碳基薄膜 椭偏分光光度法测定非晶态碳基薄膜的光学性能-编制说明

一、工作简况，包括任务来源、主要工作过程、主要参加单位和工作组成员及其所做的工作等

1．任务来源

本项目为国家标准化管理委员会于2022年8月下达的2022年第二批推荐性国家标准计划，计划

号：20220331-T-604。由全国金属与非金属覆盖层标准化技术委员会（TC57）归口上报，主管部门为

中国机械工业联合会。

负责起草单位为武汉材料保护研究所有限公司。

项目周期16个月，计划于2023年完成。

2．主要工作过程

起草阶段：2022年8月，全国金属与非金属覆盖层标准化技术委员会根据国家标准化管理委员

会2022的国家标准项目计划，委托起草单位成立标准工作组。于2022年8月，查阅了国内外相关标

准和文献，并翻译了国际标准ISO23216：2021《碳基薄膜椭偏分光光度法测定非晶态碳基薄膜的

光学性能》英文版。根据我国技术现状，经过充分讨论，起草小组确定等同采用ISO23216：2021，

以制定我国国家标准。

3．主要参加单位及工作组成员

起草单位：武汉材料保护研究所有限公司等

二、标准编制原则和主要内容

1．标准编制原则

本标准严格按照GB／T1.1-2020《标准化工作导则第1部分：标准化文件的结构和起草规则》

和GB/T1.2-2020《标准化工作导则第2部分：以ISO/IEC标准化文件为基础的标准化文件起草规

则》给出的规则编写。

2．主要内容

本标准规定了使用椭偏分光光度法测定碳基薄膜光学特性（折射率n和消光系数k）以及通过n-k

图谱进行不同类型非晶碳基薄膜分类的方法。

本文件适用于通过离子蒸镀、溅射、电弧沉积、等离子体化学气相沉积、热丝等工艺沉积的非晶

碳基薄膜。

本文件不适用于通过金属或硅改性的碳基薄膜，或在薄膜厚度上存在成分/性质梯度的非晶碳基

薄膜。

标准文件正文共8章，包括范围、规范性引用文件、定义和术语、试样制备、设备、步骤、试验

结果分类和试验报告。

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三、主要试验（或验证）情况分析

标准内容为行业基础知识，不涉及具体技术参数和要求，也不需要验证。

四、标准中涉及专利的情况

本标准中不涉及专利。

五、预期达到的社会效益

制订本标准，有助于碳基薄膜质量控制和工业应用的发展，对于已知的光滑基质材料也可适当地

进行应用。

六、采用国际标准和国外先进标准情况，与国际、国外同类标准水平的对比情况

本标准等同采用ISO23216：2021《碳基薄膜椭偏分光光度法测定非晶态碳基薄膜的光学性能》，

技术内容与国际标准一致，到达国际先进水平。

七、与现行相关法律、法规、规章及相关标准，特别是强制性标准的协调性

----本标准与现行相关法律、法规、规章及相关标准保持协调一致。

八、重大分歧意见的处理经过和依据

本标准起草阶段无重大分歧意见。

九、标准性质的建议说明

建议本标准作为推荐性标准发布实施。

十、贯彻标准的要求和措施建议

建议本标准批准发布6个月后实施。

十一、废止现行相关标准的建议

无。

十二、其他应予说明的事项

无。

标准起草工作组

2022年11月1日

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一、工作简况，包括任务来源、主要工作过程、主要参加单位和工作组成员及其所做的工作等

1．任务来源

本项目为国家标准化管理委员会于2022年8月下达的2022年第二批推荐性国家标准计划，计划

号：20220331-T-604。由全国金属与非金属覆盖层标准化技术委员会（TC57）归口上报，主管部门为

中国机械工业联合会。

负责起草单位为武汉材料保护研究所有限公司。

项目周期16个月，计划于2023年完成。

2．主要工作过程

起草阶段：2022年8月，全国金属与非金属覆盖层标准化技术委员会根据国家标准化管理委员

会2022的国家标准项目计划，委托起草单位成立标准工作组。于2022年8月，查阅了国内外相关标

准和文献，并翻译了国际标准ISO23216：2021《碳基薄膜椭偏分光光度法测定非晶态碳基薄膜的

光学性能》英文版。根据我国技术现状，经过充分讨论，起草小组确定等同采用ISO23216：2021，

以制定我国国家标准。

3．主要参加单位及工作组成员

起草单位：武汉材料保护研究所有限公司等

二、标准编制原则和主要内容

1．标准编制原则

本标准严格按照GB／T1.1-2020《标准化工作导则第1部分：标准化文件的结构和起草规则》

和GB/T1.2-2020《标准化工作导则第2部分：以ISO/IEC标准化文件为基础的标准化文件起草规

则》给出的规则编写。

2．主要内容

本标准规定了使用椭偏分光光度法测定碳基薄膜光学特性（折射率n和消光系数k）以及通过n-k

图谱进行不同类型非晶碳基薄膜分类的方法。

本文件适用于通过离子蒸镀、溅射、电弧沉积、等离子体化学气相沉积、热丝等工艺沉积的非晶

碳基薄膜。

本文件不