第三章真空技术基础与等离子体

第3章(1)真空技术基础

Elementsofvacuumtechnology目前一页\总数一百三十三页\编于六点真空的定义真空：密闭容器内低于一个大气压的空间（1.01×105Pa）

绝对真空永远无法达到 气体状态方程： P=nkT

体积分子数：n=7.2×1022P/T 20C时，若P=1.33×10-4Pa 则n=3.2×1010个/cm3目前二页\总数一百三十三页\编于六点真空的表示：真空度——气体的压强(Pa)

蒸发镀：<10-3Pa；溅射镀：10-2～10Pa； 低压化学气相沉积：10-1～10Pa； 等离子体化学气相沉积：10～102Pa； 表面分析：超高真空目前三页\总数一百三十三页\编于六点平均自由程：气体分子之间相邻两次碰撞的平均距离

d为分子直径，P为气压，C为常数，T为温度平均自由程与气压（或气体分子密度）成反比目前四页\总数一百三十三页\编于六点真空在气相沉积中的作用： 防止氧化、污染；减少蒸发原子与残余气体分子的碰撞，抑制它们之间的反应；绝热保温 碰撞分子百分数： d:分子行进距离若自由程足够大：f≈d/l

真空的作用目前五页\总数一百三十三页\编于六点真空的获得产生真空的过程——抽气；工具——真空泵单位时间抽出的气体体积——抽气速率真空泵工作足够时间后所达到的最低气压 ——极限真空不同类型的真空泵有特定的工作范围，通常需要两级联合才能达到高真空以上。从大气开始的叫“前级泵”，从低气压开始工作的叫“次级泵”。目前六页\总数一百三十三页\编于六点旋片式机械真空泵（机械泵）目前七页\总数一百三十三页\编于六点旋片式机械真空泵（机械泵）极限真空由于结构限制无法提高，并取决于加工和装配精度实际抽气速率随进气口气压降低而下降，极限真空时为零可以做成两级形式目前八页\总数一百三十三页\编于六点油扩散泵（扩散泵）不能与大气相连，需与前级（机械泵）联合，预抽1Pa左右抽气速率几l/s

至几万l/s

油的蒸汽压应当在常温下低于10-4Pa

，而在工作时尽可能高，高热稳定性和化学稳定性可能有回油污染目前九页\总数一百三十三页\编于六点涡轮分子泵（分子泵）纯机械运动，高速转子叶片对气体加压抽气速率1000l/s无回油污染问题目前十页\总数一百三十三页\编于六点低温吸附泵（低温泵）通过20K以下低温凝聚气体分子需前级泵具有最高极限真空度无回油污染问题工作后需再生处理目前十一页\总数一百三十三页\编于六点几种常用真空泵的工作气压范围目前十二页\总数一百三十三页\编于六点真空的测量测量真空的工具——真空计和真空规管直接法：绝对真空计，准确但不适合高真空间接法：相绝对真空计，测量与压强有关的物理量，与绝对真空计比较后获得。准确度略差，和所测气体种类有关目前十三页\总数一百三十三页\编于六点热偶真空计利用气体导热率随真空度变化测量范围0.1～100Pa简单、使用方便测量精度不很高热丝热偶目前十四页\总数一百三十三页\编于六点电离真空计利用气体电离时，离子电流与气压关系进行测量范围0.1～10-5Pa常与热偶计结合使用目前十五页\总数一百三十三页\编于六点目前十六页\总数一百三十三页\编于六点真空室内清洗加热 脱吸附离子轰击 溅射目前十七页\总数一百三十三页\编于六点气体放电与等离子体第3章(2)目前十八页\总数一百三十三页\编于六点等离子体表面工程日常见到的等离子体有哪些如何获得等离子体什么是等离子体气体分子电离，带电粒子密度达到一定数值的电离气体闪电和极光，太阳，日光灯，电弧什么是等离子体日常见到的等离子体有哪些气体分子电离，带电粒子密度达到一定数值的电离气体目前十九页\总数一百三十三页\编于六点获得等离子体的主要方法和途径目前二十页\总数一百三十三页\编于六点直流辉光放电的伏安特性曲线目前二十一页\总数一百三十三页\编于六点辉光放电的结构和电学特性目前二十二页\总数一百三十三页\编于六点气体放电的巴邢曲线

（Paschen）目前二十三页\总数一百三十三页\编于六点气体分子数与离化几率的关系目前二十四页\总数一百三十三页\编于六点日常见到的等离子体有哪些什么是等离子体等离子体表面工程如何获得等离子体等离子体的性质和特点气体分子电离，带电粒子密度达到一定数值的电离气体闪电和极光，太阳，日光灯，电弧辉光放电、各种能量场目前二十五页\总数一百三十三页\编于六点等离子体的特点目前二十六页\总数一百三十三页\编于六点分子无规则运动和等离子体中

离子的定向运动目前二十七页\总数一百三十三页\编于六点物质的能量范围目前二十八页\总数一百三十三页\编于六点电子温度和离子温度电子在离子静电势场中的平均势能单个粒子平均动能多种粒子同时存在，不可能用一个统一的温度来描述。同类粒子碰撞能量交换最有效，各粒子自身先平衡。电子温度Te，离子温度Ti，中性粒子温度Tg，等离子体温度取决于重粒子温度。温度单位：电子伏特eV，TeV＝kT，1eV相当于T=11600K目前二十九页\总数一百三十三页\编于六点电子温度和离子温度Te=Ti：热平衡等离子体，简称为热等离子体（Thermalplasma)Te>>Ti：非平衡等离子体（Nonthermalplasma)。电子温度104K以上，重粒子温度可低至300~500K，也称为低温等离子体（Coldplasma)辉光放电时Te＝10eV105K，但Ti只有数百K，带电粒子密度只有109~1013cm-3，宏观温度可以很低。目前三十页\总数一百三十三页\编于六点等离子体温度和气压的关系目前三十一页\总数一百三十三页\编于六点等离子体类型与P/E的依赖关系p—气压E—电场强度目前三十二页\总数一百三十三页\编于六点各种等离子体的电子密度、电子温度和气体温度目前三十三页\总数一百三十三页\编于六点非平衡等离子体与平衡等离子体的比较类别非平衡等离子体平衡等离子体粒子温度Te(约104K)>>Ti(约103K)>Tg(约103K)整体温度低TeTiTg104K整体温度高等离子体密度约1012cm-3>1014/cm-3放电气体压力<13300Pa0.1MPa气相沉积温度较低较高典型放电形式辉光放电弧光放电目前三十四页\总数一百三十三页\编于六点等离子体的空间条件德拜长度：等离子体的空间条件为：L>>lDr>lD的尺度看等离子体才是电中性的目前三十五页\总数一百三十三页\编于六点等离子体的时间条件振荡频率：等离子体的时间条件为：t>>tp，或twp>>1t>tp时的等离子体才是电中性的等离子体电中性受到破坏时具有恢复宏观电中性的趋势，其过程产生空间电荷振荡，即等离子体振荡。振荡周期：目前三十六页\总数一百三十三页\编于六点等离子体判据德拜球内粒子数：等离子体判据： L>>lD

twp>>1

ND

>>1目前三十七页\总数一百三十三页\编于六点日常见到的等离子体有哪些什么是等离子体等离子体表面工程如何获得等离子体表面工程中如何利用等离子体等离子体的性质和特点气体分子电离，带电粒子密度达到一定数值的电离气体闪电和极光，太阳，日光灯，电弧目前三十八页\总数一百三十三页\编于六点等离子体的应用第3章(3)目前三十九页\总数一百三十三页\编于六点目前四十页\总数一百三十三页\编于六点离子渗目前四十一页\总数一百三十三页\编于六点目前四十二页\总数一百三十三页\编于六点等离子渗氮的化学反应载能电子产生电离和中性氮原子 e-→N2=N++N+2e-氮离子溅射 N+→工件表面＝被溅射的铁和污染物被溅射的铁原子与氮原子形成氮化铁 Fe+N=FeNFeN在工件表面的沉积和分解 FeN→Fe2N+N Fe2N→Fe3N+N Fe3N→Fe4N+N Fe4N→Fe+N目前四十三页\总数一百三十三页\编于六点目前四十四页\总数一百三十三页\编于六点目前四十五页\总数一百三十三页\编于六点目前四十六页\总数一百三十三页\编于六点目前四十七页\总数一百三十三页\编于六点目前四十八页\总数一百三十三页\编于六点目前四十九页\总数一百三十三页\编于六点目前五十页\总数一百三十三页\编于六点目前五十一页\总数一百三十三页\编于六点离子注入非平衡过程，高固溶度低热过程无变形，不改变精度无界面能量和剂量可控性好高真空，无污染对材料无限制直射性处理深度浅注入元素离子化需专门设备设备价格贵，加工成本高目前五十二页\总数一百三十三页\编于六点离子束注入系统的两种主要类型目前五十三页\总数一百三十三页\编于六点离子引出系统示意图目前五十四页\总数一百三十三页\编于六点目前五十五页\总数一百三十三页\编于六点带质量分析的离子注入机目前五十六页\总数一百三十三页\编于六点离子束与离子源离子注入的比较目前五十七页\总数一百三十三页\编于六点目前五十八页\总数一百三十三页\编于六点目前五十九页\总数一百三十三页\编于六点目前六十页\总数一百三十三页\编于六点离子在固体中形成的位移峰目前六十一页\总数一百三十三页\编于六点目前六十二页\总数一百三十三页\编于六点目前六十三页\总数一百三十三页\编于六点目前六十四页\总数一百三十三页\编于六点目前六十五页\总数一百三十三页\编于六点注入剂量低时，浓度分布满足高斯分布注入剂量高时，峰值向表面移动能量损失目前六十六页\总数一百三十三页\编于六点目前六十七页\总数一百三十三页\编于六点目前六十八页\总数一百三十三页\编于六点目前六十九页\总数一百三十三页\编于六点目前七十页\总数一百三十三页\编于六点目前七十一页\总数一百三十三页\编于六点目前七十二页\总数一百三十三页\编于六点蒸发镀膜（蒸镀）目前七十三页\总数一百三十三页\编于六点目前七十四页\总数一百三十三页\编于六点目前七十五页\总数一百三十三页\编于六点目前七十六页\总数一百三十三页\编于六点目前七十七页\总数一百三十三页\编于六点目前七十八页\总数一百三十三页\编于六点目前七十九页\总数一百三十三页\编于六点溅射沉积目前八十页\总数一百三十三页\编于六点金属原子Ar离子电子Ar离子轰击负电位的金属表面目前八十一页\总数一百三十三页\编于六点影响溅射率S的主要因素入射离子种类：大质量、稀有气体S高入射离子能量：阈值、注入入射离子角度：40－50o靶材种类：周期变化，d层充满，溅射率大工作气压：气压低，S不变，气压高，S随之减小表面温度：一定温度内不变，温度过高，急剧增大目前八十二页\总数一百三十三页\编于六点目前八十三页\总数一百三十三页\编于六点目前八十四页\总数一百三十三页\编于六点氩离子对不同元素的溅射产额目前八十五页\总数一百三十三页\编于六点目前八十六页\总数一百三十三页\编于六点目前八十七页\总数一百三十三页\编于六点目前八十八页\总数一百三十三页\编于六点目前八十九页\总数一百三十三页\编于六点目前九十页\总数一百三十三页\编于六点磁控溅射目前九十一页\总数一百三十三页\编于六点等离子体磁道靶冷却水磁体磁控溅射靶目前九十二页\总数一百三十三页\编于六点目前九十三页\总数一百三十三页\编于六点目前九十四页\总数一百三十三页\编于六点平衡和非平衡磁控溅射的比较非平衡技术提高轰击工件的离子电流目前九十五页\总数一百三十三页\编于六点

Mag4

Ti

Mag1

Mag2Ti

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Titarget

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1fold

3fold

目前九十六页\总数一百三十三页\编于六点目前九十七页\总数一百三十三页\编于六点柱状晶致密等轴晶

目前九十八页\总数一百三十三页\编于六点离子镀目前九十九页\总数一百三十三页\编于六点目前一百页\总数一百三十三页\编于六点离子镀：镀膜的同时用载能离子轰击基体和镀层表面的技术

在蒸发或溅射沉积基础上而不是独立的沉积方式目前一百零一页\总数一百三十三页\编于六点目前一百零二页\总数一百三十三页\编于六点目前一百零三页\总数一百三十三页\编于六点目前一百零四页\总数一百三十三页\编于六点目前一百零五页\总数一百三十三页\编于六点阴极电弧等离子体沉积靶材料在真空电弧作用下蒸发。电弧点仅数微米，时间仅几纳秒，温度极高，材料几乎百分之百离化。离子垂直向外发射，微颗粒以一定角度射出。一些离子被阴极吸引，打回到阴极，使电弧持续进行。电弧电压为15－50V，电流可达到数百。目前一百零六页\总数一百三十三页\编于六点目前一百零七页\总数一百三十三页\编于六点金属表面产生电弧时，金属在电弧的高温中气化，喷出金属蒸汽。此蒸汽中金属分子在等离子体中离化成金属离子。同时还产生一定量不同大小的液滴。目前一百零八页\总数一百三十三页\编于六点目前一百零九页\总数一百三十三页\编于六点目前一百一十页\总数一百三十三页\编于六点液滴形态及不同的粒子角分布离子垂直向外发射，微颗粒以一定角度射出目前一百一十一页\总数一百三十三页\编于六点用屏蔽法减少颗粒百叶窗式遮板

工件前简单挡板目前一百一十二页\总数一百三十三页\编于六点在输出通道中进行重力和磁过滤S型和弯曲型过滤器

目前一百一十三页\总数一百三十三页\编于六点目前一百一十四页\总数一百三十三页\编于六点弧镀的局限性金属颗粒的减少和离化率、容积矛盾。需要用合金靶，不同元素有不同溅射率，不同部位溅射材料量不同。溅射清洗和薄膜沉积过程难以控制。目前一百一十五页\总数一百三十三页\编于六点目前一百一十六页\总数一百三十三页\编于六点目前一百一十七页\总数一百三十三页