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文档简介

直流溅射法制备金属薄膜实验目的直接接触和认识薄膜材料学会直流溅射法镀膜的原理和方法学会制备干涉法测量膜厚的薄膜样品的方法实验仪器玻璃衬底氩气超声波清洗器机械泵SBC-12小型直流溅射仪(配有金靶,可以在较低的真空度下进行直流溅射)2、制备用干涉法测量金属薄膜厚度的样品

待测膜厚的薄膜样品要制成台阶状,台阶高度为待测膜厚d.薄膜样品其上表面应该具有很好的反光性,目的是为了观察到清晰的干涉条纹.

实验步骤1、直流溅射制备金属薄膜(1)调节金靶到工作台的距离(40~45mm).(2)清洗玻璃衬底.(3)抽真空.当真空度小于2Pa时,打开“针阀”向镀膜室充入氩气使其真空度达到3~4Pa.(4)设定好薄膜的制备时间.(5)先后按“试验”、“启动”,金属薄膜沉积开始.随时通过对“针阀”的调节,使镀膜室的真空度稳定.(6)当“定时器”所设定的沉积时间达到后,溅射自动停止,完成了一次,溅射沉积.如需多次,重复(5)所述内容.(7)关闭“针阀”,关上“总电源开关”,提起“放气阀”,给镀膜室放入空气.打开上盖,取出薄膜样品.2、干涉法测量膜厚样品的制备(1)先在玻璃衬底上制备4min的金属膜.(2)将玻璃衬底的一半用玻璃片覆盖,另一半裸露,用胶带把覆盖玻璃片固定在工作台上.(3)再次沉积金属膜,沉积时间为15min.(4)去掉覆盖玻璃片就获得了待测膜厚的金属薄膜样品数据处理溅射距离4cm,直流电压V=1000v,K=0.17(氩气,金),K=0.37(氩气银),K=0.07(空气,金)薄膜计算经验公式:

所以,沉积速率误差分析1、仪器本身存在误差,使得对镀膜室抽真空时,其真空度不能达到2Pa以下,这样对氩气压强和溅射电流有影响,从而使计算结果出现误差.2、在镀膜过程中,相邻两次溅射时间少于30s,使沉积时间实际上不是所要求的时间,从而影响计算结果,导致误差.结论1、通过对实验现象的分析,在制备金属膜时,相邻两次溅射时间间隔不能少于30s.否则制出的膜不能使用.2、通过对实验结果的分析,可知在镀膜时,提高薄膜沉积速率的方法:一是增大溅射电流,但不应超过12mA,以免烧坏设备;二是增大溅射电流,但也不宜过大,因为金靶和工作台之间的距离应保持在40~45mm,因此,阴极电压降

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