多弧离子镀 参数_第1页
多弧离子镀 参数_第2页
全文预览已结束

下载本文档

版权说明：本文档由用户提供并上传，收益归属内容提供方，若内容存在侵权，请进行举报或认领

文档简介

多弧离子镀参数多弧离子镀是一种表面处理技术，通过在真空条件下将金属离子沉积在基材表面，形成一层均匀致密的金属膜，以改善或增加基材的性能。多弧离子镀具有很高的沉积速率、较好的附着力和较高的质量，广泛应用于光学、电子、机械等行业。

多弧离子镀的一些重要参数包括离子源功率、离子源工作气体、离子源型号、离子源的角度、离子源与基材间的距离、用于照射靶材的离子能量、离子束轰击时间等。

离子源功率是指离子源提供的离子束的功率大小，一般以千瓦为单位。功率的大小将直接影响到沉积速率，功率越大，沉积速率越快。

离子源工作气体是指提供离子源离子束的气体类型，常用的气体有氮气、氩气、氦气等。气体的选择将影响到离子束的质量和特性。例如，使用氮气作为工作气体可使得沉积的金属薄膜更具致密性。

离子源型号是指离子源所使用的设备类型。不同的离子源型号将具有不同的特点和功能，根据具体的应用需求选择合适的型号十分重要。

离子源的角度是指离子源与基材表面的入射角度，入射角度的选择将影响到镀膜的均匀性和致密性。通常情况下，较小的入射角度可以提供较好的均匀性和致密性。

离子源与基材间的距离是指离子源离基材的距离。距离的选择将影响到离子束的能量，较大的距离可以提供较高的能量，从而增加镀膜的致密性。

用于照射靶材的离子能量是指离子束入射靶材表面时的能量大小，能量的选择将影响到离子束的穿透深度和附着力。较高的能量可提供较大的穿透深度，适用于需要更厚的镀层的情况。

离子束轰击时间是指离子束镀膜过程中照射靶材的时间，时间的选择将影响到沉积的膜层厚度。较长的轰击时间可得到更厚的膜层。

除了上述参数，真空度、镀膜温度、基材清洗等也是影响多弧离子镀效果的重要因素。实际应用中，通常需要根据具体的需求和工艺要求来调整这些参数，以获得最佳的镀膜效果。

综上所述，多弧离子镀的参数包括离子源功率、离子源工作气体、离子源型号、离子源的角度、离子源与基材间的距离、用于照射靶材的离子

人人文库> 全部分类> 生活休闲 > 网络生活

温馨提示

  • 1. 本站所有资源如无特殊说明，都需要本地电脑安装OFFICE2007和PDF阅读器。图纸软件为CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.压缩文件请下载最新的WinRAR软件解压。
  • 2. 本站的文档不包含任何第三方提供的附件图纸等，如果需要附件，请联系上传者。文件的所有权益归上传用户所有。
  • 3. 本站RAR压缩包中若带图纸，网页内容里面会有图纸预览，若没有图纸预览就没有图纸。
  • 4. 未经权益所有人同意不得将文件中的内容挪作商业或盈利用途。
  • 5. 人人文库网仅提供信息存储空间，仅对用户上传内容的表现方式做保护处理，对用户上传分享的文档内容本身不做任何修改或编辑，并不能对任何下载内容负责。
  • 6. 下载文件中如有侵权或不适当内容，请与我们联系，我们立即纠正。
  • 7. 本站不保证下载资源的准确性、安全性和完整性, 同时也不承担用户因使用这些下载资源对自己和他人造成任何形式的伤害或损失。

最新文档

评论

0/150

提交评论