原子层沉积（ALD）工艺助力实现PowderMEMS技术平台_第1页
原子层沉积（ALD）工艺助力实现PowderMEMS技术平台_第2页
原子层沉积（ALD）工艺助力实现PowderMEMS技术平台_第3页
原子层沉积（ALD）工艺助力实现PowderMEMS技术平台_第4页
全文预览已结束

下载本文档

版权说明：本文档由用户提供并上传，收益归属内容提供方，若内容存在侵权，请进行举报或认领

文档简介

深圳市福英达工业技术有限公司/一站式锡膏解决方案供应商原子层沉积（ALD）工艺助力实现PowderMEMS技术平台据麦姆斯咨询报道，近期，德国弗劳恩霍夫硅技术研究所（FraunhoferInstituteforSiliconTechnology，ISIT）宣布将PICOSUNP-300BALD系统用于其PowderMEMS技术平台PICOSUNP-300BALD系统及技术特点FraunhoferISIT的PowderMEMS是一项新研发的创新技术，用于在晶圆级上从多种材料中创建三维微结构。该技术基于通过原子层沉积（ALD）工艺在空腔中将微米级粉末颗粒粘合在一起。与其它制造技术相比，PowderMEMS具有许多优势，因为它允许使用比传统烧结工艺低得多的工艺温度。粘合的多孔结构具有耐热性和耐化学性，因此可以在洁净室中进行广泛的后处理。PowderMEMS技术特点“PowderMEMS可用于多种领域，包括MEMS传感器、MEMS执行器、MEMS能量收集器、微流控、微电子等。例如，它能够在晶圆级集成多孔和磁性3D微结构。”FraunhoferISIT小组负责人BjörnGojdka博士表示。集成微磁体的MEMS能量收集器磁性PowderMEMS微结构集成软磁芯的微线圈“我们正在寻找一种解决方案，用于在沟槽中对粉末进行保形高表面积涂层。Picosun的ALD解决方案非常适合我们的需求，同时也在研究扩大该技术的生产规模。我们对该ALD系统的热壁反应器、多用途的前驱体源、易于维护等感到特别满意。”FraunhoferISIT首席科学家ThomasLisec博士说道。Picosun欧洲公司总经理ChristophHossbach博士表示：“我们对这项新技术的诞生及其带来的所有机会感到兴奋。我对FraunhoferISIT的PowderMEMS技术的潜在应用印象特

人人文库> 全部分类> 行业资料 > 工业设计

温馨提示

  • 1. 本站所有资源如无特殊说明，都需要本地电脑安装OFFICE2007和PDF阅读器。图纸软件为CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.压缩文件请下载最新的WinRAR软件解压。
  • 2. 本站的文档不包含任何第三方提供的附件图纸等，如果需要附件，请联系上传者。文件的所有权益归上传用户所有。
  • 3. 本站RAR压缩包中若带图纸，网页内容里面会有图纸预览，若没有图纸预览就没有图纸。
  • 4. 未经权益所有人同意不得将文件中的内容挪作商业或盈利用途。
  • 5. 人人文库网仅提供信息存储空间，仅对用户上传内容的表现方式做保护处理，对用户上传分享的文档内容本身不做任何修改或编辑，并不能对任何下载内容负责。
  • 6. 下载文件中如有侵权或不适当内容，请与我们联系，我们立即纠正。
  • 7. 本站不保证下载资源的准确性、安全性和完整性, 同时也不承担用户因使用这些下载资源对自己和他人造成任何形式的伤害或损失。

最新文档

评论

0/150

提交评论