LCD光刻胶产业园项目商业计划书（范文）

1、泓域咨询/LCD光刻胶产业园项目商业计划书LCD光刻胶产业园项目商业计划书xx有限公司目录第一章 项目概况9一、 项目提出的理由9二、 项目概述9三、 项目总投资及资金构成12四、 资金筹措方案12五、 项目预期经济效益规划目标13六、 项目建设进度规划13七、 研究结论13八、 主要经济指标一览表14主要经济指标一览表14第二章 项目背景、必要性16一、 LCD光刻胶：市场稳健增长，大陆增速远高于全球16二、 半导体光刻胶：技术难度最高，增速最快18三、 存储：容量提升+扩产是两大推动力21四、 以创新引领发展，激发高质量发展内生动力22五、 项目实施的必要性23第三章 行业、市场分析24一

2、、 四大壁垒铸就高集中度，全球市场美日寡头垄断24二、 国产化率极低叠加海外断供，大陆产业链崛起迫切29第四章 公司基本情况31一、 公司基本信息31二、 公司简介31三、 公司竞争优势32四、 公司主要财务数据34公司合并资产负债表主要数据34公司合并利润表主要数据34五、 核心人员介绍35六、 经营宗旨36七、 公司发展规划37第五章 创新驱动39一、 企业技术研发分析39二、 项目技术工艺分析41三、 质量管理42四、 创新发展总结43第六章 SWOT分析45一、 优势分析（S）45二、 劣势分析（W）47三、 机会分析（O）47四、 威胁分析（T）48第七章 运营管理模式52一、 公司

3、经营宗旨52二、 公司的目标、主要职责52三、 各部门职责及权限53四、 财务会计制度56第八章 法人治理结构63一、 股东权利及义务63二、 董事68三、 高级管理人员73四、 监事75第九章 发展规划77一、 公司发展规划77二、 保障措施78第十章 建筑工程技术方案81一、 项目工程设计总体要求81二、 建设方案82三、 建筑工程建设指标83建筑工程投资一览表83第十一章 进度计划85一、 项目进度安排85项目实施进度计划一览表85二、 项目实施保障措施86第十二章 产品方案与建设规划87一、 建设规模及主要建设内容87二、 产品规划方案及生产纲领87产品规划方案一览表87第十三章 风险

4、防范89一、 项目风险分析89二、 项目风险对策91第十四章 投资计划方案94一、 投资估算的依据和说明94二、 建设投资估算95建设投资估算表99三、 建设期利息99建设期利息估算表99固定资产投资估算表101四、 流动资金101流动资金估算表102五、 项目总投资103总投资及构成一览表103六、 资金筹措与投资计划104项目投资计划与资金筹措一览表104第十五章 项目经济效益分析106一、 基本假设及基础参数选取106二、 经济评价财务测算106营业收入、税金及附加和增值税估算表106综合总成本费用估算表108利润及利润分配表110三、 项目盈利能力分析110项目投资现金流量表112四、

5、 财务生存能力分析113五、 偿债能力分析114借款还本付息计划表115六、 经济评价结论115第十六章 项目综合评价说明117第十七章 附表附件120主要经济指标一览表120建设投资估算表121建设期利息估算表122固定资产投资估算表123流动资金估算表124总投资及构成一览表125项目投资计划与资金筹措一览表126营业收入、税金及附加和增值税估算表127综合总成本费用估算表127利润及利润分配表128项目投资现金流量表129借款还本付息计划表131报告说明制程越先进，需要进行光刻的次数就越多，光刻胶用量相应提升。为了突破线宽极限而达到所需的更窄线宽，高端制程的关键层次需要双重曝光甚至多重曝

6、光来实现，随着曝光次数的增加，光刻次数在增加，28nm仅需要6次光刻，而7nm浸没式光刻需要34次，对应的光刻胶的需求量也在快速提升，虽然EUV光刻技术能有效地减小线宽并且降低光刻次数，7nm制程使用EUV技术仅需要9次光刻，但其所用的光源、光刻胶及掩膜版等与先前的光刻技术有较大差异，因此目前的商业化程度不高。根据谨慎财务估算，项目总投资24527.89万元，其中：建设投资19946.70万元，占项目总投资的81.32%；建设期利息571.01万元，占项目总投资的2.33%；流动资金4010.18万元，占项目总投资的16.35%。项目正常运营每年营业收入49500.00万元，综合总成本费用42

7、523.97万元，净利润5075.09万元，财务内部收益率14.24%，财务净现值4298.57万元，全部投资回收期6.76年。本期项目具有较强的财务盈利能力，其财务净现值良好，投资回收期合理。该项目符合国家有关政策，建设有着较好的社会效益，建设单位为此做了大量工作，建议各有关部门给予大力支持，使其早日建成发挥效益。本报告基于可信的公开资料，参考行业研究模型，旨在对项目进行合理的逻辑分析研究。本报告仅作为投资参考或作为参考范文模板用途。第一章 项目概况一、 项目提出的理由光刻胶约占LCD面板制造成本的10%，直接受益于LCD市场的扩大。根据TrendBank数据，彩色滤光片占面板成本的21%。

8、彩色光刻胶和黑色光刻胶是制备彩色滤光片的核心材料，在彩色滤光片材料成本中，彩色光刻胶和黑色光刻胶在整体成本中占比约46%，因此可以测算光刻胶在LCD面板中的成本占比大约为9.66%，光刻胶的市场直接受益LCD市场的扩大。球LCD光刻胶市场规模超13亿美金，2021-2026年CAGR为2%。根据QYresearch，全球LCD光刻胶市场稳步上升，2020年达到13.98亿美元，预计26年达到15.75亿美元。2020-2026年CAGR为2%。未来有望受益于LCD电视的大尺寸化、高清化趋势，LCD面板出货面积不断提升，充分传导至面板光刻胶需求。预计2019-2023年我国LCD光刻胶市场规模将

9、会从40亿元提升到69亿元，4年CAGR14.6%，预计国内市场占比也将从19年47.9%提升到23年74.6%。LCD光刻胶受益LCD市场规模的扩大，大尺寸、高清化是行业发展主要驱动力。LCD电视的大尺寸化趋势是促进液晶面板行业发展的主要动力。LCD电视是TFT-LCD面板的第一大应用领域，在整个液晶面板的市场中占据超过60%的面板需求，LCD电视的出货量决定了液晶面板的需求走势。二、 项目概述（一）项目基本情况1、项目名称：LCD光刻胶产业园项目2、承办单位名称：xx有限公司3、项目性质：新建4、项目建设地点：xx园区5、项目联系人：马xx（二）主办单位基本情况公司将依法合规作为新形势下实

10、现高质量发展的基本保障，坚持合规是底线、合规高于经济利益的理念，确立了合规管理的战略定位，进一步明确了全面合规管理责任。公司不断强化重大决策、重大事项的合规论证审查，加强合规风险防控，确保依法管理、合规经营。严格贯彻落实国家法律法规和政府监管要求，重点领域合规管理不断强化，各部门分工负责、齐抓共管、协同联动的大合规管理格局逐步建立，广大员工合规意识普遍增强，合规文化氛围更加浓厚。公司注重发挥员工民主管理、民主参与、民主监督的作用，建立了工会组织，并通过明确职工代表大会各项职权、组织制度、工作制度，进一步规范厂务公开的内容、程序、形式，企业民主管理水平进一步提升。围绕公司战略和高质量发展，以提高

11、全员思想政治素质、业务素质和履职能力为核心，坚持战略导向、问题导向和需求导向，持续深化教育培训改革，精准实施培训，努力实现员工成长与公司发展的良性互动。公司坚持诚信为本、铸就品牌，优质服务、赢得市场的经营理念，秉承以人为本，始终坚持 “服务为先、品质为本、创新为魄、共赢为道”的经营理念，遵循“以客户需求为中心，坚持高端精品战略，提高最高的服务价值”的服务理念，奉行“唯才是用，唯德重用”的人才理念，致力于为客户量身定制出完美解决方案，满足高端市场高品质的需求。经过多年的发展，公司拥有雄厚的技术实力，丰富的生产经营管理经验和可靠的产品质量保证体系，综合实力进一步增强。公司将继续提升供应链构建与管理

12、、新技术新工艺新材料应用研发。集团成立至今，始终坚持以人为本、质量第一、自主创新、持续改进，以技术领先求发展的方针。（三）项目建设选址及用地规模本期项目选址位于xx园区，占地面积约54.00亩。项目拟定建设区域地理位置优越，交通便利，规划电力、给排水、通讯等公用设施条件完备，非常适宜本期项目建设。在全面振兴全方位振兴战略要求指引下，决胜全面建成小康社会取得决定性成就。“十三五”时期是鞍山发展史上不平凡的五年。面对经济下行较大压力，不断深化认识、深入实践，逐步摸清了鞍山存在的问题和需要破解的难题，并通过市委十二届七次、八次、九次全会，先后出台了鞍山市大力实施“两翼一体化”经济发展战略的实施意见，

13、提出了构建“三个互动体系”，形成了推动鞍山全面振兴全方位振兴的目标定位、发展战略、工作布局、战术举措的科学体系。全市上下统一思想、凝聚共识，沿着这一套工作思路，坚定信心，解放思想，狠抓落实，全面振兴全方位振兴取得新进展新成效。（四）产品规划方案根据项目建设规划，达产年产品规划设计方案为：xxx吨LCD光刻胶/年。三、 项目总投资及资金构成本期项目总投资包括建设投资、建设期利息和流动资金。根据谨慎财务估算，项目总投资24527.89万元，其中：建设投资19946.70万元，占项目总投资的81.32%；建设期利息571.01万元，占项目总投资的2.33%；流动资金4010.18万元，占项目总投资的

14、16.35%。四、 资金筹措方案（一）项目资本金筹措方案项目总投资24527.89万元，根据资金筹措方案，xx有限公司计划自筹资金（资本金）12874.66万元。（二）申请银行借款方案根据谨慎财务测算，本期工程项目申请银行借款总额11653.23万元。五、 项目预期经济效益规划目标1、项目达产年预期营业收入（SP）：49500.00万元。2、年综合总成本费用（TC）：42523.97万元。3、项目达产年净利润（NP）：5075.09万元。4、财务内部收益率（FIRR）：14.24%。5、全部投资回收期（Pt）：6.76年（含建设期24个月）。6、达产年盈亏平衡点（BEP）：24057.50万元

15、（产值）。六、 项目建设进度规划项目计划从可行性研究报告的编制到工程竣工验收、投产运营共需24个月的时间。七、 研究结论项目建设符合国家产业政策，具有前瞻性；项目产品技术及工艺成熟，达到大批量生产的条件，且项目产品性能优越，是推广型产品；项目产品采用了目前国内最先进的工艺技术方案；项目设施对环境的影响经评价分析是可行的；根据项目财务评价分析，经济效益好，在财务方面是充分可行的。八、 主要经济指标一览表主要经济指标一览表序号项目单位指标备注1占地面积36000.00约54.00亩1.1总建筑面积64801.921.2基底面积23400.001.3投资强度万元/亩356.992总投资万元24527

16、.892.1建设投资万元19946.702.1.1工程费用万元17117.222.1.2其他费用万元2239.552.1.3预备费万元589.932.2建设期利息万元571.012.3流动资金万元4010.183资金筹措万元24527.893.1自筹资金万元12874.663.2银行贷款万元11653.234营业收入万元49500.00正常运营年份5总成本费用万元42523.97""6利润总额万元6766.79""7净利润万元5075.09""8所得税万元1691.70""9增值税万元1743.74"&q

17、uot;10税金及附加万元209.24""11纳税总额万元3644.68""12工业增加值万元12929.93""13盈亏平衡点万元24057.50产值14回收期年6.7615内部收益率14.24%所得税后16财务净现值万元4298.57所得税后第二章 项目背景、必要性一、 LCD光刻胶：市场稳健增长，大陆增速远高于全球面板光刻胶主要分为彩色光刻胶、黑色光刻胶、触摸屏用光刻胶和TFT-LCD正性光刻胶。彩色光刻胶、黑色光刻胶主要用于制备彩色滤光片;触摸屏用光刻胶主要用于在玻璃基板上沉积ITO制作触摸电极;TFT-LCD正性光刻胶主要用

18、于微细图形加工。彩色滤光片是液晶显示器实现彩色显示的关键器件，因此在面板光刻胶中占比最大。2018年全球彩色光刻胶市场规模占面板光刻胶比重超过60%，TFT光刻胶、黑色光刻胶分别占比23%与14%。光刻胶约占LCD面板制造成本的10%，直接受益于LCD市场的扩大。根据TrendBank数据，彩色滤光片占面板成本的21%。彩色光刻胶和黑色光刻胶是制备彩色滤光片的核心材料，在彩色滤光片材料成本中，彩色光刻胶和黑色光刻胶在整体成本中占比约46%，因此可以测算光刻胶在LCD面板中的成本占比大约为9.66%，光刻胶的市场直接受益LCD市场的扩大。全球LCD光刻胶市场规模超13亿美金，2021-2026年

19、CAGR为2%。根据QYresearch，全球LCD光刻胶市场稳步上升，2020年达到13.98亿美元，预计26年达到15.75亿美元。2020-2026年CAGR为2%。未来有望受益于LCD电视的大尺寸化、高清化趋势，LCD面板出货面积不断提升，充分传导至面板光刻胶需求。预计2019-2023年我国LCD光刻胶市场规模将会从40亿元提升到69亿元，4年CAGR14.6%，预计国内市场占比也将从19年47.9%提升到23年74.6%。LCD光刻胶受益LCD市场规模的扩大，大尺寸、高清化是行业发展主要驱动力。LCD电视的大尺寸化趋势是促进液晶面板行业发展的主要动力。LCD电视是TFT-LCD面板

20、的第一大应用领域，在整个液晶面板的市场中占据超过60%的面板需求，LCD电视的出货量决定了液晶面板的需求走势。全球LCDTV面板出货尺寸持续增长，2021年32和43出货占比明显收窄，65及75出货占比分别增加2.8%及1.2%，带动2021年平均尺寸增加2.0英寸。面板产品尺寸出现结构性分化，一方面，疫情影响新兴国家消费者购买力弱，对中小尺寸电视需求产生明显的冲击，而发达经济体消费者购买力维持相对强劲，拉动大尺寸需求持续走强。另一方面，受整机成本快速上涨的驱动，品牌为了减亏加速产品结构升级，减少小尺寸并且增加大尺寸产品的比重。受需求端尺寸结构牵引，面板厂亦积极推动产品结构优化，不断增加大尺寸

21、的产能占比，控制小尺寸的产出。2014年全球TFT-LCD显示面板的出货面积为1.66亿平方米，2019年增至2.23亿平方米，年均复合增长率约6.07%。而随着5G技术的逐步成熟及应用，TFT-LCD面板的大尺寸化趋势能更好的顺应高清化应用的要求，从而带动TFT-LCD面板需求的不断增长。2019年至2023年，TFT-LCD面板的出货面积预计将从2.23亿平方米增至2.49亿平方米，增幅12.20%。产业持续转移，为国内LCD光刻胶提供巨大市场。随着日本、韩国、中国台湾等国家和地区新建LCD产线速度减慢甚至关停现有产线，以及中国大陆厂商的异军突起，中国大陆面板产线建设活跃，为全球新型显示设

22、备和原材料提供了主要市场。四大国产厂商已占据LCD面板行业一半以上出货面积。21H1京东方，TCL华星、惠科、彩虹光电四大国产面板厂商出货面积分别达到20.5、14.9、8.5、5百万平方米，在全球十大面板厂商出货面积占比达到58.1%，预计随着产业转移持续以及在建产能释放，到23年国内厂商出货面积合计占比将到达约67%。二、 半导体光刻胶：技术难度最高，增速最快全球半导体光刻胶市场增速远高于全球光刻胶平均水平，占比不断提升。据SEMI统计，2021年全球半导体光刻胶市场规模达24.71亿美元，较上年同期增长19.49%，2015-2021年CAGR为12.03%。2019年全球半导体光刻胶市

23、场规模分别为约为18亿美元，半导体光刻胶占整体光刻胶比重约21.9%，到2021年占比提升至26.85%。大陆半导体光刻胶增速超全球两倍。分地区看，中国大陆半导体光刻胶市场依旧保持着最快增速，2021年市场规模达到4.93亿美元，较上年同期增长43.69%，超过全年半导体光刻胶增速的两倍；中国占比全球半导体光刻胶市场比重也将从2015年约10.4%提升到2021年接近20%。中国半导体光刻胶的快速崛起离不开中国整体半导体产业的发展。受益于5G大规模建设，以及2020年新冠疫情导致远程办公、网络直播等应用普及，全球集成电路行业发展迅猛，根据Frost&Sullivan数据，2013年集成

24、电路市场规模为2518亿美元，到2019年集成电路市场规模高达3334亿美元，年复合增长率为4.79%。2019年全球集成电路市场规模有所下滑，主要系全球贸易摩擦、存储供需变化以及智能手机、服务器等产品需求下滑因素影响。预计到2025年，全球集成电路市场规模将达到4750亿美元,2020-2025年CAGR为6.02%。我国集成电路行业起步较晚，但发展迅速。根据中国半导体行业协会数据，2013年中国集成电路销售收入为2508亿元，2019年达到7562亿元，年均复合增速达到20.2%，在5G和新兴产业的发展带动下，如汽车电子行业和物联网的推动下，中国集成电路行业市场规模将不断扩大，预计到202

25、5年，我国集成电路市场规模将达到18932亿元，2020-2025年CAGR为16.22%。按曝光波长分，全球ArF/EUV光刻胶占比超50%，为国际主流。半导体光刻胶按照曝光波长不同可分为g线（436nm）、i线（365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm）以及新兴起的EUV光刻胶5大类，高端光刻胶指KrF、ArF和EUV光刻胶，等级越往上其极限分辨率越高，同一面积的硅晶圆布线密度越大，性能越好。根据TECHCET数据，从市场分布看，2021年ArFi+ArF光刻胶占全球光刻胶市场规模的比例为48.1%，KrF占比34.7%，G/I线占14.7%。ArF（包括ArFi）光刻胶已是

26、集成电路制造需求金额最大的光刻胶产品，随着集成电路产业超先进制程持续发展，ArF光刻胶持续迎来广阔市场机遇。随着全球半导体产业的发展，制造工艺技术节点的不断缩小，KrF和ArF光刻胶市场需求量更大，增速更快，是推动当下光刻胶市场快速增长的主要因素。从市场规模增速来看，EUV光刻胶发展最快，但处于发展初期体量较小，2021年仅约0.51亿美元，预计到2025年达到1.97亿美元，2020-2025CAGR达48.8%；增速第二快的是KrF光刻胶，其2021年全球市场规模为6.9亿美元，预计到2025年达到9.07亿美元，2020-2025年CAGR为8.2%。ArF光刻胶（ArF+ArFi）20

27、21年全球市场规模为9.55亿美元，预计到2025达到10.72亿美元，2020-2025CAGR为3.5%；较为低端的g/i线光刻胶预计市场规模变化不大，占比缩小。从应用产品看，2021年逻辑占比超63.5%，是第一大应用领域。非易失性存储器（NVM）是一种计算机即使关闭电源也能够保存已保存数据的存储器，增速最快。根据TECHCET数据，2021年逻辑用光刻胶需求超过595万升，占比超过63.5%，到2025年需求量提升到约677万升，2021-2025年CAGR为3.3%，由于NVM对光刻胶需求的快速提升（2021-2025CAGR12.8%），预计2025年逻辑占比略降低到59.5%，N

28、VM占比提升到26.4%。对非易失性存储器（NVM）的需求是主要由于移动设备所需要的存储容量大幅提升，尤其是相机、智能手机和平板电脑。随着制程缩减和存储容量提升，光刻次数增加，单位面积光刻胶的金额越高。根据SEMI的数据，单位面积所使用的的光刻胶价值量从15年3月不到0.12美元/平方英寸上升到2021年9月约0.19美元/平方英寸，平均价值量的提升主要来源于先进制程占比的提升以及光刻次数的增加。三、 存储：容量提升+扩产是两大推动力容量要求提升，光刻次数增加，相应光刻胶的用量随着光刻次数的增加大幅增长。DRAM：DRAM的技术发展路径是以微缩制程来提高存储密度。制程工艺进入20nm之后，制造

29、难度大幅提升，DRAM芯片厂商对工艺的定义从具体的线宽转变为在具体制程范围内提升二或三代技术来提高存储密度。目前市场上DRAM的应用较为广泛的是2xnm和1xnm，三星、美光、海力士等龙头厂商均已开发出1znm制程的DRAM。NAND：NAND芯片制程已经达到极限，2DNAND的存储容量难以继续突破，NAND工艺逐渐转向3D堆叠架构，以更多的堆叠层数来得到更大的存储容量，光刻次数随着层数增加而增加，KrF光刻胶的使用量将显著提升。四、 以创新引领发展，激发高质量发展内生动力坚持创新在现代化建设全局中的核心地位，让创新贯穿鞍山全面振兴全方位振兴全过程、各方面。大力发展院士经济、院校经济、研究院经

30、济。加强与院士密切合作，深化与院校合作，积极支持现有研究院发展。建立“三院经济”人才交流平台，打通合作通道。鼓励支持高新技术研发团队参与重点产业创新发展，积极与中冶焦耐、鞍钢设计院、鞍钢技术中心、中钢热能院等来鞍、驻鞍、国内外研究院所合作，切实提高本地企业配套率。鼓励和支持民营研究院发展。强化企业创新主体地位。鼓励企业牵头组建创新联合体，构建产学研市场化利益联结机制。鼓励企业加大研发投入。积极培育创新型领军企业。优选一批创新能力强、引领作用大、研发水平高的科技型骨干企业，集中优势资源，在研发平台建设、重大技术攻关应用、高端人才引进培育等方面加大支持力度，在创新政策落实、产学研合作、知识产权管理

31、等方面强化服务。提高科技成果转移转化成效。加快构建顺畅高效的技术创新和转移转化体系。鼓励企业与高校、科研院所共建创新平台，支持企业牵头组建创新联合体，打造一批以市场为导向的新型研发机构。扎实做好科技金融服务，充分发挥政府资金引导作用，撬动金融资本和民间投资向科技成果转化集聚，加大对科技型企业的融资支持，促进新技术产业化规模化应用。探索建立赋予科研人员职务科技成果所有权或长期使用权的机制和模式。健全知识产权保护运行体系、政策体系、工作体系。弘扬科学精神，加强科普工作，营造崇尚创新的社会氛围。五、 项目实施的必要性（一）提升公司核心竞争力项目的投资，引入资金的到位将改善公司的资产负债结构，补充流动

32、资金将提高公司应对短期流动性压力的能力，降低公司财务费用水平，提升公司盈利能力，促进公司的进一步发展。同时资金补充流动资金将为公司未来成为国际领先的产业服务商发展战略提供坚实支持，提高公司核心竞争力。第三章 行业、市场分析一、 四大壁垒铸就高集中度，全球市场美日寡头垄断1、第一大壁垒：技术壁垒，生产工艺要求极高，配方是根本作为光刻工艺的核心，光刻胶需满足四大条件。选择光刻胶的决定因素是晶圆表面对尺寸的要求。光刻胶必须要同时满足四大条件：1）产生要求的尺寸。2）在刻蚀过程中具有阻挡刻蚀的功能，保持特定厚度的光刻胶层中一定不能存在针孔。3）必须和晶圆（或其他衬底）表面能很好的粘合，否则刻蚀后的图形

33、可能发生扭曲。4）工艺维度和阶梯覆盖能力。多参数指标要求，分辨率直接决定产品特征尺寸。光刻胶的主要性能指标包括：分辨率、黏附性、对比度、敏感度、抗蚀性、表面张力、曝光速度、针孔密度、阶梯覆盖度等。1）分辨率：在光刻胶层所能产生的最小图形或其间距。一般而言，越小的线宽需要越薄的光刻胶膜，但为阻挡刻蚀且不能出现针孔，光刻胶膜必须有一定的厚度，因此只能权衡选择。2）黏结能力：光刻胶必须和衬底表面很好黏结，才能准确讲图形转移到衬底表面，否则可能导致图形畸变。在制造过程中，不同的表面，光刻胶的黏结能力不同。因此在光刻胶工艺中，多个步骤是为了增加光刻胶对晶圆表面的自然黏结能力。3）曝光速度：反应速度越快，

34、光刻和刻蚀区域的加工速度越快。一般而言，负胶需要5-15秒曝光时间，而正胶需要3-4倍时间。4）针孔：光刻胶层尺寸非常小的空穴。针孔的存在会允许刻蚀剂渗透过光刻胶层接触衬底表面，从而在衬底表面刻蚀出小孔造成损害。光刻胶越薄，针孔越多，光刻胶越厚，针孔越少，但厚胶降低了光刻胶分辨率，因此光刻胶膜厚是多个因素的权衡。光刻胶工艺一旦确立，一般不再变更。准备、烘焙、曝光、刻蚀和去除工艺会根据特定的光刻胶性质和想达到的预期结果进行微调。光刻胶的选择和光刻胶工艺的研发是一项漫长而复杂的过程，一旦一种光刻工艺被建立，一般不再改变。从专利数看，日本美国合计占比超70%，大陆发展迅速。截至2021年9月，全球光

35、刻胶第一大技术来源国为日本，专利申请量占全球光刻胶专利总申请量的46%；美国则以25%的申请量位列第二。中国则以7%的申请量排在韩国之后。从趋势上看，中国的光刻胶相关专利申请量正在快速增长，在2020年实现了对日本的反超。2020年，中国光刻胶专利申请量为1.29万项，日本光刻胶专利申请量下降至8982项。光刻胶种类多样，不同类别化学结构、性能有所区别。光刻胶下游不同客户的需求差异明显，即使同一客户的不同应用需求也不一致。这就导致光刻胶的整体生产缺乏统一的工艺，每一类光刻胶使用的原料在化学结构、性能上均有所区别，要求使用不同品质等级的专用化学品。这就迫使制造商需要有能力设计出符合不同需求设计不

36、同配方，并有相应的生产工艺完成生产。这属于行业的核心技术之一，对企业的技术能力要求比较高。2、第二大壁垒：客户认证壁垒，上下游深度绑定，验证周期长在光刻胶供货前，一般会经过光刻胶产品的验证及工厂（产线）资质的验证，其中光刻胶验证根据验证阶段分为PRS（光刻胶性能测试）、STR（小试）、MSTR（批量验证）及Release（通过验证）；工厂（产线）资质验证方面，主要在质量体系、供货稳定性、工厂（产线）产能等几方面进行验证。在工厂（产线）资质验证通过以及产品验证通过后，可实现对客户的正式供货。由于验证周期通常为624个月，下游晶圆厂切换光刻胶成本较高，通常客户切换光刻胶意愿不强，光刻胶企业较难进行

37、客户的突破。3、第三大壁垒：设备壁垒，光刻机昂贵且购买难度大送样前，光刻胶生产商需要购臵光刻机用于内部配方测试，根据验证结果调整配方。光刻机设备昂贵，数量有限且供应可能受国外限制，尤其是EUV光刻机目前全球只有ASML能批量供应。光刻机购买交货周期较长，根据日经亚洲评论报导，由于需求早已超过负荷，目前芯片生产设备的交货时间已经从12个月延长至约18个月。光刻机产量较少而价格昂贵，近年增量主要集中在在EUV、ArFi和KrF光刻机。根据ASML2021年财报，2021年公司共销售287台光刻系统，销售额约136.5亿欧元，其中42台为EUV光刻系统机，销售额约62.8亿欧元，平均一台1.5亿欧元

38、;ArFi光刻系统81台，销售额约49.6亿欧元，平均单价约6100万欧元;ArFdry光刻系统销售22台，销售额约4.3亿欧元，平均单价约2000万欧元；KrF光刻系统131台，销售额约13.2亿欧元，平均单价约1000万欧元;i-Line光刻系统33台，销售额约1.4亿欧元，平均单价约400万欧元。4、第四大壁垒：原材料壁垒，国内产业链尚不完善，树脂、单体产业化困难重重上游原材料是影响光刻胶品质的重要因素，目前我国光刻胶原材料市场基本被国外厂商垄断，尤其是树脂和感光剂高度依赖于进口，国产化率很低，由此增加了国内光刻胶生产成本以及供应链风险。行业高度集中，日本三巨头+美国杜邦垄断市场。全球光

39、刻胶市场基本被日本和美国企业所垄断，2020年数据显示，东京应化排名第一，份额为26%，杜邦排名第二，份额为17%，加上JSR和住友化学，CR4接近70%，行业集中度较高。从半导体光刻胶细分产品看，各大巨头更侧重中高端光刻胶。目前东京应化综合实力位列第一，除了在ArF光刻胶领域以16%的市占率位于JSR（25%）、信越化学（22%）、住友化学（17%）之后，在其他三个领域的份额均位列第一，其中在EUV光刻胶领域独占鳌头，一家占据一半以上的份额。PCB光刻胶：低端产品由国内主导。在PCB光刻胶市场中，中国在中低端产品占据主导地位，2020年容大感光、广信材料、东方材料、北京力拓达等本土企业占据国

40、内46%左右的湿膜光刻胶和光成像阻焊油墨市场份额。但是较高端的干膜光刻胶市场主要由日本旭化成、日本日立化成、中国台湾长兴化学垄断，这三大企业在全球的市场占有率超过80%，我国在干膜光刻胶方面仍高度依赖进口。LCD光刻胶的全球供应集中在日本、韩国、中国台湾等地区，我国彩色和黑色光刻胶市场国产化率仅为5%左右。彩色滤光片所需的高分子颜料和颜料的分散技术主要集中在Ciba等日本颜料厂商手中，因此彩色光刻胶和黑色光刻胶的核心技术基本被日本和韩国企业垄断。另一方面，近年来我国在触控屏光刻胶技术上有所突破，晶瑞股份和北京科华微已经实现了触控屏光刻胶的量产，国产化率在30%-40%左右。二、 国产化率极低叠

41、加海外断供，大陆产业链崛起迫切大陆光刻胶国产化率极低。半导体用光刻胶被日本企业垄断，国产化率仅10%，目前我国仅实现g线、i线、KrF光刻胶量产，ArF光刻胶大都处于研发或送样阶段，EUV光刻胶尚处于早期研发阶段。平板显示用光刻胶，主要产地为日本、韩国和中国台湾，其中彩色光刻胶、黑色光刻胶国产化率仅为5%，雅克科技收购LG化学该板块业务后成为国内最大供应商。TFT光刻胶，中国大陆大部分产能仍为进口。PCB光刻胶，湿膜及阻焊油墨已经基本是实现自给，国产化率达46%，而干膜光刻胶仍需大量进口，主要供应地区在日本和中国台湾。大陆企业在上游原材料均有布局。从A股上市公司在光刻胶原材料的布局情况来看，溶

42、剂方面有百川股份、怡达股份等，单体有华懋科技（投资徐州博康）、联瑞新材等，树脂有彤程新材、圣泉集团、强力新材等，光引发剂有强力新材等。中游制造国产布局完善，g/i线已深耕多年，持续向中高端KrF、ArF光刻胶发力。目前国产光刻胶在中游制造方面已经取得了里程碑式的突破，涌现出一批优秀企业，在半导体光刻胶方面，有彤程新材（KrF光刻胶批量供应中芯、长存等多家下游客户，G线光刻胶的市场占有率达到60%），晶瑞电材（g/i线批量供应多年，KrF已通过测试）上海新阳（KrF形成销售，ArF研发进展顺利）华懋科技（投资徐州博康，拥有光刻胶全产业链能力），2022年国产半导体光刻胶有望开花结果实现放量。第四

43、章 公司基本情况一、 公司基本信息1、公司名称：xx有限公司2、法定代表人：马xx3、注册资本：720万元4、统一社会信用代码：xxxxxxxxxxxxx5、登记机关：xxx市场监督管理局6、成立日期：2013-7-117、营业期限：2013-7-11至无固定期限8、注册地址：xx市xx区xx9、经营范围：从事LCD光刻胶相关业务（企业依法自主选择经营项目，开展经营活动；依法须经批准的项目，经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动；不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。）二、 公司简介公司坚持诚信为本、铸就品牌，优质服务、赢得市场的经营理念，秉承以人为本，始终坚持 “服务为先、品质为

44、本、创新为魄、共赢为道”的经营理念，遵循“以客户需求为中心，坚持高端精品战略，提高最高的服务价值”的服务理念，奉行“唯才是用，唯德重用”的人才理念，致力于为客户量身定制出完美解决方案，满足高端市场高品质的需求。经过多年的发展，公司拥有雄厚的技术实力，丰富的生产经营管理经验和可靠的产品质量保证体系，综合实力进一步增强。公司将继续提升供应链构建与管理、新技术新工艺新材料应用研发。集团成立至今，始终坚持以人为本、质量第一、自主创新、持续改进，以技术领先求发展的方针。三、 公司竞争优势（一）工艺技术优势公司一直注重技术进步和工艺创新，通过引入国际先进的设备，不断加大自主技术研发和工艺改进力度，形成较强

45、的工艺技术优势。公司根据客户受托产品的品种和特点，制定相应的工艺技术参数，以满足客户需求，已经积累了丰富的工艺技术。经过多年的技术改造和工艺研发，公司已经建立了丰富完整的产品生产线，配备了行业先进的设备，形成了门类齐全、品种丰富的工艺，可为客户提供一体化综合服务。（二）节能环保和清洁生产优势公司围绕清洁生产、绿色环保的生产理念，依托科技创新，注重从产品结构和工艺技术的优化来减少三废排放，实现污染的源头和过程控制，通过引进智能化设备和采用自动化管理系统保障清洁生产，提高三废末端治理水平，保障环境绩效。经过持续加大环保投入，公司已在节能减排和清洁生产方面形成了较为明显的竞争优势。（三）智能生产优势

46、近年来，公司着重打造 “智慧工厂”，通过建立生产信息化管理系统和自动输送系统，将企业的决策管理层、生产执行层和设备运作层进行有机整合，搭建完整的现代化生产平台，智能系统的建设有利于公司的订单管理和工艺流程的优化，在确保满足客户的各类功能性需求的同时缩短了产品交付期，提高了公司的竞争力，增强了对客户的服务能力。（四）区位优势公司地处产业集聚区，在集中供气、供电、供热、供水以及废水集中处理方面积累了丰富的经验，能源配套优势明显。产业集群效应和配套资源优势使公司在市场拓展、技术创新以及环保治理等方面具有独特的竞争优势。（五）经营管理优势公司拥有一支敬业务实的经营管理团队，主要高级管理人员长期专注于印

47、染行业，对行业具有深刻的洞察和理解，对行业的发展动态有着较为准确的把握，对产品趋势具有良好的市场前瞻能力。公司通过自主培养和外部引进等方式，建立了一支团结进取的核心管理团队，形成了稳定高效的核心管理架构。公司管理团队对公司的品牌建设、营销网络管理、人才管理等均有深入的理解，能够及时根据客户需求和市场变化对公司战略和业务进行调整，为公司稳健、快速发展提供了有力保障。四、 公司主要财务数据公司合并资产负债表主要数据项目2020年12月2019年12月2018年12月资产总额10856.908685.528142.67负债总额3313.252650.602484.94股东权益合计7543.65603

48、4.925657.74公司合并利润表主要数据项目2020年度2019年度2018年度营业收入25579.7920463.8319184.84营业利润5016.974013.583762.73利润总额4096.173276.943072.13净利润3072.132396.262211.93归属于母公司所有者的净利润3072.132396.262211.93五、 核心人员介绍1、马xx，中国国籍，1977年出生，本科学历。2018年9月至今历任公司办公室主任，2017年8月至今任公司监事。2、秦xx，中国国籍，1976年出生，本科学历。2003年5月至2011年9月任xxx有限责任公司执行董事、总

49、经理；2003年11月至2011年3月任xxx有限责任公司执行董事、总经理；2004年4月至2011年9月任xxx有限责任公司执行董事、总经理。2018年3月起至今任公司董事长、总经理。3、钱xx，中国国籍，1978年出生，本科学历，中国注册会计师。2015年9月至今任xxx有限公司董事、2015年9月至今任xxx有限公司董事。2019年1月至今任公司独立董事。4、孟xx，中国国籍，无永久境外居留权，1961年出生，本科学历，高级工程师。2002年11月至今任xxx总经理。2017年8月至今任公司独立董事。5、金xx，1974年出生，研究生学历。2002年6月至2006年8月就职于xxx有限责

50、任公司；2006年8月至2011年3月，任xxx有限责任公司销售部副经理。2011年3月至今历任公司监事、销售部副部长、部长；2019年8月至今任公司监事会主席。6、潘xx，1957年出生，大专学历。1994年5月至2002年6月就职于xxx有限公司；2002年6月至2011年4月任xxx有限责任公司董事。2018年3月至今任公司董事。7、邹xx，中国国籍，无永久境外居留权，1970年出生，硕士研究生学历。2012年4月至今任xxx有限公司监事。2018年8月至今任公司独立董事。8、史xx，中国国籍，无永久境外居留权，1959年出生，大专学历，高级工程师职称。2003年2月至2004年7月在x

51、xx股份有限公司兼任技术顾问；2004年8月至2011年3月任xxx有限责任公司总工程师。2018年3月至今任公司董事、副总经理、总工程师。六、 经营宗旨以市场需求为导向；以科研创新求发展；以质量服务树品牌；致力于产业技术进步和行业发展，创建国际知名企业。七、 公司发展规划根据公司的发展规划，未来几年内公司的资产规模、业务规模、人员规模、资金运用规模都将有较大幅度的增长。随着业务和规模的快速发展，公司的管理水平将面临较大的考验，尤其在公司迅速扩大经营规模后，公司的组织结构和管理体系将进一步复杂化，在战略规划、组织设计、资源配置、营销策略、资金管理和内部控制等问题上都将面对新的挑战。另外，公司未

52、来的迅速扩张将对高级管理人才、营销人才、服务人才的引进和培养提出更高要求，公司需进一步提高管理应对能力，才能保持持续发展，实现业务发展目标。公司将采取多元化的融资方式，来满足各项发展规划的资金需求。在未来融资方面，公司将根据资金、市场的具体情况，择时通过银行贷款、配股、增发和发行可转换债券等方式合理安排制定融资方案，进一步优化资本结构，筹集推动公司发展所需资金。公司将加快对各方面优秀人才的引进和培养，同时加大对人才的资金投入并建立有效的激励机制，确保公司发展规划和目标的实现。一方面，公司将继续加强员工培训，加快培育一批素质高、业务强的营销人才、服务人才、管理人才；对营销人员进行沟通与营销技巧方

53、面的培训，对管理人员进行现代企业管理方法的教育。另一方面，不断引进外部人才。对于行业管理经验杰出的高端人才，要加大引进力度，保持核心人才的竞争力。其三，逐步建立、完善包括直接物质奖励、职业生涯规划、长期股权激励等多层次的激励机制，充分调动员工的积极性、创造性，提升员工对企业的忠诚度。公司将严格按照公司法等法律法规对公司的要求规范运作，持续完善公司的法人治理结构，建立适应现代企业制度要求的决策和用人机制，充分发挥董事会在重大决策、选择经理人员等方面的作用。公司将进一步完善内部决策程序和内部控制制度，强化各项决策的科学性和透明度，保证财务运作合理、合法、有效。公司将根据客观条件和自身业务的变化，及

54、时调整组织结构和促进公司的机制创新。第五章 创新驱动一、 企业技术研发分析经过十多年产品创新和技术研发，不断消化吸收国内外先进技术资料，与客户进行广泛技术交流，公司拥有了多项核心技术，应用于各类产品，服务于客户的多样化需求。（一）核心技术人员、研发人员情况公司员工总数为xx人，其中研发人员xx人，占员工总数的xx%。公司的核心管理和技术团队形成了以总经理为核心的技术研发团队，建立了以市场需求为导向、技术创新为重点、项目管理为主线的研发管理体系。（二）研发机构设置公司的创新活动由总经理负总责，公司形成了以企业技术中心为主体的创新平台，负责创新活动的具体实施。公司创新组织机构完善，管理运作规范，确

55、保了公司各项持续性创新机制的实施以及各项创新活动的有序开展。技术研发部根据公司发展战略，负责新产品开发计划、策划、设计、实施工作，负责公司日常工艺、技术标准化管理，组织开展工艺和技术创新工作，开展对外技术交流与合作，带动公司的整体发展。（三）技术创新机制和制度安排技术创新能力是公司核心竞争力的体现，公司一直将设计创新、工艺创新、材料创新作为生存和发展的核心要素。为了进一步促进创新能力的提升，加快产品开发步伐，公司采取了一系列措施，保障各项创新活动的实施。（1）持续关注国际领先技术和产品公司积极组织研发人员参加德国、日本、美国等国家的行业及应用展会，充分了解和学习国际领先技术和产品，更加深入了解

56、下游客户对产品的应用，以更具性价比的产品满足国内市场需求。（2）定期会议和培训公司鼓励研发人员主动拜访各地的主要客户，了解客户的及时需求及公司产品的适用情况。公司管理层和研发人员定期召开会议，对新需求、新技术和新产品进行集中讨论，形成产品技术开发方案，从而达到技术分享和激发创新的目标。（3）制度激励公司制定了企业技术中心产品开发管理规定、技术创新项目管理实施方案、企业技术中心人员绩效考核制度，实行以创新产品开发为核心的考核、奖惩管理办法，针对新产品的开发、量产、改进等，为研发人员设置了项目奖，激发了研发人员的创新热情和参与创新的积极性。此外，公司核心技术人员间接持有公司股份，分享公司成长带来的收益，提升其工作积极性，增强了核心技术人员的稳定性。二、 项目技术工艺分析（一）工艺技术方案的选用原则1、对于生产技术方案的选用，遵循“技术上先进可行，经济上合理有利，综合利用资源”的进步原则，采用先进的集散型控制系统，由计算机统一控制整个生产线的各工艺参数，使产品质量稳定在高水平上，同时可降低物料的消耗。严格按行业规范要求组织生产经营活动，有效控制产品质量，为广大顾客提供优质的产品和良好的服务。2、在工艺设备的配置上，依据节能的原则，选用新型节能型设备，根据有利于环境保护的原则，优先选