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文档简介
纳米加工平台工艺申请表(20108月版)批号:申请人付费人申请日期
课题编号
样品材料
申请人邮箱付费人邮箱
样品尺寸
申请人签字付费人签字试验目的及说明 样品数量与编号序号工艺名称 工艺要求及说明
日期 工艺记录和检测结果
工艺员 计价和确认 备注清洗样品数量:2片;需清洗材料:氮化铝,尺寸:4英寸;预去除污染物:清洗液:设备类型:废液处理方式:本步工艺程序确认:合格(签字:不合格(签字工艺负责人确认:使用设备:八槽清洗机/超声清洗机/手动容器废液处理方法:工艺申请人确认:检测结果:加工数量:3片;匀胶 衬底:材料:硅片,尺寸:4英寸、6英寸;
匀胶机类型:开始时间:
本步工艺计价:¥KS-L150ST22+KW-4A
光刻胶类型:AZ1500;厚度:1.2±0.4微米HDMS预处理:需要;使用匀胶机类型:SSE、国产小匀胶机、Track
完成时间:衬底尺寸:匀胶次数:
工艺负责人确认:工艺申请人确认:检测结果:光刻MA6/BA6URE-2000/35NSR1755i7B
加工数量:3片;衬底材料/尺寸/厚度:硅片/4/525光刻胶类型/厚度:AZ1500/1-1.6;光刻最小线宽:2微米;套刻要求:正反面对准,对准精度:±5使用光刻机类型:SussMA6/BA6,国产光刻机加工数量:3片;衬底材料/尺寸/厚度:硅片/4/525光刻胶类型/厚度:EPL/1-1.6;光刻最小线宽:2微米;
开始时间:完成时间:本工艺总用时:检测结果:电子束光刻套刻精度:±1微米;电子束光刻套刻精度:±1微米;加工数量:1片;衬底材料/尺寸/厚度:硅片/4/525光刻胶类型/厚度:AZ1500/1-1.6;开始时间:完成时间:本工艺总用时:本步工艺计价:¥工艺负责人确认:JBX-5500ZA光刻最小线宽:30nm;套刻要求:套刻误差小于40nm;检测结果:工艺申请人确认:拼接要求:误差小于40nm
本步工艺计价:¥工艺负责人确认:工艺申请人确认:本步工艺计价:¥工艺负责人确认:工艺申请人确认:显影机类型:本步工艺计价:显影加工数量:3片;衬底:材料:硅片,尺寸:4英寸;开始时间:完成时间:¥工艺负责人确认:OPTIspinST22显影液类型:标配TMAH;使用显影机类型:SSE,Track本工艺总用时:检测结果:工艺申请人确认:干法去胶M4L
加工数量:3片;批次:1批材料:硅片,尺寸:4需去除光刻胶类型:AZ1500需去除胶厚:50nm;
去胶功率:300W开始时间:去胶功率:300W开始时间:本步工艺计价:喷胶加工数量:3片;衬底材料:硅片,尺寸:4英寸;完成时间:本工艺总用时:¥工艺负责人确认:ST20i光刻胶类型:AZ4620; 目标胶厚:30微图形深宽比:1:2检测结果:工艺申请人确认:键合对数: 单次键合用本步工艺计价:晶片键合加工数量:3对;材料:硅片和玻璃尺寸:4英寸;时:开始时间:¥工艺负责人确认:CB6L键合类型:阳极键合;是否需要套刻:是 (套刻精度:5微米)完成时间:检测结果:工艺申请人确认:磁控溅射加工数量:3片;批次:1批溅射批数:本步工艺计价:LAB18衬底材料:硅片,尺寸:2英寸开始时间:¥
本步工艺计价:¥工艺负责人确认:工艺申请人确认:膜层材料/厚度:Ti/Al/Ti/Au, 厚度均匀性要求:±5%衬底加热温度:200℃工艺气体:Ar或N2加工数量:3片;批次:1批衬底材料:硅片,尺寸:6英寸电子束蒸发 膜层材料和厚度:
完成时间:本工艺总用时:溅射各层材料/厚度:检测结果:使用蒸发台: 蒸镀数:开始时间:完成时间:
工艺负责人确认:工艺申请人确认:本步工艺计价:¥工艺负责人确认:ei-5zEBE-09热蒸发EVA-09-2
Ti/Al/Ti/Au, 50nm/200nm/50nm/100nm厚度均匀性要求:±5%衬底温度:200℃蒸发台类型:ei-5z,EBE-09加工数量:1片;批次:1批衬底材料:硅片,尺寸:2英寸膜层材料和厚度:AG/Au, 厚度均匀性要求:±5%
本工艺总用时:蒸镀各层材料/厚度:检测结果:蒸镀次数:开始时间:完成时间:本工艺总用时:蒸镀材料/厚度:
工艺申请人确认:本步工艺计价:¥衬底温度:检测结果:衬底温度:检测结果:PECVD加工数量:3批次:3衬底材料:硅片,尺寸:6膜层材料和用途:SiO2、绝缘层开始时间:完成时间:本工艺总用时:本步工艺计价:¥工艺负责人确认:OXFORD100厚度:1000nm折射率:1.46厚度均匀性要求:±5%检测结果:工艺申请人确认:衬底温度:300℃加工数量:3加工数量:3:1蒸镀次数:本步工艺计价:¥光学薄膜蒸发膜层材料和厚度:SiO2/ITO,厚度均匀性要求:±2%衬底温度:200℃50nm/200nm本工艺总用时:蒸镀各层材料/厚度:检测结果:工艺负责人确认:工艺申请人确认开始时间:本步工艺计价:氧化加工数量:201衬底材料尺寸:6完成时间:本工艺总用时:¥工艺负责人确认:HDC8000A氧化类型:干氧、湿氧、干湿氧厚度:1000nm厚度均匀性要求:±3%检测结果:工艺申请人确认:开始时间:本步工艺计价:完成时间:¥检测结果:开始时间:检测结果:开始时间:工艺申请人确认:本步工艺计价:加工数量:3片;批次:1批完成时间:¥衬底材料/尺寸:GaN片/2英寸本工艺总用时:工艺负责人确认:退火温度/时间:600℃/120min退火气氛:N2、压缩空气、氢气检测结果:工艺申请人确认:
加工数量:3片;批次:1批衬底材料/尺寸:GaN片/2英寸退火温度和时间:600℃,15sec
本工艺总用时:
工艺负责人确认:管式退火炉L4508-07-1L4508-07-2IBE刻蚀IBE-A-150RIETegal903eIII/VICPICP180深硅刻蚀STSMPXHRM
加工数量:3片;批次:1批需刻蚀材料:硅片,尺寸:2英寸或碎片;掩膜材料:光刻胶,Ti等刻蚀深度:2微米;粘片:需要加工数量:3片;批次:3批4掩膜材料:光刻胶刻蚀尺寸:深度:2线宽:2粘片:需要加工数量:3片;批次:1批需刻蚀材料/尺寸:GaN/2掩膜材料:SiO2刻蚀尺寸:深度:2线宽:2粘片:需要加工数量:3片;批次:3批材料:Si/SOI,尺寸:6掩膜材料:SiO2、光刻胶刻蚀尺寸:深度:10线宽:2侧壁陡直度/粗糙度:89+/-1/100nm
检测结果:检测结果:检测结果:检测结果:
本步工艺计价:¥工艺负责人确认:工艺申请人确认:本步工艺计价:¥工艺负责人确认:工艺申请人确认:本步工艺计价:¥工艺负责人确认:工艺申请人确认:本步工艺计价:¥工艺负责人确认:工艺申请人确认:解理TitanOSM-80TP-YLoomisLSD100
加工数量:3片;需解理材料/尺寸:蓝宝石/2英寸管芯形状:长方形;管芯大小:280×320um2;切深要求:24微米;使用划片机类型OSM-80TP-YLSD100
开始时间:完成时间:解理刀数:检测结果:
本步工艺计价:¥工艺负责人确认:工艺申请人确认:开始时间:本步工艺计价:压焊点数:30点;完成时间:¥压焊焊盘:材料:金,尺寸:80×80微米;本工艺总用时:工艺负责人确认:747677E焊线:材料:金,线径:25微米;压焊工艺类型:球焊,楔焊;检测结果:工艺申请人确认:开始时间:本步工艺计价:加工数量:3片;完成时间:¥裂片需裂片材料/尺寸/片厚:GaN/2英寸/80微米;本工艺总用时:工艺负责人确认:OBM-90TP管芯形状:长方形;管芯尺寸:300×300微米;检测结果:工艺申请人确认:倒装焊FC150加工数量:3片;基底:材料:Si,尺寸:10×10芯片:材料:Si,尺寸:10×10焊料:金锡温度/时间:200℃/30min开始时间:完成时间:本工艺总用时:检测结果:本步工艺计价:¥工艺负责人确认:工艺申请人确认:工艺气体:甲酸、N2焊接工艺类型:热压焊,回流焊;SRO702CMPHRG-150CMPAL-380FCMPAP-380F
加工数量:3片;批次:1批基底:材料:Si,尺寸:10×10毫米;基底焊盘材料:金,尺寸:50×50微米芯片:材料:Si,尺寸:10×10毫米;芯片焊盘材料:金,尺寸:50×50微米焊料:金锡 温度/时间:200℃/30min真空度:5mTorr加工数量:3片;批次:3批需减薄材料/尺寸/厚度:Si/4/400减薄后厚度:100加工数量:3片;批次:2批需研磨材料/尺寸/厚度:Si/4/100研磨后厚度:90加工数量:3片;批次:2批需抛光材料/尺寸/厚度:Si/4/90抛光后厚度:80
开始时间:完成时间:本工艺总用时:检测结果:检测结果:检测结果:检测结果:
本步工艺计价:¥工艺负责人确认:工艺申请人确认:本步工艺计价:¥工艺负责人确认:工艺申请人确认:本步工艺计价:¥工艺负责人确认:工艺申请人确认:本步工艺计价:¥工艺负责人确认:工艺申请人确认:HL-071004Lift-offWetSBSEMJSM-6390喷金仪JFC-1600
加工数量:3片;批次:1批需清洗材料/尺寸/厚度:Si/4/525使用清洗液:12加工数量:3片;批次:3批需剥离衬底材料/尺寸/厚度:Si/4/525光刻胶类型:AZ4620;图形线宽/厚度:100nm/200nm加工数量:3片;材料:碳纳米线,尺寸:50nm;是否喷金:是扫描模式:二次电子像/背散射加工数量:3片;批次:1批衬底材料:硅片,尺寸:10×10毫米;喷Pt厚度:10nm
检测结果:检测结果:喷金次数:喷金检测结果:
本步工艺计价:¥工艺负责人确认:工艺申请人确认:本步工艺计价:¥工艺负责人确认:工艺申请人确认:本步工艺计价:¥工艺负责人确认:工艺申请人确认:本步工艺计价:¥工艺负责人确认:工艺申请人确认:加工平台批准人签字加工平台批准人签字最终服务质量评价(请签名)非常满 基本满
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