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低阻高透柔性导电膜制作技术：柔性卷绕镀膜设备结构如图1所示，柔性卷绕镀膜制作流程如图2所示。图1柔性卷绕镀膜设备结构示意图图2柔性卷绕镀膜制作流程柔性卷绕镀膜制作流程：①将成卷的PET基材通过撕膜设备把原保护膜撕去后卷成卷；②将待镀PET基材放置到放卷室的放卷辊上，并把PET基材按走膜路径穿膜，经传动辊最终缠到收卷辊上，关闭所有腔体门抽真空；③待腔体真空度达到3.0×10-5Pa时，充入工艺气体至工艺真空，PET基材经过等离子设备预处理后，工艺室的阴极依次镀制所需膜系；④PET基材镀制完成后，关闭收、放卷室与工艺室之间的阀门；对收、放卷室进气处理后打开收卷室的腔体门，取出收卷室的成品PET基材。低阻高透柔性导电膜制膜层设计：根据需溅镀物质的光电性质，使用公司自有模拟软件设计、匹配膜层厚度；预达到所需低阻高透成品，需依次溅镀SiO2层膜厚约60nm、ITO1层膜厚约25nm、Ag层膜厚10nm、ITO2层膜厚约50nm，结构如图3所示。图3低阻高透柔性高透膜层结构根据模拟数据调试所得样品参数，需按控制变量法分步骤进行以下实验。（1）保持SiO2层膜厚不变，调整ITO-Ag-ITO膜层厚度，根据模拟数据取样测试结果：平均阻值16.3Ω/口，可知导电膜层整体偏薄，需增加导电层厚度以降低方阻，导电层膜层厚度调整参数见表1。表1导电层膜层厚度调整参数所选样品取9个点测试方阻以及透过率、雾度，样品调试后取344mm×406mm片材，按标记九点位置进行测试，结果见图4、图5。图4导电层膜厚参数调整后样品方阻测试结果

图5导电层膜厚参数调整后样品透过率测试结果根据以上测试数据可知，SiO2膜层厚度不变，只改变导电层膜厚：①只增加Ag层膜层厚度时，样品方阻几乎没有改变，并且透过率偏低；②同等膜厚增加到ITO1与ITO2时，可见ITO2层厚度增加时，方阻以及透过率的影响较大；③可根据需求减低ITO1和Ag层膜厚，并增加ITO2层膜厚，以达到低阻高透的效果。（2）保持导电层（ITO-Ag-ITO）层膜厚不变，调整膜层SiO2厚度，折射层膜层厚度调整参数见表2。表2折射层膜层厚度调整参数保持导电层各膜层厚度不变，调整SiO2膜层厚度，测试样品透过率变化情况，见图6。图6折射膜厚参数调整后样品透过率测试结果根据以上测试数据可见，当导电层厚度不变，只改变SiO2层膜厚，SiO2层膜厚增加时，样品透过率降低；当SiO2层膜厚降低时，样品透过率增加。通过进行一系列实验得出：通过调整各膜层厚度可得所需低阻高透柔性导电膜。通过工艺优化及膜层厚度匹配，目前已调试并小批量产低阻高透产品，产品指标可达：方阻（平均）：14.5Ω/口，透过率：≥87.3%。该指标

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