中国光刻胶产业分析报告-市场深度分析与未来动向研究

2020年中国光刻胶产业分析报告市场深度分析与未来动向研究

提示：财政部、国家税务总局等四部门发布《关于促进集成电路产业和软件产业高质量发展企业所得税政策的公告》，从中可以看出，税收优惠政策向先进制程倾斜，芯片和软件、互联网等企业受益或相对较为明显。此外，南大光电自主研发的ArF光刻胶已获得客户使用通过认证，成为第一只通过产品验证的国产ArF光刻胶，国产替代迎来前所未有的发展机遇。

财政部、国家税务总局等四部门发布《关于促进集成电路产业和软件产业高质量发展企业所得税政策的公告》，从中可以看出，税收优惠政策向先进制程倾斜，芯片和软件、互联网等企业受益或相对较为明显。此外，南大光电自主研发的ArF光刻胶已获得客户使用通过认证，成为第一只通过产品验证的国产ArF光刻胶，国产替代迎来前所未有的发展机遇。

光刻胶是光刻工艺的关键性材料，决定了半导体图形工艺的精密程度和良率，其质量和性能是影响集成电路性能、成品率及可靠性的重要因素。由于光刻胶行业技术壁垒高并且要与光刻设备协同研发，目前，日本和美国光刻胶巨头主导了高端光刻胶市场，我国光刻胶行业国产化率有待提高。

中国光刻胶国产化率情况按照应用领域分类主要品种国产化率国内公司PCB光刻胶干膜光刻胶几乎全进口/湿膜及阻焊油墨50%容大感光、东方材料、北京力拓达、飞凯材料LCD光刻胶CF彩色光刻胶5%永太科技（产能建成）、雅克科技（收购LG彩胶）、鼎材科技、北旭新材、阜阳欣弈华CF黑色光刻胶5%上海新阳（产能在建）、江苏博砚（产能建成）、阜阳欣弈华TFT-LCD正性光刻胶大部分进口晶瑞股份旗下苏州瑞红、北京科华、容大感光、中电彩虹、飞凯材料（产能扩建)、京东方旗下北旭电子（产能扩建)半导体光刻胶g线光刻胶（436nm）10%容大感光（产能建设)、晶瑞股份旗下苏州瑞红（02专项）、北京科华、潍坊星泰克i线光刻胶（365nm）10%KrF光刻胶（248nm）1%上海新阳（产能建设）、南大光电（02专项）、晶瑞股份（苏州瑞红）（科研攻关)、北京科华ArF光刻胶（193nm）1%EUV光刻胶（13.5nm）研发阶段北京科华（02专项）资料来源：公开资料整理

但受益下游半导体、LED及平板显示等行业的推动，我国光刻胶行业尚有较大的发展潜力。数据显示，2019年中国光刻胶市场规模达159亿元，增速15.22%，预计2020年将达到176亿元。

2015-2020年中国光刻胶市场规模及预测数据来源：公开资料整理

我国半导体光刻胶领域基本依赖于进口，以ArF光刻胶为例，其市场基本被日本企业占据，JSR、信越化学、TOK居行业前三，分别占比24%、23%、20%。

2019年ArF光刻胶市场占比数据来源：公开资料整理

但我国半导体光刻胶行业市场规模也呈现上升趋势，2019年市场规模达20.7亿元，同比增长24.7%，2020年有望达到24.8亿元。

2015-2020年中国半导体光刻胶市场规模及预测数据来源：公开资料整理

现阶段，我国半导体光刻胶技术水平与国际竞争对手相比，具有较大差距，但是国内企业不断进行技术突破和产品研发，未来将有望受益于本土半导体产能持续扩大、集成电路大基金的支持和供应链自主可控的需求，国产光刻胶研发生产或进入快车道。南大光电此次产品认证的通过，标志着“ArF光刻胶产品开发和产业化”项目取得了关键性的突破，也为国产光刻胶发展奠定了坚实的基础。

2019年中国半导体光刻胶行业企业布局情况公司I/G光刻胶KrF光刻胶干性ArF光刻胶浸没ArF光刻胶EUV光刻胶东京合成橡胶量产量产量产量产量产东京应化量产量产量产量产即将量产杜邦量产量产量产量产产能建设信越量产量产量产量产/富士量产量产量产量产/北京科华量产量产研发研发通过02专项验收上海新阳//产能建