阵列碳纳米管激光靶制备技术研究的开题报告

阵列碳纳米管激光靶制备技术研究的开题报告一、研究背景和意义碳纳米管（CNT）是一种具有优异物理和化学特性的纳米材料，在微纳米器件、电子、光电以及生物领域有广泛的应用。激光靶制备是一种常用的表面处理技术，在CMT的领域中具有重要的作用。阵列碳纳米管激光靶制备技术是将激光阵列照射在表面上，使表面产生能够引导CNT直立生长的纳米毛，从而使CNT形成阵列排布。该技术能够制备高质量、高密度的CNT阵列，并应用于各种微纳米器件。然而，目前阵列CNT激光靶制备技术的研究还存在一些问题，如CNT生长的均匀性和阵列密度的控制等。因此，进一步深入研究阵列CNT激光靶制备技术具有重要的理论和实际意义。二、研究内容和方法该研究的主要内容是分析和研究阵列CNT激光靶制备技术的原理、机制以及生长过程中的影响因素。同时，通过实验验证，探究不同参数下CNT阵列生长的均匀性和阵列密度的控制等性质，并结合现有技术对其进行优化。具体的步骤如下：1.文献调研：查阅国内外相关文献，了解阵列CNT激光靶制备技术的现状和研究进展。2.制备阵列CNT激光靶：通过激光阵列照射、化学VaporDeposition（CVD）等方法，制备出阵列CNT激光靶。3.实验验证：通过SEM、TEM等技术，对CNT阵列的形貌和结构进行分析和表征，比较不同参数下CNT阵列的生长情况。4.性质优化：根据实验结果，结合现有技术，对阵列CNT激光靶制备过程进行优化，提高CNT阵列的均匀性和阵列密度的控制性能。三、研究意义和预期成果该研究对于提高阵列CNT激光靶制备技术的效率和质量具有重要意义。同时，该研究对于拓展CNT在微纳米器件、电子、光电以及生物领域等应用方向具有积极的推动作用。预期成果包括：1.深入研究阵列CNT激光靶制备技术的原理和机制。2.验证不同参数下CNT阵列生长的均匀性和阵列密度的控制性能，并优化阵列CNT激光靶制备过程。3.提出阵列CNT激光靶制备技术的相关应用方向和发展趋势。四、研究进度安排时间节点完成内容第1-2周文献调研第3-4周确定研究方向和方法第5-6周制备阵列CNT激光靶第7-8周实验验证第9-10周数据分析和结果讨论第11-12周优化阵列CNT激光靶制备过程第13-14周完善论文和撰写开题报告五、参考文献1.XieY,LiH,TangY,etal.Controllablefabricationofverticallyalignedcarbonnanotubearraysbyresist-maskedetching[J].AppliedSurfaceScience,2016,390:765-769.2.WangY,WuC,JinYF,etal.FabricationofalignedcarbonnanotubearraysbyintroducingSinanoparticlesmasksusingaNicatalystfilm[J].MaterialsLetters,2015,144:137-139.3.ZhaoY,SunL,ZhouJ,etal.Dimensionalcontroloflongverticallyalignedmultiwalledcarbonnanotubesbyelectronbeamlithography-patternedAlcatalystfilm[J].JournalofVacuumScience&TechnologyB,2016,34(3):031804.4.ZhangT,ZhaoJ,FanX,etal.Alignedcarbonnanotube-arrayfi