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文档简介

1、关于核磁共振与化学位移第一张,PPT共十八页,创作于2022年6月2022/8/4一、核磁共振与化学位移 nuclear magnetic resonance and chemical shift1.屏蔽作用与化学位移 理想化的、裸露的氢核;满足共振条件: 0 = H0 / (2 ) 产生单一的吸收峰; 实际上,氢核受周围不断运动着的电子影响。在外磁场作用下,运动着的电子产生相对于外磁场方向的感应磁场,起到屏蔽作用,使氢核实际受到的外磁场作用减小: H=(1- )H0 :屏蔽常数。 越大,屏蔽效应越大。 0 = / (2 ) (1- )H0 屏蔽的存在,共振需更强的外磁场(相对于裸露的氢核)。

2、第二张,PPT共十八页,创作于2022年6月2022/8/4 化学位移: chemical shift 0 = / (2 ) (1- )H0 由于屏蔽作用的存在,氢核产生共振需要更大的外磁场强度(相对于裸露的氢核),来抵消屏蔽影响。 在有机化合物中,各种氢核 周围的电子云密度不同(结构中不同位置)共振频率有差异,即引起共振吸收峰的位移,这种现象称为化学位移。第三张,PPT共十八页,创作于2022年6月2022/8/42. 化学位移的表示方法(1)位移的标准没有完全裸露的氢核,没有绝对的标准。相对标准:四甲基硅烷Si(CH3)4 (TMS)(内标) 位移常数 TMS=0(2) 为什么用TMS作为

3、基准? a. 12个氢处于完全相同的化学环境,只产生一个尖峰; b.屏蔽强烈,位移最大。与有机化合物中的质子峰不重迭; c.化学惰性;易溶于有机溶剂;沸点低,易回收。第四张,PPT共十八页,创作于2022年6月2022/8/4位移的表示方法 与裸露的氢核相比,TMS的化学位移最大,但规定 TMS=0,其他种类氢核的位移为负值,负号不加。 = ( 样 - TMS) / TMS 106 (ppm) 小,屏蔽强,共振需要的磁场强度大,在高场出现,图右侧; 大,屏蔽弱,共振需要的磁场强度小,在低场出现,图左侧;第五张,PPT共十八页,创作于2022年6月2022/8/4二、影响化学位移的因素 fact

4、ors influenced chemical shift1电负性-去屏蔽效应 与质子相连元素的电负性越强,吸电子作用越强,价电子偏离质子,屏蔽作用减弱,信号峰在低场出现。-CH3 , =1.62.0,高场;-CH2I, =3.0 3.5,-O-H, -C-H, 大 小低场 高场第六张,PPT共十八页,创作于2022年6月2022/8/4电负性对化学位移的影响碳杂化轨道电负性:SPSP2SP3第七张,PPT共十八页,创作于2022年6月2022/8/4影响化学位移的因素-磁各向异性效应 价电子产生诱导磁场,质子位于其磁力线上,与外磁场方向一致,去屏蔽。第八张,PPT共十八页,创作于2022年6

5、月2022/8/4影响化学位移的因素3 价电子产生诱导磁场,质子位于其磁力线上,与外磁场方向一致,去屏蔽。第九张,PPT共十八页,创作于2022年6月2022/8/4影响化学位移的因素4 苯环上的6个电子产生较强的诱导磁场,质子位于其磁力线上,与外磁场方向一致,去屏蔽。第十张,PPT共十八页,创作于2022年6月2022/8/42.氢键效应形成氢键后1H核屏蔽作用减少,氢键属于去屏蔽效应。第十一张,PPT共十八页,创作于2022年6月2022/8/43.空间效应第十二张,PPT共十八页,创作于2022年6月2022/8/4空间效应Ha=3.92ppmHb=3.55ppm Hc=0.88ppmH

6、a=4.68ppmHb=2.40ppm Hc=1.10ppm去屏蔽效应第十三张,PPT共十八页,创作于2022年6月2022/8/44.各类有机化合物的化学位移饱和烃-CH3: CH3=0.791.10ppm-CH2: CH2 =0.981.54ppm-CH: CH= CH3 +(0.5 0.6)ppmH=3.24.0ppmH=2.23.2ppmH=1.8ppmH=2.1ppmH=23ppm第十四张,PPT共十八页,创作于2022年6月2022/8/4各类有机化合物的化学位移烯烃 端烯质子:H=4.85.0ppm 内烯质子:H=5.15.7ppm 与烯基,芳基共轭:H=47ppm芳香烃 芳烃质子:H=6.58.0ppm 供电子基团取代-OR,-NR2 时:H=6.57.0ppm 吸电子基团取代-COCH3,-CN,-NO2 时:H=7.28.0ppm第十五张,PPT共十八页,创作于2022年6月2022/8/4各类有机化合物的化学位移-COOH:H=1013ppm-OH: (醇)H=1.06.0ppm (酚)H=412ppm-NH2:(脂肪)H=0.43.5ppm (芳香)H=2.94.8ppm (酰胺)H=9.010.2ppm-CHO:H=910ppm第十六张

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