中微公司研究报告半导体设备龙头内生外延迈向新征程

中微公司研究报告-半导体设备龙头内生外延迈向新征程一、半导体设备领军企业，业绩有望步入高增轨道（一）国内半导体设备龙头，加速平台型&全球化布局公司是技术领先的刻蚀及MOCVD设备国产厂商，正通过内生外延加速平台化布局。公司2004年成立时首先开发CCP刻蚀设备，目前设备在5nm及以下逻辑电路产线、64层及128层3DNAND生产线均得到成功应用；公司2012年着手开发ICP刻蚀设备，2021年6月公司ICP设备PrimoNanova第100台反应腔顺利交付。薄膜沉积设备方面，2010年公司开始开发MOCVD设备，目前已在全球氮化镓基LEDMOCVD市场中占据领先地位。未来公司将通过内生外延完善业务布局，逐步成为泛半导体设备平台型企业。公司设备主要包括刻蚀设备和MOCVD设备，在尹志尧博士、杜志游博士等管理团队和技术团队带领下，公司相关产品已具备全球市场竞争力：刻蚀设备：CCP刻蚀设备方面，公司产品已批量应用于国内外一线客户的集成电路加工制造生产线，并持续提升市场份额，在部分客户中的市场占有率已进入前三位，2020年在国内逻辑器件的两家头部厂商中市场份额达到39%，位居第二。ICP刻蚀设备方面，公司产品已有超过70个工艺在客户生产线上达到指标要求，且持续扩大应用验证范围，目前正持续研发以增强ICP刻蚀产品的整体竞争力。MOCVD设备：公司MOCVD设备在行业领先客户的生产线上大规模投入量产，已成为世界排名前列的氮化镓基LED设备厂商。2021年6月公司正式发布专为高性能MiniLED量产而设计的PrismoUniMaxMOCVD设备，目前订单已超过100腔。其他设备：公司子公司中微惠创开发制造了工业用大型VOC净化设备，且中微惠创已与德国DAS环境专家有限公司签订战略合作协议，双方将在半导体行业尾气处理设备领域展开紧密的合作。此外，公司已经组建团队开发LPCVD设备和EPI设备，同时将在适当时机通过内生外延等方式扩大产品和市场覆盖。公司产品已成功进入海内外半导体制造企业，是国内少数具有国际竞争优势的厂商。公司凭借在刻蚀设备及MOCVD设备领域的技术和服务优势，成功进入海内外半导体制造企业的采购体系，形成了较强的客户资源优势。刻蚀设备方面，公司产品已经进入台积电、联电、格罗方德、SK海力士、中芯国际、长江存储、华虹宏力、长鑫存储等知名企业。在MOCVD领域，公司也给三安光电、华灿光电、乾照光电、澳洋顺昌等国内外领先企业提供优质的解决方案。公司客户资源优质，竞争优势明显。（二）秉承全员激励原则，国际化团队引领长期发展以尹志尧博士为首的管理团队和技术团队保证公司竞争优势，新生代力量正在持续壮大。2004年尹志尧博士放弃美国百万年薪，带领15人小团队，回国创办中微公司，专注于半导体设备的研发。尹志尧博士曾任职于应用材料、英特尔、泛林半导体等设备厂商，是国际等离子体刻蚀技术发展和产业化的重要推动者之一。杜志游博士、倪图强博士等均在国际半导体设备产业耕耘数十年，为公司产品和技术发展做出了不可替代的贡献。公司也在持续培养新生代力量，目前员工已超过1000人，为中国大陆的半导体产业链发展培养起一批年轻的技术和管理人才。公司目前无实际控制人，上海市国资委和大基金分别持有公司15.64%、19.12%的股份。公司股权结构相对分散，无实际控制人。上海市国资委通过上海创投持有公司15.64%的股份，国家集成电路产业投资基金合计持有19.12%的股份（通过巽鑫投资持有15.15%股份，大基金二期通过参与定增持有3.97%的股份）。嘉兴智微、中微亚洲、Bootes和Grenade为员工持股平台，合计持有公司12.66%的股权，公司董事长尹志尧博士通过直接和间接方式共持股1.04%的股份。公司秉承扁平化的全员激励原则，激励计划充分调动员工积极性。公司秉承扁平化的全员激励原则，对不同层级员工均给予股权激励。2020年7月，公司以人民币150元/股的授予价格向激励对象首次授予670万股限制性股票及54.68万份股票增值权；2020年11月，公司以相同价格向激励对象授予103.99万股限制性股票。公司激励计划前后共授予894人（假设前后激励对象不重复），实现授予时员工全覆盖。公司股权激励计划主要针对中层管理人员、技术骨干、业务骨干等，覆盖范围广，有利于充分调动员工积极性。（三）下游需求持续旺盛，业绩有望步入高增轨道刻蚀设备需求持续旺盛叠加MOCVD设备拐点将至，公司业绩有望步入高增轨道。公司刻蚀设备需求持续旺盛，2021年前三季度刻蚀设备销售额13.52亿元，同比增长99.0%；

受LED市场下行影响，2019年起公司MOCVD设备销售额逐年下滑，2021年前三季度MOCVD设备销售额3.04亿元，同比下降24.3%。整体来看，2019-2020年公司营收增速在15%-20%，未来公司刻蚀设备需求有望持续旺盛，MiniLED技术驱动下公司MOCVD设备有望迎来拐点，公司整体业绩有望实现高增长。高毛利的刻蚀设备收入占比提升叠加高毛利的MiniLED设备放量，公司盈利能力有望提升。2018年以来公司刻蚀设备的毛利率水平保持在44%-50%，未来有望维持高位。公司2021年推出Mini-LED用MOCVD设备，产品性能、复杂性显著提升，毛利率明显增长，2021年前三季度公司MOCVD毛利率增加14pct至32.2%。整体来看，2019年以来高毛利的刻蚀设备收入占比提升叠加MOCVD设备毛利率增长，带动公司盈利有所提升，2021Q1-Q3毛利率同比+7.91pct至42.68%，归母净利率同比+7.38pct至26.14%。分产品看，近年来刻蚀设备的快速放量带动公司整体业绩快速增长，未来需求有望持续旺盛，Mini-LED技术创新下公司MOCVD设备有望迎来拐点：刻蚀设备：受益于半导体设备市场发展及产品竞争优势，公司刻蚀设备业务快速发展，2021年前三季度刻蚀设备销售额13.52亿元，同比增长99.0%，毛利率达到44.0%。行业高景气叠加国产替代，未来公司刻蚀设备有望持续高增长。MOCVD设备：伴随着LED市场周期下行，2019年起公司MOCVD设备销售额逐年下滑，毛利率短期承压。MiniLED需求兴起为公司带来新机遇，2021年公司发布Mini-L