汤有纶-20121027-浅谈电子特气发展趋势totzbg20121026

1、 绿菱电子材料（天津）有限公司绿菱电子材料（天津）有限公司2012/10/283/11/2022前言 电子气体经过几十年的发展，已经成为一个重要的气体分支，它在发展电子信息产业起着至关重要的支撑作用。随着科学技术的不断发展，它不仅广泛的应用于IC，LED，PV，TFT-LCD，光纤等工艺制程中。它还广泛的应用于核电，航天，电力，医药，建材，国防等领域中。据不完全按统计，电子气体和金属有机化合物仅半导体制造业采用的各类气体和金属有机化合物共计150多种，约占半导体制造企业原材料采购成本的20%左右。可以预见我国电子特气的前途无量。 本报告就有关电子特气的目前的发展趋势，谈谈我们的一些认识，意在为

2、振兴我国电子信息产业和民族工业与同行携手开拓我国电子特气产业的发展，使我国电子特气不断的有所发现，有所创造，有所前进！3/11/2022电子特气应用分类按应用领域按应用领域TFT/LCD ICPVLED光纤光纤锂电池锂电池按工艺用途按工艺用途编号编号品名品名在电子行业主要用途在电子行业主要用途全球需求量全球需求量备注备注1CF4刻蚀刻蚀/清洗清洗2SF6清洗清洗/刻蚀刻蚀3C4F8刻蚀刻蚀/清洗清洗4CHF3刻蚀刻蚀5CH2F2刻蚀刻蚀6C2HF5刻蚀刻蚀7SiF4成膜成膜8C2F6刻蚀刻蚀/清洗清洗9C3F8刻蚀刻蚀/清洗清洗10C4F6刻蚀刻蚀11CH3F刻蚀刻蚀12C3F6刻蚀刻蚀/清洗

3、清洗13C5F8刻蚀刻蚀14WF6CVD15NF3清洗清洗/刻蚀刻蚀电子特气总揽氟化物系列1编号编号品名品名用途用途需求需求备注备注1C4F10 刻蚀刻蚀2C2H5F 乙基氟乙基氟刻蚀刻蚀 3C2ClF3 三氟三氟氯氯乙乙烯烯 前体前体4C2BrF3 三氟溴乙稀三氟溴乙稀 制冷制冷5C2H2F4 R134a 制冷制冷6C3HF7 R227a灭火灭火7 C4F8O刻蚀刻蚀8CF3I制冷制冷/灭火灭火9C2H3F3 R143制冷制冷10CHClF2 R22制冷制冷11C2H4F2 R152刻蚀刻蚀121,1,1,3,3-五氟丙烷五氟丙烷(HFC-245fa)以及它们的混合物以及它们的混合物替代替代

4、SF6,减少温室气减少温室气体排放体排放131,3,3,3-四氟丙烯四氟丙烯(OHFC-1234ze)141,1,2,2-四氟乙基醚四氟乙基醚(HFE-254pc)15 电子特气总揽氟化物系列2编号编号品名品名用途用途需求需求备注备注1F2清洗清洗替代NF32HF刻蚀刻蚀/清洗清洗15COF2清洗清洗/刻蚀刻蚀替代替代NF34Si2F6成膜成膜5ClF3清洗清洗6ClF5清洗清洗7BF3参杂参杂8B11F3参杂参杂9PF3参杂参杂10PF5锂离子电池锂离子电池/参杂参杂11AsF3参杂参杂12AsF5参杂参杂13GeF4参杂参杂 电子特气总揽氟化物系列3编号编号品名品名用途用途需求需求备注备注

5、1MoF6CVD 2BrF3刻蚀刻蚀 3BrF5刻蚀刻蚀 4IF5前体前体 5SF4刻蚀刻蚀 6TiF4CVD 7TaF5CVD 8SbF5参杂参杂 9SeF6CVD 10TeF6CVD 11IrF6CVD 12OF2清洗清洗 13C2H3F制冷制冷14C3F6O清洗清洗电子特气总揽氟化物系列4编号编号品名品名用途用途需求需求备注备注1SiH4CVD2Si2H6CVD3Si3H8CVD4SiH3CH3CVD5SiH2(CH3)2CVD6SiH(CH3)3CVD7Si(CH3)4CVD8SiHF3CVD9SiH2Cl2CVD10SiHCl3Crystal Si/CVD11SiCl4Crystal

6、 Si/CVD/Fiber12Si2Cl6CVD131415电子特气总揽硅烷系列编号编号品名品名用途用途需求需求备注备注1B2H6参杂参杂2TMB参杂参杂3TEB参杂参杂4TBB参杂参杂5PH3参杂参杂6AsH3参杂参杂7SbH3参杂参杂8H2S参杂参杂9H2Se参杂参杂10H2Te参杂参杂11GeH4 参杂参杂12Ge2H6参杂参杂13GeH(CH3)3参杂参杂14Ge(CH3)4参杂参杂15SnH4 参杂参杂电子特气纵览电子特气纵览B/P/As/Ge/Se等烷类化合物等烷类化合物编号编号品名品名用途用途需求需求备注备注1Cl2刻蚀刻蚀2HCl外延外延3BCl3刻蚀刻蚀4HBr刻蚀刻蚀5HI

7、6NH3CVD7D2CVD8B2D6参杂参杂9B(CD3)3参杂参杂10GeD4参杂参杂11Ge2D6参杂参杂12 NOIC，MD，PV13NO214N2OIC，MD15SO2刻蚀刻蚀16COS刻蚀刻蚀电子特气纵览电子特气纵览其它气体其它气体编号编号品名品名用途用途需求需求备注备注1CH4CVD2C2H2CVD3C2H4CVD4C2H6CVD5C3H6CVD6C3H8CVD7n-C4H108iso-C4H109n-C4H810iso-C4H8111,3-C4H612C3H4(丙炔丙炔)医药医药13C2H2Cl2清洗清洗1415电子特气纵览电子特气纵览有机气体有机气体电子特气纵览电子特气纵览其它

8、气体其它气体编号编号品名品名用途用途需求需求备注备注1COIC/PV/TFT2CO2TFT/IC3COCl2医药医药/化工化工4C2N2医药医药/农药农药5BiH3参杂参杂6ClO3F医药医药7ClO28BBr3参杂参杂/刻蚀刻蚀9HCN10POCl3参杂参杂11POF3参杂参杂12131415编号编号品名品名用途用途需求需求备注备注1N22O23Ar4H25He6Ne7Ar8Kr9Xe10Rn1112131415电子特气纵览电子特气纵览高纯气体高纯气体/稀有气体稀有气体序号序号英文名稱英文名稱分子式分子式純度（純度（%）1 1TMGa (Trimethylgallium)TMGa (Trim

9、ethylgallium)Ga (CHGa (CH3 3) )3 3 99.999999.99992 2TMIn (Trimethylindium)TMIn (Trimethylindium)In (CHIn (CH3 3) )3 3 99.999999.99993 3TMAl (Trimethylaluminium)TMAl (Trimethylaluminium)Al (CHAl (CH3 3) )3 3 99.999999.99994 4TEGa (Triethylgallium)TEGa (Triethylgallium)Ga (CGa (C2 2H H5 5) )3 3 99.999

10、999.99995 5TEIn (Triethylindium)TEIn (Triethylindium)In (CIn (C2 2H H5 5) )3 3 99.999999.99996 6DEZn (Diethylzinc)DEZn (Diethylzinc)Zn (CZn (C2 2H H5 5) )2 2 99.999999.99997 7DMZn (Dimethylzinc)DMZn (Dimethylzinc)Zn (CHZn (CH3 3) )2 2 99.999999.99998 8Cp2Mg (Magnesocene)Cp2Mg (Magnesocene)Mg (CMg (C

11、5 5H H5 5) )2 2 99.999899.99989 9DMCd (Dimethylcadmium)DMCd (Dimethylcadmium)Cd (CHCd (CH3 3) )2 2 99.999899.99981010DETe (Diethyltelluride)DETe (Diethyltelluride)Te (CTe (C2 2H H5 5) )2 2 99.999899.99981111TMSb (Trimethylantimony)TMSb (Trimethylantimony)Sb (CHSb (CH3 3) )3 3 99.999599.99951212TEAl

12、(Triethylaluminium)TEAl (Triethylaluminium)Al (CAl (C2 2H H5 5) )3 3 99.99999.999131314141515电子特气纵览电子特气纵览MO源源3/11/2022应对45nm以下制程技术的材料创新Product NameState at room temperatureBoiling point CCAS No.ApplicationsZrN(C2H5)24(TDEAZ) Liquid79C/0.1Torr13801-49-5CVD High-kmaterialZrN(CH3)(C2H5)4(TEMAZ) Liquid6

13、5C/0.1Torr175923-04-3SiN(CH3)23H(3DMAS) Liquid33C/1Torr15112-89-7SiN(CH3)(C2H5)3H(3EMAS)Liquid25C/0.2Torr496864-53-0TiN(CH3)24(TDMAT) Liquid50 C/0.5Torr3275-24-9CVD TiN layer materialTiN(CH3)(C2H5)4(TEMAT)Liquid80C/0.1Torr308103-54-0TiN(C2H5)24(TDEAT) Liquid112C/0.1Torr4419-47-0Ge(CH3)3H(3MGE)Liquid

14、27C1449-63-4Implantation material SiGe materialGe(CH3)4(4MGE)Liquid44C865-52-1Organic Metallic CompoundsOther Precursors Product NameState at room temperatureBoiling point CPurityCAS No.ApplicationsHfN(CH3)24TDMAHSolid (melting point is 28C)40C/0.1Torr99.999%*（* Zr Excluding densityStandard Grade: Z

15、r100 wt.ppmHigh Pure Grade: Zr10 wt.ppmUltra High Pure Grade: Zr99.999%*（* Zr Excluding densityStandard Grade: Zr100 wt.ppmHigh Pure Grade: Zr10 wt.ppmUltra High Pure Grade: Zr1 wt.ppm）19782-68-4HfO2 ,HfAlON, HfSiON layer materialsHfN(CH3)(C2H5)4TEMAHLiquid62C/0.1Torr352535-01-4HfN(C2H5)24TDEAHLiqui

16、d84C/0.1Torr19824-55-6HfOt-(C4H9)4HTTB Liquid61C/1Torr2172-02-03CentraL Glass（中央硝子)相关产品Organic Metallic CompoundsOther Precursors Other PrecursorsOther PrecursorsProduct NameState at room temperatureBoiling point CCAS No.ApplicationsZrN(C2H5)24(TDEAZ) Liquid79C/0.1Torr13801-49-5CVD High-kmaterialZrN

17、(CH3)(C2H5)4(TEMAZ) Liquid65C/0.1Torr175923-04-3SiN(CH3)23H(3DMAS) Liquid33C/1Torr15112-89-7SiN(CH3)(C2H5)3H(3EMAS)Liquid25C/0.2Torr496864-53-0TiN(CH3)24(TDMAT) Liquid50 C/0.5Torr3275-24-9CVD TiN layer materialTiN(CH3)(C2H5)4(TEMAT)Liquid80C/0.1Torr308103-54-0TiN(C2H5)24(TDEAT) Liquid112C/0.1Torr441

18、9-47-0Ge(CH3)3H(3MGE)Liquid27C1449-63-4Implantation material SiGe materialGe(CH3)4(4MGE)Liquid44C865-52-1Protective gas composition for magnesium & magnesium alloy production含氟有机化合物：含氟有机化合物：1，1，1，3，3-五氟丙烷五氟丙烷(HFC-245fa)1，3，3，3-四氟丙烯四氟丙烯(OHFC-1234ze)1，1，2，2-四氟乙基醚四氟乙基醚(HFE-254pc)以及它们的混合物以及它们的混合物 替代替代SF

19、6,减少温室气体排放减少温室气体排放CentraL Glass（中央硝子（中央硝子)相关产品相关产品3/11/2022值得关注的气体动向氟化物系列 C4F6， C3F6，BrF3，ClF3，PF5，XeF2，COF2，B11F3，SiF4硅系列 SiH4，Si2H6，Si2Cl6B/P/As/Ge/Se系列 B2H6，TMB（三甲基硼），PH3，AsH3，GeH4，B11F3，H2Se其它气体 NO，COS，C3H8，n-C4H10，i-C4H10，CO，Cl2高K的金属有机化合物 TMA, TDEAA, HTB, TDEAH, TEMAH, TAETO, Star-Ti, Yttrium,

20、TEMAZ, ZyALD, Hexane , Octane, Pyridine 3/11/2022绿菱电子材料（天津）有限公司简介3/11/2022绿菱电子材料（天津）有限公司绿菱电子材料（天津）有限公司1绿菱电子天津工厂紧急集合点紧急集合点一期用地消防泵房| |消防通道消防通道消防通道消防通道消防通道正门正门侧门侧门事故水池消防水池紧急集合点紧急集合点易燃易爆车间有毒有害车间惰性气体车间天津武清天津武清工厂布局工厂布局办公区 生活区精馏塔分析室精馏塔洁净车间原料库成品库配电室门卫室接待室发电房二期用地二期用地天津武清天津武清工厂实景工厂实景3/11/2022绿菱电子天津工厂1绿菱电子天津工厂

21、绿菱电子天津工厂3/11/2022天津工厂现有生产天津工厂现有生产/提纯提纯/分装产品分装产品序号序号产品产品规格规格生产生产/ /纯化纯化1 1CF4CF45N5N提纯提纯2 2CF4/O2CF4/O2订制订制提纯提纯/ /混合混合3 3SF6SF65N5N提纯提纯4 4C4F8C4F83 35N5N提纯提纯5 5CH2F2CH2F25N5N提纯提纯6 6CHF3CHF33 35N5N提纯提纯7 7CH4 CH4 3N3N5N5N提纯提纯8 8C3H8 C3H8 3N3N5N5N提纯提纯9 9R125R1255N5N提纯提纯1010F2/N2 F2/N2 混和气混和气F2 1.8NF2 1.

22、8N合作生产合作生产1111COSCOS3 3N N4 4N N生产生产/ /提纯提纯1212COCO3 34.4.8 8N N生产生产/ /提纯提纯1313SiH4SiH4及其混和气及其混和气6N6N，5 520%20%进口分装进口分装/ /混合混合/AP,OCIM/AP,OCIM1414NH3NH35N5N6N6N进口分装进口分装1515HClHCl5N5N进口分装进口分装16 16 N2 N25N5N充装充装3/11/2022序号序号产品产品规格规格生产商生产商1 1HClHCl3N3N合作定制合作定制2 2H2SH2S4.5N4.5N合作定制合作定制3 3H2SeH2Se4 44.5N4.5N合作定制合作定制4 4Cl2Cl25N5N合作定制合作定制5 5ArAr