脉冲激光沉积PLD_第1页
脉冲激光沉积PLD_第2页
脉冲激光沉积PLD_第3页
脉冲激光沉积PLD_第4页
全文预览已结束

下载本文档

版权说明：本文档由用户提供并上传，收益归属内容提供方，若内容存在侵权，请进行举报或认领

文档简介

脉冲激光沉积PLD引言脉冲激光沉积（PulsedLaserDeposition，简称PLD）是一种重要的材料制备技术，广泛应用于材料科学和工程领域。本文将介绍脉冲激光沉积的基本原理、工作机制以及在材料制备中的应用。基本原理脉冲激光沉积是一种使用激光脉冲将材料从目标上脱落并沉积于基底上的过程。其基本原理可以简单描述为以下几个步骤：激光脉冲照射：以高能量激光脉冲照射材料目标表面，产生高温和高压的条件。目标脱落：激光脉冲作用下，原子级别的张力差使得目标表面的材料脱落。沉积过程：脱落的材料以原子、分子或团簇形式在基底上沉积。结晶与生长：沉积的材料在基底上结晶并生长为薄膜。工作机制脉冲激光沉积的工作机制受多个参数影响，包括激光脉冲能量、激光脉冲持续时间、激光脉冲重复频率等。这些参数可以调节来控制沉积薄膜的性质和结构。激光参数：激光脉冲的能量和重复频率具有重要影响。较高的能量可以产生更高的温度和压力，促进材料的脱落和沉积过程。而适当的重复频率能够提高沉积效率和生长质量。气氛气体：PLD过程通常在真空或惰性气氛下进行。气氛气体可以在激光沉积过程中控制薄膜的化学组成以及晶型结构。基底材料：基底材料的选择对脉冲激光沉积的结果也具有重要影响。基底的晶格匹配性和热传导性能对薄膜的结晶和生长起着关键作用。应用领域脉冲激光沉积在材料制备领域具有广泛的应用，特别适用于制备薄膜材料和异质结构。以下是一些常见的应用领域：光电子学：脉冲激光沉积可以制备具有特殊光学性质的材料，如透明导电薄膜、反射膜等，用于光电子学器件的制备。超导材料：脉冲激光沉积可以制备高温超导材料的薄膜，用于超导器件和能源应用。磁性材料：通过控制沉积过程中的气氛气体和基底材料，可以制备具有特殊磁性结构和性质的薄膜。纳米材料：脉冲激光沉积可以制备纳米尺度的材料，如纳米晶和纳米线，应用于电子、光学和能源等领域。结论脉冲激光沉积是一种重要的材料制备技术，具有广泛的应用前景。其基本原理和工作机制可以通过调节激光参数、气氛气体和基底材料来控制，实现对沉积薄膜结构和性质的调控。在光电子学、超导材料、磁性材料和纳米材料等领域具有重要的应用价值。脉冲激光沉积技术的进一步发展将为材料科学和工程领域带来更多的机遇和挑战。参考文献：OjhaV.,KrishnanS.Pulselaserdeposition(PLD):Thefutureofmaterialsscience-areview.MaterSciAppl.2012;3(7):408-431.KhanMK.,VenkateshwarluP.,SinghJ.,MehtaBR.Pulsed1as

人人文库> 全部分类> 行业资料 > 各类标准

温馨提示

  • 1. 本站所有资源如无特殊说明，都需要本地电脑安装OFFICE2007和PDF阅读器。图纸软件为CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.压缩文件请下载最新的WinRAR软件解压。
  • 2. 本站的文档不包含任何第三方提供的附件图纸等，如果需要附件，请联系上传者。文件的所有权益归上传用户所有。
  • 3. 本站RAR压缩包中若带图纸，网页内容里面会有图纸预览，若没有图纸预览就没有图纸。
  • 4. 未经权益所有人同意不得将文件中的内容挪作商业或盈利用途。
  • 5. 人人文库网仅提供信息存储空间，仅对用户上传内容的表现方式做保护处理，对用户上传分享的文档内容本身不做任何修改或编辑，并不能对任何下载内容负责。
  • 6. 下载文件中如有侵权或不适当内容，请与我们联系，我们立即纠正。
  • 7. 本站不保证下载资源的准确性、安全性和完整性, 同时也不承担用户因使用这些下载资源对自己和他人造成任何形式的伤害或损失。

最新文档

评论

0/150

提交评论