• 被代替
  • 已被新标准代替
  • 2014-10-14 颁布
  • 2015-04-01 实施
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YS/T 987-2014氯硅烷中碳杂质的测定方法甲基二氯氢硅的测定_第1页
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文档简介

ICS7704030

H17..

中华人民共和国有色金属行业标准

YS/T987—2014

氯硅烷中碳杂质的测定方法

甲基二氯氢硅的测定

Testmethodformeasuringcarboncontainingcompoundinchlorosilane—

Determinationofmethyldichlorosilane

2014-10-14发布2015-04-01实施

中华人民共和国工业和信息化部发布

YS/T987—2014

前言

本标准按照给出的规则起草

GB/T1.1—2009。

本标准由全国有色金属标准化技术委员会归口

(SAC/TC243)。

本标准负责起草单位四川新光硅业科技有限责任公司

:。

本标准参加起草单位乐山乐电天威硅业科技有限责任公司东方电气集团峨嵋半导体材料有限公

:、

司陕西天宏硅材料有限责任公司洛阳中硅高科技有限公司南京中锗科技股份有限公司新特能源股

、、、、

份有限公司

。

本标准主要起草人敖细平王波黄代文梁洪刘畅姚淑荆凡杨艳芬银波黄彬

:、、、、、、、、、。

Ⅰ

YS/T987—2014

氯硅烷中碳杂质的测定方法

甲基二氯氢硅的测定

1范围

本标准规定了氯硅烷中碳杂质的测定方法主要包括三氯氢硅中甲基二氯氢硅的测定和四氯化硅

,

中甲基二氯氢硅的测定

。

本标准适用于三氯氢硅中甲基二氯氢硅的测定和四氯化硅中甲基二氯氢硅的测定三氯氢硅四

。、

氯化硅中甲基二氯氢硅的检测范围均为

0.00001%~1.00%。

2规范性引用文件

下列文件对于本文件的应用是必不可少的凡是注日期的引用文件仅注日期的版本适用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于本文件

。,()。

高纯氦

GB/T4844.3

3方法原理

本标准采用二氯乙烷作为内标物利用气相色谱质谱仪测定三氯氢硅和四氯化硅

1,2-,-(GC-MS)

中甲基二氯氢硅的含量气相色谱质谱仪通过极性毛细管色谱柱将三氯氢硅或四氯化硅的主体和碳

。-

杂质分开确定其保留时间利用吹扫装置将气相色谱分离后的三氯氢硅或四氯化硅主体排出将碳杂

,。,

质导入质谱仪进行分析用气相色谱质谱仪的定性模式对样品三氯氢硅和四氯化硅中碳杂质进行全

。-

扫描分析仅发现有甲基二氯氢硅离子峰的存在因此本标准主要对三氯氢硅或四氯化硅中的甲基二氯

,,

氢硅进行分析

。

4试剂和材料

除非另有说明分析时均使用符合国家标准的试剂或材料

,。

41高纯氦气应符合的规定

.,GB/T4844.3。

42甲基二氯氢硅色谱纯

.,。

43二氯乙烷色谱纯

.1,2-,。

44正辛烷色谱纯

.,。

45三氯氢硅光谱纯

.,。

46四氯化硅光谱纯

.,。

5仪器与设备

51气相色谱质谱仪

.-

在仪器最佳工作条件下凡是能达到下列指标者均可使用

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