷却50分钟后,需先关闭MV阀、再关罗茨泵和机械泵。58.从操作角度来看,如何操作和保养才能让一台镀膜机的膜系稳定?59.每次更换晶振,除了我们换上新的晶振,还必须把晶振头也清冼干净。60.镀膜膜层厚度监控方法有()和()两种。61.镀膜镜片表面产生杂质,以下哪些是可能原因?()A、材料本身不纯,有杂质B、预熔时没熔透,镀膜时有飞溅C、光斑打到边缘或外边,将其它物质镀到镜片上D、坩埚盖板太脏,预熔时有膜料残渣掉进坩埚62.下列哪个符号代表高阀()。A、FVB、MBPC、MVD、DP63.目前GENER机的透亮工艺其烘烤温度是()。64.测量真空的器械称为()。一般分为电离规真空计和()两种。65.用分光光度计检测光谱曲线的中心波长时,镜片放倾斜了,则测量值与真实值比较,会()。A、相等B、偏长C、偏短D、不一定66.镀膜机中EB代表的含义()。A、电脑B、扩散泵C、电子枪D、光斑67.装电子枪灯丝的过程以及要注意的问题?68.该层晶振厚度是800A,现已镀了150A,由于某种原因充气而需要加镀,那么加镀晶振厚度是()。69.请具体分析MGF2溅料产生的原因?对此有什么好的方法可以预防。70.对镀膜材料进行预熔的目的是()。A、去除材料内部的杂质B、改变材料的表面形状C、减少材料的放气D、提高材料的温度71.充氧不稳会导致以下哪些结果()。A、整罩分光特性超差B、均匀性不好C、表面不好D、膜层牢固度不好72.上片过程中,有人从球罩边上快速地走过,但没碰到片,不会对产品质量造成影响。73.增强膜层和镜片附着强度,以下哪些因素有关()。A、镜片表面清洁度B、镜片表面温度C、真空室内清洁度D、膜层材料74.每台机器安装修正板的目的是()。A、调整内外排温度分布B、调整机器内的真空度分布C、调整内外排膜厚分布D、调整同圈厚度分布75.手动预熔材料时,应注意下列哪些事项?()A、真空室内达到一定的真空度,开始加电流预熔材料B、光斑不能打到坩埚边上,更不能打到坩埚外边C、预熔时的最高电流一定要高于蒸发时的电流D、不同材料不同的预熔电流76.在镀膜前先需核对所镀镜片与流程卡是否相符。77.镀650±10IR-CUT滤色片,请问镀出在哪个波长范围内合格()。A、640~660nmB、640~655nmC、630-660nmD、635-660nm78.离子源使用结束后,机器会自动充入氩气对其冷却,冷却的目的是什么?79.镀膜员工可以保管不合格镜片。80.下列哪些因素影响内外排的均匀性?()A、电子枪光斑的位置B、电子枪光斑的形状、大小C、真空度不稳定D、修正板的形状和上升高度81.镀膜TI3O5其中一层没有充氧,这样对曲线没有影响.82.真空室内部清扫不干净,可能会导致以下哪些结果?()A、机器抽速慢B、产品表面质量差C、机器效率降低D、分光特性不重复83.机器镀膜结束,没有直接充入大气,而是先冷却,冷却的目的是什么?84.下列哪个符号代表光控()。A、OPMB、EBC、MBPD、PFC85.普通IR膜系,哪两个波长段最容易掉坑?()A、400nmB、500nmC、600nmD、900nm86.提高膜层聚集密度工艺有()。A、提高离子源功率B、降低温度C、降低真空度D、提高温度87.机器在开镀之前我们进行恒温的目的是什么?88.对于AR膜而言,下列哪个波段反射率偏高时,镜片的反射光呈现红色?()A、400~420nmB、500~530nmC、580~620nmD、630~760nm89.黄色互补色是()。A、绿色B、蓝色C、红色D、紫红色90.在装韩一电子枪时,装好电子枪灯丝拧紧电子枪灯冒,但拧紧之后又要倒转1/4圈。91.产品规格为77*77的晶片,镀膜一罩可以装120片,下片时由于不小心弄碎了1片,那么该罩的碎片率为()。92.在镀膜之前为什么要预熔材料?93.光驰OTFC镀膜机离子源有()片栅极片。A、1B、2C、3D、494.自动关机时不需要考虑真空度就可以直接关机。95.作为一名交班者,你个人认为应该让接班者清楚哪些事情,同时作为一个接班者你个人认为应该从前一班中清楚哪些事情?96.机器大清洗后应进行()和()处理,才能正常生产。97.光学玻璃BK7折射率为1.517,则该玻璃表面单面反射率是()。98.写出镀膜过程应注意哪些参数变化?99.现在我们生产Ir-cut(中心波长650nm)平板滤色片,从反射看平板的颜色是()。A、红色B、绿色C、蓝色D、没有规律100.镀膜机球罩的转动架须高速转动的目的是()A、使同圈的膜层厚度分布均匀B、使内外排膜层厚度分布均匀C、使同圈温度分布均匀D、使内外排温度分布均匀第I卷参考答案一.参考题库1.参考答案:错误2.参考答案:B3.参考答案:压电效应;质量负荷效应4.参考答案:直线;电磁;400~700纳米5.参考答案:错误6.参考答案:错误7.参考答案:A,D8.参考答案:B9.参考答案:710.参考答案:A,D11.参考答案:A12.参考答案:错误13.参考答案: 开机冷却水和压缩空气检查开稳压电源开机器总电源加热扩散泵开电子枪电源打开光控电源开记录仪开关开晶振开关打开电脑关机:打扫机器抽真空关扩散泵关电子枪电源关光控电源关记录仪开关关晶振开关关电脑关总电源。14.参考答案:防止在空气中受潮15.参考答案:C16.参考答案:错误17.参考答案:正确18.参考答案:铝板;修正板19.参考答案:A,B,D20.参考答案: 1、冷却水不足,必须关闭扩散泵,否则轻则会造成返油,重则会使扩散泵过热造成扩散泵油烧焦。(机器若有自动保护装置,会自动停止扩散泵加热,并报警) 2、扩散泵必须在低真空阀关闭,预抽阀开启,且系统真空高于真空室真空时才能打开,否则会造成真空室返油。21.参考答案:枪222.参考答案:40%23.参考答案:A,B,C,D24.参考答案:错误25.参考答案:A,B,D26.参考答案:错误27.参考答案:D28.参考答案: 1、真空状态下,膜料的熔点温度和蒸发温度要比在大气状态下低得多。对高熔点的氧化物膜料,在真空状态下其熔点要低得多。也就容易到蒸发温度而不需太高的能量。 2、真空状态下,真空室中空气极少,膜料分子从蒸发源到达基片表面的路程中几乎不与残留在真空室中的气体分子碰撞,即分子自由程长。膜料容易沉积在基片上。 3、由于真空室中气体分子少,因而氧分子、硫分子等化学活泼分子也少,高温状态的膜料分子就不会与之发生化学变化,从而保证膜层的膜料纯度。29.参考答案:B,C30.参考答案:错误31.参考答案:A32.参考答案:C33.参考答案:正确34.参考答案:错误35.参考答案: 1、先打开瓶阀,在一个小塑料盒子盛入一些洗衣粉(或洗涤精)和水,搅拌成泡沫,用纱布把这些泡沫攒到各个联结处,看是否有小汽泡冒出,如有说明该联结处有漏气。 2、先打开瓶阀,之后再关掉,看各表指针读数是否变化。36.参考答案:机械泵;罗茨泵;扩散泵37.参考答案:A,B,D38.参考答案:错误39.参考答案: 高的真空度、低基板温度、快蒸40.参考答案:正确41.参考答案:规格;材料;数量;膜系42.参考答案:A,B,C,D43.参考答案:A,C44.参考答案: 对策 1.电子枪周围没有打扫干净用吸尘器、百洁布等清冼电子枪部件 2坩锅没有清冼干净坩锅边缘用百洁布、酒精、纱布清冼干净 3镀膜时电子枪光斑不在中间而打到边缘镀膜时必须把电子枪光斑打到中间而不能打偏 4预熔材料不透彻把膜料充分地预熔透彻 5预熔膜料电流加得太快加电流要缓慢,不要加的太快 6.电子枪档板不干净每罩要更换电子枪档板,以及电子枪档板要清冼干净 7.膜料污染避免膜料相互污染,以及保存方法 8.膜料本身不纯更换其它品种膜料。45.参考答案:A46.参考答案:错误47.参考答案:200048.参考答案:跟踪号;材料;圈数49.参考答案: 如果是晶振控制的可以按照不稳时间和电流估计出实际所蒸镀的厚度,之后换一片晶振加镀;如果是光控控制的可以以光控为准换一片晶振继续蒸镀。50.参考答案:错误51.参考答案:偏长52.参考答案:A,B,C,D53.参考答案:离子辅助镀;反应离子镀;溅射镀54.参考答案:A,B55.参考答案: ⑴减少蒸发分子与残余气体分子的碰撞。 ⑵抑制蒸发分子与残余气体分子之间的反应。56.参考答案:正确57.参考答案:错误58.参考答案: 本题是员工自由发挥题目,没有明确答案,可以从以下三个方面考虑: 1、如何按照作业指导书进行操作? 2、如何维护设备日常保养? 3、在镀膜时出现问题时,怎样去解决这些问题?59.参考答案:正确60.参考答案:晶控;光控61.参考答案:A,B,C,D62.参考答案:C63.参考答案:250/150/15064.参考答案:真空计;电阻式真空计65.参考答案:C66.参考答案:C67.参考答案: 安装灯丝过程: 用竹夹子把新灯丝装到灯丝座上,压上压块稍微固定螺丝,灯丝脚要放到灯丝座凹槽内→用夹子轻压灯丝螺纹面,使得灯丝脚接触到底部,并保证灯丝螺纹均匀分布而不变形→缓慢地拧紧螺丝,并保证灯丝螺纹均匀分布而不变形→拧上灯丝座头盖帽,不要拧得过紧一般拧到位之后往回拧一点点。 注意事项: 1.注意灯丝与压块、灯丝座接触部分要很光亮,避免接触不良、打火影响正常使用. 2.拧螺丝的时候,注意用力要
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