标准解读

《GB/T 8760-2006 砷化镓单晶位错密度的测量方法》相较于1988年的版本进行了多方面的更新和完善。在2006年版的标准中，对于术语定义部分做了更加明确和详细的描述，确保了术语的一致性和准确性。此外，新标准还增加了对实验环境的要求，比如温度、湿度等条件的具体规定，以减少外部因素对测试结果的影响。

在样品准备方面，《GB/T 8760-2006》提供了更为详尽的操作指南，包括切割、抛光以及清洗等步骤的技术要求，这有助于提高不同实验室之间数据的一致性。同时，对于位错蚀坑腐蚀液的选择与配比也给出了更具体的建议，并且新增了一些可选的化学试剂，为研究人员提供了更多灵活性。

关于检测过程，《GB/T 8760-2006》引入了先进的显微镜技术用于观察砷化镓单晶表面形成的蚀坑，提高了位错密度测定的精确度。该版本还特别强调了图像处理软件的应用，在自动计数位错数量时能够有效减少人为误差，使得数据分析更加客观可靠。


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  • 被代替
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  • 2006-07-18 颁布
  • 2006-11-01 实施
©正版授权
GB/T 8760-2006砷化镓单晶位错密度的测量方法_第1页
GB/T 8760-2006砷化镓单晶位错密度的测量方法_第2页
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文档简介

ICS77.040.01H17中华人民共和国国家标准GB/T8760—2006代替GB/T8760—1988砷化家单晶位错密度的测量方法Galliumarsenidesinglecrystal-Determinationofdislocationdensity2006-07-18发布2006-11-01实施中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局发布中国国家标准化管理委员会

GB/T8760—2006本标准是对GB/T8760-1988《砷化镶单品位错密度的测量方法》的修订本标准自实施之日起代替GB/T8760—1988。本标准与原标准相比主要有以下变动：-修改了原来表述位错密度的术语解释；-重新制作了部分图片·改善图片质量;原标准规定.腐蚀位错坑时.熔化的氢氧化钾的温度要保持在400℃。实验证明.只要熔化的氢氧化钾呈现没清状态,选择适当的腐蚀时间.都能得到清晰的腐蚀坑，故取消了要求熔化的氢氧化钾温度保持在400℃的严格限制。本标准由中国有色金属工业协会提出。本标准由全国有色金属标准化技术委员会归口。本标准起草单位：北京有色金属研究总院本标准主要起草人：王彤涵。本标准由全国有色金属标准化技术委员会负责解释本标准所代替标准的历次版本发布情况为：GB/T8760-1988。

GB/T8760—2006砷化家单晶位错密度的测量方法范范围本标准适用于位错密度为(0～100000)个/cm²的砷化镖单品的位错密度的测量。检测面为（111)面和（100}面。2术语和定义下列术语和定义适用于本标准：位错dislocation单品体中部分原子受应力作用产生滑移。已滑移部分与未滑移部分的分界线称为位错线，简称位错22位错密度dislocationdensity单位体积内位错线的总长度称为位错密度（cm/cm)。在实际应用中.通常以单位表面积内形成位借腐蚀坑的个数(个/cm)代表位错蜜度。本标准中位错密度指单位表面积内形成位错腐蚀坑的个数。3原理采用择优化学腐蚀技术显示位错。品体中位错线周围的品格发生畸变，当用某些化学腐蚀剂腐蚀晶体表面时,在晶体表面上的位错线露头处，腐蚀速度较快,因而容易形成由某些低指数面组成带棱角的具有特定形状的腐蚀坑。在显微镜下观察并按一定规则统计这些具有特定形状的腐蚀坑，可得到位错密度数值。化化学试剂4硫酸(ol.84g/mL）,浓度95%～98%，优级纯A2过氧化氢(ol.00g/mL)浓度30%.优级纯4.3氢氧化钾(o78.2g/L）,浓度78.2%，优级纯R试样制备5.1定向切割从单品键的待测部分经定向后.切取厚度大于0.5mm的单品片.品向偏离要求小于85.2研磨用302*金刚砂(或相当颗粒度的金刚砂)水浆研磨,使表面平整。用水清洗干净后,再用306"金刚砂(或相当颗粒度的金刚砂)水浆研磨，使表面光洁无划痕，然后用水清洗干净。5.3化学抛光将硫酸(H.SO,）、过氧化氢(H.O.）和去离子水(H.O)按体积比3：1：1配制成抛光液·然后

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