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文档简介

1、目录紫外臭氧清洗机1 紫外淸洗发展历史2. 紫外臭氧清洗的优势3. 紫外臭氧清洗原理4. 紫外臭氧淸洗匚艺紫外清洗发展历史紫外光表ifii清洗技术在国际上是随着光电子信 息产业的发展而提出来的。七十年代中期美国 军出电子技术和器件实验室应用紫外光照射消 洗石英晶片取得满意的效果。九I年代初，H 本和美国先后将UV光清洗机应用于民用光电 子产品的工业生产过程，并开始向我国个别外 资LCD企业在要求技术保密的情况下提供UV 光清洗机。电燈啊碟鈿斶锻綸騒严洱样._錚叢鋼淞飜躲帚有助于部件和表面的 瞬觀荷隸氣触瓣曙解蠶匍胡嚮过程中保持紫外清洗发展历史随后，LI本在发展紫外光衣血消洗技术的同时，紫外 光

2、表面改质技术也得到了发展。在二十世纪末，日木 等先进工业国家紫外光农面消洗和改质技术山信息产 业逐步扩展到金属、塑料、橡胶等匸业牛产过程。二 十吐纪九十年代后期，我国的信息技术和产业以惊人 的速度E速发展，特别是平板显示技术的高速发展， LCD显示屏由TN级向STN和TFT不断捉升，新型的 OLED显示产品也开始进入市场。由此，对制爸I：艺 过程农而质量要求越來越严格，紫外光表而淸洗技术 的优越性已经得到广泛认可，UV光清洗机的需求吊止 在不断增长。紫外臭氧清洗的优势MYCRO PSD系列紫外臭氧清洗机常用丁 扌弓描探测显微镜的样品丿2用.该设备能用片帯先原子力显微 镜探针,打描探针显微镜标准

3、和衣面上常规的油渍层和残留的无 机材料，也能'紫外臭氧清洗效果图紫外臭氧清洗原理原理：通过产生185nm利254nm高强度UV光分解尙 机分子（污染物）o 185nm波长紫外光的光能量能将 宇气中的氧气（02）分解成臭氧（03）,而254nm 波长的紫外光的光能量能将03分解成02和活性氧（0） o在连续进行的光敏氧化反应中，生成的活性 氣原子与活化了的有机物（即碳氢化合物）分子发生 氧化反应,生成挥发性气体（如CO2, CO, H2O, NO等）逸出物体表面，从而彻底清除粘附在物体表面 上的有机污染物，达到清洗的H的。紫外光衣而改质低爪報外汞灯发射的185nm和254nm波长的紫外光

4、除仃诂洗左除物騎测附躅邵隨孙劇縄跚疏般恫 6匚$!巴（头黑幅瑚嫦#厲, °1卜计lL'f戕除胡舊紹烏果 显淸,活化的購体农面具有良好的粘合力籾键合待性,这飞斤棊和涂料、 幫鉀辭威籲鵜诫勢敷鑫胡醯鱸魏蠶通'打齐鬲衿芋虻匸如* CMo4-o紫外光表而改质原理表达式:丁Fb CHO. COCH 萼f umhf »» *« ri» r njoirmE：为紧外线比了能以紫外臭氧清洗工艺用于纳米技术，化学，牛物学，光学，电子学, 半导体和实验室。样品材料:硅氧化硅 金属側化傢氮化硅云母 陶瓷聚合物（有机玻璃）硼硅玻璃石英蓝宝 石其他材料紫外臭氧清洗工艺典型应用包括：衣面

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