LCD培训教材(一)ppt课件

1、 LCD培训教材(一)图案制造LCD根本构造(其断面如以下图)涂布光阻剂Photoresist Coating显 影Developing蚀 刻Etching剥 膜Stripe配向膜涂布Polyimide Coating灌 液LC Injection定 向Rubbing印 框Screen Printing印 点Cross-over Printing预 烤Pre-Curing涂 布Spacer Spray组 合Glass Assembly曝 光Exposure清 洗Clean清 洗Clean贴 片Polarizer AssemblyLCD制程流程图涂布光阻剂Photoresist Coating显

2、 影Developing蚀 刻Etching剥 膜Stripe配向膜涂布Polyimide Coating灌 液LC Injection定 向Rubbing印 框Screen Printing印 点Cross-over Printing预 烤Pre-Curing撒 布Spacer Spray组 合Glass Assembly曝 光Exposure清 洗Clean贴 片Polarizer Assembly清 洗Clean显 影Developing蚀 刻Etching剥 膜Stripe配向膜涂布Polyimide Coating灌 液LC Injection定 向Rubbing印 框Screen

3、Printing印 点Cross-over Printing预 烤Pre-Curing撒 布Spacer Spray组 合Glass Assembly曝 光Exposure涂布光阻剂Photoresist Coating涂布光阻剂Photoresist Coating贴 片Polarizer Assembly清 洗Clean涂布光阻剂Photoresist Coating显 影Developing蚀 刻Etching剥 膜Stripe配向膜涂布Polyimide Coating灌 液LC Injection定 向Rubbing印 框Screen Printing印 点Cross-over Pr

4、inting预 烤Pre-Curing撒 布Spacer Spray组 合Glass Assembly曝 光Exposure曝 光Exposure清 洗Clean涂布光阻剂Photoresist Coating蚀 刻Etching剥 膜Stripe配向膜涂布Polyimide Coating灌 液LC Injection定 向Rubbing印 框Screen Printing印 点Cross-over Printing预 烤Pre-Curing撒 布Spacer Spray组 合Glass Assembly曝 光Exposure显 影Developing显 影Developing贴 片Pola

5、rizer Assembly清 洗Clean涂布光阻剂Photoresist Coating显 影Developing剥 膜Stripe配向膜涂布Polyimide Coating灌 液LC Injection定 向Rubbing印 框Screen Printing印 点Cross-over Printing预 烤Pre-Curing撒 布Spacer Spray组 合Glass Assembly曝 光Exposure蚀 刻Etching蚀 刻Etching贴 片Polarizer Assembly清 洗Clean涂布光阻剂Photoresist Coating显 影Developing蚀 刻

6、Etching配向膜涂布Polyimide Coating灌 液LC Injection定 向Rubbing印 框Screen Printing印 点Cross-over Printing预 烤Pre-Curing撒 布Spacer Spray组 合Glass Assembly曝 光Exposure剥 膜Stripe剥 膜Stripe贴 片Polarizer Assembly 导电玻璃资料 就是在普通玻璃(不导电)的一个胶面层镀上透明导电膜的玻璃.目前常用的导电玻璃是氧化铟,氧化锡玻璃,通常简称ITO玻璃,在消费过程中,每片玻璃都必经过万用电表检 测,导电面为ITO正面,不导电面无ITO面为反

7、面.一、 ITO玻璃的构造,如图1SIO玻璃ITO图1二、LCD制造用的ITO导电玻璃规格玻璃厚度: 0.5mm 0.7mm 1.1mm玻璃面积: 14 * 16 (或355.6mm * 406.4mm)300*350SiO2阻挠层: 200 500A (1 A= 1010米)ITO层厚: 250 2000 ASiO2绝缘层厚: 500 1000 AITO导电玻璃的主要技术透光率8%方块电阻R R10、15、30 、80相对R越小越好 假设R 10/膜厚1000 2000 A R 100-300/膜厚200-300 AITO玻璃的技术要求平整度好,普通要求平整度0.5um/20mm机械强度与化

8、学抗蚀性能,ITO层对玻璃(SiO2)外表的粘附力要强,不易零落,抗划伤强.ITO膜能抗强碱,但易被酸腐蚀.光刻胶性能的主要指针.感亮度.光刻胶对光敏感的性能. 所以说,对于固定光强的曝光机,光刻胶的感亮度越高,那么曝光时间越短,反之,那么差.分辩率. 光刻精度的标志.它不仅与光刻胶本身有关.还与光刻工艺条件和操作技术等要素有关.抗蚀性 只是在针孔密度小,粘附性能良好的情况下,才干有较强的抗酸.碱才干.接上粘附力 光刻胶与ITO面之间沾附的结实程度也直接影响光刻后的精度,光刻胶的沾附力与光胶本身性质有关.而且与玻璃面有亲密关系.平整.清洁.枯燥.无油质污染的外表有利于光刻胶的粘附.此外.光刻胶

9、的配比,前烘条件,显影液配方要素有关.稳定性 光刻胶在常温暖暗房内(黄色光).光刻胶不发生暗反响.针 孔 视其光刻胶膜上针孔构成密度尽能够低,它将直接影响光胶质量.粘度和含固率 光刻胶越浓,粘度就越大,涂膜就越厚,反之.就越薄,因此.我们常采用改动光胶浓度调理粘度,控制膜厚度.例中:光刻细小图表时,为了提高分辩率,胶层相对薄些故采用浓度较稀的光刻胶. 温度高.固含率低.粘度变小,膜薄,反之那么厚. 光刻胶的分类负性胶在衬底外表将得到与光刻掩盖版遮光图形完全相反的图形(不适用LCD制造业).正性胶这种胶在曝光前对某些溶剂是不可溶的,而曝光后就变成可溶性,能与掩模遮光图形一样的图案.接上此胶分辨率

10、高,边缘整齐,边缘陡度好,以及反刻时易对准等优点,较易显影,常被LCD制造业采用.正性胶经强紫外线照射后,发生光合反响,经光照后的生成物能溶解于弱碱性水溶液中,而显示出正图形.主要不良影响：工位缺陷不良原因后制程产生不良PR涂布PR脏点1.玻璃表面脏物2.涂胶轮本身脏3.环境太差（粒子浓度偏高）4.PR被污染针孔、开路PR空洞1.玻璃表面有水汽和油污2.涂胶轮上有脏物和凸点针孔、开路亮线1.涂胶轮浸润不够2.玻璃清洗不干凈3.水汽未干针孔、开路PR不均(厚薄不均)1.涂胶轮与匀均胶轮间的间隙不一致2.玻璃表面局部有水汽、油污）3.胶的粘度大小直接与PR膜的厚薄有关开路与短路，对下一工序造成显影

11、、蚀刻工位的不足、过度胶泡1.PR中本身有汽泡2.搅拌中产生汽泡3.涂胶轮上有亮线短路、针孔主要不良影响：工位缺陷不良原因后制程产生不良显影 工 位显影不足A喷淋支数少B蚀刻液温度低于工艺要求C浓度低于工艺要求D传送速度太快短路、字体变形显影过度A、喷淋太支数太多B、蚀度温度、浓度高出工艺要求C、传送太慢开路、针孔多余物A、模板本身多余物B、模板上有脏物C、环境太差（粒子浓度偏高）字体变形、多点针孔A模板上本身有针孔、脏物B涂胶线脏点、空洞、连线针孔缺口A模板上本身有缺口、脏物B涂胶脏点空洞、连线字体变形、缺口短路A模板刮花、联机、脏物B曝光机内环境太脏C显影、曝光不足D显影水洗冲洗不干凈刮花A、模板刮花；B、机台运行不正常、刮花开路断线A、模板本身脏物；B、机台刮花、显影、曝光过度开路玻璃寸法A、真空不稳定；B、调试不当直接影响PI、丝印定位不准主要不良影响：工位缺陷不良原因后制程产生不良蚀刻针孔、缺口、断线、短路、多余物同显影同显影蚀刻